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Volumn 56, Issue , 2006, Pages D1-D8

High density ECR plasmas for the production of intense highly charged ion beams

Author keywords

Ion sources; Microwaves; Plasmas

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EID: 85016096994     PISSN: 00114626     EISSN: 15729486     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
Times cited : (2)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.