Dose and energy uniformity over inner surface in plasma immersion ion implantation

Journal of Applied Physics

Volumn 84, Issue 4, 1998, Pages 1859-1862

  Liu, A G ^a,b   Wang, X F ^a,b   Tang, B Y ^a   Chu, P K ^a  

^a CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

^b HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000850708     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368344     Document Type: Article

References (12)

1. J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran, J. Appl. Phys. 62, 4591 (1987).
2. T. E. Sheridan, J. Appl. Phys. 74, 4903 (1993).
3. T. E. Sheridan, J. Phys. D 29, 2733 (1996).
4. T. E. Sheridan, Phys. Plasmas 1, 3485 (1994).
5. M. Sun, S. Yang, and B. Li, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 367 (1996).
6. M. Sun and S. Yang, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3071 (1996).
7. X. Zeng, B. Tang, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 69, 3815 (1996).
8. X. C. Zeng, T. K. Kwok, A. G. Liu, P. K. Chu, B. Y. Tang, and T. E. Sheridan, Appl. Phys. Lett. 71, 1035 (1997).
9. X. C. Zeng, T. K. Kwok, A. G. Liu, P. K. Chu, and B. Y. Tang, J. Appl. Phys. 83, 1 (1998).
10. S. M. Malik, R. P. Fetherston, and J. R. Conrad, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 2875 (1997).
11. P. K. Chu, B. Y. Tang, Y. C. Cheng, and P. K. Ko, Rev. Sci. Instrum. 68, 1866 (1997).
12. S. Y. Wang, P. K. Chu, B. Y. Tang, X. C. Zeng, Y. B. Chen, and X. F. Wang, Surf. Coat. Technol. 93, 309 (1997).