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Volumn 89, Issue 2, 2001, Pages 980-987

Studies of boron diffusivity in strained Si1 - xGex epitaxial layers

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EID: 0000476732     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1332803     Document Type: Article
Times cited : (40)

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    • Avant! Corporation
    • Taurus process/device. Avant! Corporation, 1998.
    • (1998) Taurus Process/Device


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.