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Volumn 101, Issue 1, 1987, Pages 151-157

Palladium silicide formation on amorphous silicon by thermal annealing

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EID: 84990666099     PISSN: 00318965     EISSN: 1521396X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.2211010117     Document Type: Article
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References (14)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.