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Volumn 89, Issue 4, 2001, Pages 2146-2150

Formation of epitaxial CoSi2 by a Cr or Mo interlayer: Comparison with a Ti interlayer

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EID: 0000901205     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1340598     Document Type: Review
Times cited : (33)

References (18)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.