Copper vapor-assisted growth of hexagonal graphene domains on silica islands

Applied Physics Letters

Volumn 109, Issue 2, 2016, Pages

  Li, Jun ^a,b   Shen, Chengmin ^a   Que, Yande ^a,b   Tian, Yuan ^a   Jiang, Lili ^a,b   Bao, Deliang ^b   Wang, Yeliang ^a   Du, Shixuan ^a   Gao, Hong Jun ^a  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

^b UNIVERSITY OF CHINESE ACADEMY OF SCIENCES   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; COPPER; GRAPHENE; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SILICA;

COPPER VAPOR; DENDRITIC STRUCTURES; HIGH TEMPERATURE; POLYCRYSTALLINE COPPER; SINGLE LAYER;

X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

EID: 84978517861     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4958872     Document Type: Article

References (34)

1. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, Science 306, 666 (2004). 10.1126/science.1102896
2. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, M. I. Katsnelson, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, Nature 438, 197 (2005). 10.1038/nature04233
3. Y. B. Zhang, Y. W. Tan, H. L. Stormer, and P. Kim, Nature 438, 201 (2005). 10.1038/nature04235
4. X. Du, I. Skachko, F. Duerr, A. Luican, and E. Y. Andrei, Nature 462, 192 (2009). 10.1038/nature08522
5. D. C. Wei and Y. Q. Liu, Adv. Mater. 22, 3225 (2010). 10.1002/adma.200904144
6. Y. F. Hao, M. S. Bharathi, L. Wang, Y. Y. Liu, H. Chen, S. Nie, X. H. Wang, H. Chou, C. Tan, B. Fallahazad, H. Ramanarayan, C. W. Magnuson, E. Tutuc, B. I. Yakobson, K. F. McCarty, Y.-W. Zhang, P. Kim, J. Hone, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 342, 720 (2013). 10.1126/science.1243879
7. D. Li, M. B. Muller, S. Gilje, R. B. Kaner, and G. G. Wallace, Nat. Nanotechnol. 3, 101 (2008). 10.1038/nnano.2007.451
8. S. Shivaraman, R. A. Barton, X. Yu, J. Alden, L. Herman, M. V. S. Chandrashekhar, J. Park, P. L. McEuen, J. M. Parpia, H. G. Craighead, and M. G. Spencer, Nano Lett. 9, 3100 (2009). 10.1021/nl900479g
9. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J.-H. Ahn, P. Kim, J.-Y. Choi, and B. H. Hong, Nature 457, 706 (2009). 10.1038/nature07719
10. A. Ismach, C. Druzgalski, S. Penwell, A. Schwartzberg, M. Zheng, A. Javey, J. Bokor, and Y. Zhang, Nano Lett. 10, 1542 (2010). 10.1021/nl9037714
11. D. Wei and X. Xu, Appl. Phys. Lett. 100, 023110 (2012). 10.1063/1.3675636
12. H. Kim, I. Song, C. Park, M. Son, M. Hong, Y. Kim, J. S. Kim, H.-J. Shin, J. Baik, and H. C. Choi, ACS Nano 7, 6575 (2013). 10.1021/nn402847w
13. J. Y. Chen, Y. L. Guo, L. L. Jiang, Z. P. Xu, L. P. Huang, Y. Z. Xue, D. C. Geng, B. Wu, W. P. Hu, G. Yu, and Y. Q. Liu, Adv. Mater. 26, 1348 (2014). 10.1002/adma.201304872
14. M. E. Cowher and T. O. Sedgwick, J. Electrochem. Soc. 119, 1565 (1972). 10.1149/1.2404043
15. J. Arbiol, B. Kalache, P. R. Cabarrocas, J. R. Morante, and A. F. Morral, Nanotechnology 18, 305606 (2007). 10.1088/0957-4484/18/30/305606
16. M. Rebhan, R. Meier, A. Plagge, M. Rohwerder, and M. Stratmann, Appl. Surf. Sci. 178, 194 (2001). 10.1016/S0169-4332(01)00323-3
17. X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 324, 1312 (2009). 10.1126/science.1171245
18. F. Yang, Y. Q. Liu, W. Wu, W. Chen, L. Gao, and J. Sun, Nanotechnology 23, 475705 (2012). 10.1088/0957-4484/23/47/475705
19. P. Egberts, G. H. Han, X. Z. Liu, A. T. C. Johnson, and R. W. Carpick, ACS Nano 8, 5010 (2014). 10.1021/nn501085g
20. Z. H. Ni, Y. Y. Wang, T. Yu, and Z. X. Shen, Nano Res. 1, 273 (2008). 10.1007/s12274-008-8036-1
21. J. Li, J. T. Chen, B. M. Luo, X. B. Yan, and Q. J. Xue, AIP Adv. 2, 022101 (2012). 10.1063/1.3702588
22. Y. F. Hao, Y. Y. Wang, L. Wang, Z. H. Ni, Z. Q. Wang, R. Wang, C. K. Koo, Z. X. Shen, and J. T. L. Thong, Small 6, 195 (2010). 10.1002/smll.200901173
23. X. Wang, X. Li, L. Zhang, Y. Yoon, P. K. Weber, H. Wang, J. Guo, and H. Dai, Science 324, 768 (2009). 10.1126/science.1170335
24. A. C. Ferrari, J. C. Meyer, V. Scardaci, C. Casiraghi, M. Lazzeri, F. Mauri, S. Piscanec, D. Jiang, K. S. Novoselov, S. Roth, and A. K. Geim, Phys. Rev. Lett. 97, 187401 (2006). 10.1103/PhysRevLett.97.187401
25. S. A. Han, I. S. Choi, H. S. An, H. S. Lee, H. D. Yong, S. W. Lee, J. W. Jung, N. S. Lee, and Y. H. Seo, J. Nanosci. Nanotechnol. 11, 5949 (2011) 10.1166/jnn.2011.4434.
26. Y. Z. Cui, J. Li, J. Xu, B. Liu, H. Yang, Y. X. Zhang, and C. M. Shen, Chin. J. Vacuum Sci. Technol. 34, 876 (2014) 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.08.19.
27. D. S. Lee, C. Riedl, B. Krauss, K. V. Klitzing, U. Starke, and J. H. Smet, Nano Lett. 8, 4320 (2008). 10.1021/nl802156w
28. D. Yang, A. Velamakanni, G. Bozoklu, S. Park, M. Stoller, R. D. Piner, S. Stankovich, I. Jung, D. A. Field, C. A. Ventrice et al., Carbon 47, 145 (2009). 10.1016/j.carbon.2008.09.045
29. G. Jo, M. Choe, C.-Y. Cho, J. H. Kim, W. Park, S. Lee, W.-K. Hong, T.-W. Kim, S.-J. Park, B. H. Hong, Y. H. Kahng, and T. Lee, Nanotechnology 21, 175201 (2010). 10.1088/0957-4484/21/17/175201
30. Y. Wang, Y. Y. Shao, D. W. Matson, J. H. Li, and Y. H. Lin, ACS Nano 4, 1790 (2010). 10.1021/nn100315s
31. A. Sikou, F. Ravani, S. Karakalos, O. Frank, M. Kalbac, and C. Galiotis, Appl. Surf. Sci. 257, 9785 (2011). 10.1016/j.apsusc.2011.06.017
32. W. Zhang, S. Zhang, Y. Liu, and T. Chen, J. Cryst. Growth 311, 1296 (2009). 10.1016/j.jcrysgro.2008.12.038
33. Z. H. Lu, J. P. McCaffrey, B. Brar, G. D. Wilk, R. M. Wallace, L. C. Feldman, and S. P. Tay, Appl. Phys. Lett. 71, 2764 (1997). 10.1063/1.120438
34. P.-Y. Teng, C.-C. Lu, K. Akiyama-Hasegawa, Y.-C. Lin, C.-H. Yeh, K. Suenga, and P.-W. Chiu, Nano Lett. 12, 1379 (2012). 10.1021/nl204024k