Activation field and fatigue of (Pb, La)(Zr, Ti)O3 thin films

Applied Physics Letters

Volumn 75, Issue 26, 1999, Pages 4186-4188

  Chen, I Wei ^a   Wang, Y ^a  

^a UNIVERSITY OF PENNSYLVANIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000152750     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.125577     Document Type: Article

References (30)

1. O. Auchiello, J. F. Scott, and R. Ramesh, Phys. Today 51, 22 (1998).
2. J. F. Scott and C. A. Paz de Araujo, Science 246, 1400 (1989).
3. H. M. Duiker, P. D. Beale, J. F. Scott, C. A. Pax de Araujo, B. M. Melnick, J. D. Cuchiaro, and L. D. McMillan, J. Appl. Phys. 68, 5783 (1990).
4. I. K. Yoo and S. B. Desu, Phys. Status Solidi A 133, 563 (1992).
5. J. Lee, S. Esayan, A. Safari, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 65, 254 (1994).
6. W. L. Wareen, D. Dimos, B. A. Tuttle, R. D. Nasby, and G. E. Pike, Appl. Phys. Lett. 65, 1018 (1994).
7. C. J. Brennan, R. D. Parrella, and D. E. Larsen, Ferroelectrics 151, 33 (1994).
8. A. L. Kholkin, E. L. Colla, A. K. Tagantsev, D. V. Taylor, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 68, 2577 (1996).
9. H. N. Al-Shareef, D. Dimos, T. J. Boyle, W. L. Warren, and B. A. Tuttle, Appl. Phys. Lett. 68, 690 (1996).
10. X. F. Du and I-W. Chen, Appl. Phys. Lett. 72, 1923 (1998).
11. X. F. Du and I-W. Chen, J. Appl. Phys. 83, 7789 (1998).
12. E. L. Colla, D. V. Taylor, A. K. Tagantsev, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 72, 2478 (1998).
13. H. B. Sharma, H. N. K. Sarma, and A. Mansingh, J. Appl. Phys. 85, 341 (1999).
14. E. L. Colla, S. Hong, D. V. Taylor, A. K. Tagantsev, N. Setter, and K. No, Appl. Phys. Lett. 72, 2763 (1998).
15. C. Laird, in Physical Metallurgy, edited by R. W. Cahn and P. Haasen. p. 2292 (Elsevier Science, New York, 1996).
16. K. Amanuma, T. Hase, and Y. Miyasaka, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 5211 (1994).
17. E. L. Colla, A. L. Kholkin, D. V. Taylor, A. K. Tagantsev, K. G. Brooks, and N. Setter, Microelectron. Eng. 29, 145 (1995).
18. S. Y. Chen and I-W. Chen, J. Am. Ceram. Soc. 77, 2337 (1994).
19. K. Iijima, I. Ueda, and K. Kugimiya, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 30, 2149 (1991).
20. X. F. Du and I-W. Chen, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 493, 311 (1997).
21. W. J. Merz, Phys. Rev. 95, 690 (1954).
22. R. Landauer, D. R. Young, and M. E. Drougard, J. Appl. Phys. 27, 752 (1956).
23. T. K. Song, S. Aggarwal, A. S. Prakash, B. Yang, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 71, 2211 (1997).
24. T. K. Song, S. Aggarwal, Y. Gallais, B. Nagaraj, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 73, 3366 (1998).
25. U. F. Kocks, A. S. Argon, and M. F. Ashby, Prog. Mater. Sci. 19, 1 (1975).
26. R. C. Miller and G. Weinreich, Phys. Rev. 117, 1460 (1960).
27. M. Hayashi, J. Phys. Soc. Jpn. 33, 616 (1972).
28. R. H. French, H. Müllejans, and D. J. Jones, J. Am. Ceram. Soc. 81, 2549 (1998).
29. I. Stolichnov, A. Tagantsev, N. Setter, J. S. Cross, and M. Tsukada, Appl. Phys. Lett. 74, 3552 (1999).
30. I-W. Chen and Y. Wang, Ferroelectrics 206-207, 245 (1998).