Low energy BCl3 plasma doping of few-layer graphene

Science of Advanced Materials

Volumn 8, Issue 4, 2016, Pages 884-890

  Pham, Viet Phuong ^a   Kim, Doo San ^b   Kim, Ki Seok ^b   Park, Jin Woo ^b   Yang, Kyung Chae ^b   Lee, Se Han ^a   Yeom, Geun Young ^a,b   Kim, Kyong Nam ^b  

^a Sungkyunkwan University   (South Korea)

^b Sungkyunkwan University   (South Korea)

Author keywords

BCl3; Low damage; Multilayer graphene; Plasma doping; Trapped doping

Indexed keywords

EID: 84959922742     PISSN: 19472935     EISSN: 19472943     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/sam.2016.2549     Document Type: Article

References (31)

1. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, Science 306, 666 (2004).
2. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, M. I. Katsnelson, I. V. Grigorieva, S. V. Dubonos, and A. A. Firsov, Nature 438, 197 (2005).
3. C. R. Dean, A. F. Young, C. Lee, L. Wang, S. Sorgenfrei, K. Watanabe, T. Taniguchi, P. Kim, K. L. Shepard, and J. Hone, Nature Nanotech. 5, 722 (2010).
4. F. Wang, Y. B. Zhang, C. Tian, C. Girit, A. Zettl, M. Crommie, and Y. R. Shen, Science 320, 206 (2008).
5. J. H. Park, W. Jung, D. Cho, J. T. Seo, Y. Moon, S. H. Woo, C. Lee, and C. Y. Park, Appl. Phys. Lett. 103, 171609 (2013).
6. A. K. Geim, Science 324, 1530 (2009).
7. A. K Geim and K. S. Novoselov, Nat. Mater. 6, 183 (2007).
8. D. Langley, G. Giusti, C. Mayousse, C. Celle, D. Bellet, and J. P. Simonato, Nanotechnology 24, 452001 (2013).
9. S. K. Bae, H. K. Kim, Y. B. Lee, X. F. Yu, J. S. Park, Y. Zheng, J. Balakrishnan, T. Lei, H. R. Kim, Y. I. Song, Y. J. Kim, K. S. Kim, B. Ozyilmaz, J. H. Ahn, B. H. Hong, and S. Iijima, Nature Nanotech. 5, 574 (2010).
10. C. Mattevi, H. W. Kim, and M. Chhowalla, J. Mater. Chem. 21, 3324 (2011).
11. F. Gunes, H. J. Shin, C. Biswas, G. H. Han, E. S. Kim, S. J. Chae, J. Y. Choi, and Y. H. Lee, ACS Nano 4, 4595 (2010).
12. J. Zheng, H. T. Liu, B. Wu, C. A. Di, Y. L. Guo, T. Wu, G. Yu, Y. Q. Liu, and D. B. Zhu, Scientific Report 2, 662 (2012).
13. U. N. Maiti, W. J. Lee, J. M. Lee, Y. T. Oh, J. Y. Kim, J. E. Kim, J. W. Shim, T. H. Han, and S. O. Kim, Adv. Mater. 26, 40 (2014).
14. D. S. Hecht, L. B. Hu, and G. Irvin, Adv. Mater. 23, 1482 (2011).
15. X. Huang, C. L. Tan, Z. Yin, and H. Zhang, Adv. Mater. 26, 2185 (2014).
16. M. Wang, S. K. Jang, W. J. Jang, M. W. Kim, S. Y. Park, S. W. Kim, S. J. Kahng, J. Y. Choi, R. S. Rouff, Y. J. Song, and S. J. Lee, Adv. Mater. 25, 2746 (2013).
17. H. Liu, Y. Liu, and D. Zhu, J. Mater. Chem. 21, 3335 (2011).
18. X. Zhang, A. Hsu, H. Wang, Y. Song, J. Kong, M. S. Dresselhaus, and T. Palacios, ACS Nano 7, 7262 (2013).
19. J. Wu, L. Xie, Y. G. Li, H. L. Wang, Y. Ouyang, J. Guo, and H. Dai, J. Am. Chem. Soc. 13, 19668 (2011).
20. B. Li, L. Zhou, D. Wu, H. Peng, K. Yan, and Z. F. Liu, ACS Nano 5, 5957 (2011).
21. Y. Wang, C. Di, Y. Liu, H. Kajiura, S. Ye, L. Cao, D. Wei, H. Zhang, Y. Li, and K. Noda, Adv. Mater. 20, 4442 (2008).
22. Q. B. Zheng, M. M. Gudarzi, S. J. Wang, Y. Geng, Z. Li, and J. K. Kim, Carbon 49, 2905 (2011).
23. P. Barpanda, G. Fanchini, and G. G. Amatucci, Carbon 49, 2538 (2011).
24. Q. Zheng, W. H. Ip, X. Lin, N. Yousefi, K. K. Yeung, Z. Li, and J. K. Kim, ACS Nano 7, 6039 (2011).
25. Q. Zheng, Z. Li, J. Yang, and J. K. Kim, Prog. Mater. Sci. 64, 200 (2014).
26. V. P. Pham, K. N. Kim, M. H. Jeon, K. S. Kim, and G. Y. Yeom, Nanoscale 6, 15301 (2014).
27. H. Wang, Y. Zhou, D. Wu, L. Liao, S. Zhao, H. Peng, and Z. Liu, Small 9, 1316 (2013).
28. Z. S. Wu, W. Ren, L. Xu, F. Li, and H. M. Cheng, ACS Nano 5, 5463 (2011).
29. T. Lin, F. Huang, J. Liang, and Y. Wang, Energy Environ. Sci. 4, 862 (2011).
30. T. Wu, H. Shen, L. Sun, B. Cheng, B. Liu, and J. Shen, New J. Chem. 36, 1385 (2012).
31. Z. H. Sheng, H. L. Gao, W. J. Bao, F. B. Wang, and X. H. Xia, J. Mater. Chem. 22, 390 (2012).