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Volumn 675, Issue , 2001, Pages W10.3.1-W10.3.6

Incorporation of hydrogen and oxygen into (t)a-C:H thin films deposited using DECR plasma

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EID: 85010711319     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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References (13)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.