The exposure-defocus forest

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 33, Issue 12S, 1994, Pages 675-674

  Lin, Burn J ^a  

^a Linnovation Inc   (United States)

Author keywords

Depth of focus; E D tree; Exposure latitude; Lithography; Lithography metrology; Offaxis illumination; Optical proximity effect; Phase shifting masks; Resist processing

Indexed keywords

EID: 84957321946     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.33.6756     Document Type: Review

References (52)

1. B. J. Lin 1980 1980 IEEE Trans. Electron Devices ED-27 931
2. B. J. Lin: Fine Line Lithography ed. R. Newman (North-Holland, Amsterdam) 1st ed. Vol. 1, Chap. 2, p. 166
3. A. C. Liu and B. J. Lin 1983 IEEE Trans. Electron DevicesED-30 1251
4. A. E. Rosenbluth, D. Goodman and B. J. Lin 1983 J. Vac. Sci. Technol. B1 1190
5. W. H. Arnold and H. J. Levinson 1987 SPIE Proc.772 21.
6. A. C. Stephanakis and D. T. Rubin 1987 SPIE Proc.772 74.
7. S. Chandra and F. Y. Wu 1987 SPIE Proc.772 86.
8. C. P. Ausschnitt and S. Cheng, M. Lutz 1987 SPIE Proc.772 93.
9. C. A. Mack 1987 SPIE Proc.772 135.
10. W. L. Stevenson 1988 SPIE Proc.921 153.
11. R. M. Lazarus, K. C. Peterson, K. A. Fischbach and L. D. H. Christensen 1988 SPIE Proc.921 285.
12. B. J. Lin 1989 SPIE Proc.1087 72.
13. P. Schoenborn and N. F. Pasch 1989 SPIE Proc.1087 291.
14. K. L. Bell and L. D. H. Christensen 1989 SPIE Proc.1087 299.
15. B. J. Lin 1989 SPIE Proc.1088 106.
16. C. P. Ausschnitt 1989 SPIE Proc.1088 115.
17. H. Ohtsuka, K. Abe, Y. Itoh and T. Taguchi 1989 SPIE Proc.1088 124.
18. C. A. Mack, P. M. Kaufman 1989 SPIE Proc.1088 305.
19. M. Dusa, D. Nicolau 1989 SPIE Proc.1088 355.
20. J. S. Petersen 1989 SPIE Proc.1088 540.
21. B. J. Lin 1990 Microelectron. Eng.11 137.1-4
22. B. J. Lin 1990 SPIE Proc.1263 80.
23. B. J. Lin 1990 SPIE Proc.1264 2.
24. H. Ohtsuka, K. Abe and T. Taguchi 1990 SPIE Proc.1264 379.
25. W. H. Arnold, A. Minvielle, K. Phan, B. Singh and M. Templeton 1990 SPIE Proc.1264 127.
26. J. Z. Y. Guo, G. Chen, V. White, P. Anderson and F. Cerrina 1990 J. Vac. Sci. Technol. B8 1551
27. B. J. Lin 1990 J. Vac. Sci. Technol. B8 1559.
28. B. J. Lin 1990 SPIE BACUS Proc.1496 54.
29. B. J. Lin 1991 SPIE Proc.1463 42.
30. B. J. Lin Solid State Technol. (1992) Jan. 43.
31. A. D. Katnani and B. J. Lin 1992 SPIE Proc.1674 264.
32. C. A. Mack 1992 SPIE Proc.1674 272.
33. C. A. Spence, D. C. Cole and B. B. Peck 1992 SPIE Proc.1674 285.
34. C. A. Mack and J. E. Connors 1992 SPIE Proc.1674 328.
35. M. Gehm, P. Jaenen, V. V. Dreissche, A. M. Goethals, N. Samarakone, L. Van den hove and B. Denturck 1992 SPIE Proc.1674 681.
36. B. J. Lin 1992 Microelectron. Eng.17 79.1-4
37. F. Cerrina, J. Z. Y. Guo, S. Turner, L. Ocola, M. Khan and P. Anderson 1992 Microelectron. Eng.17 135.1-4
38. B. J. Lin 1993 SPIE Proc.1927 89.
39. G. Flores, W. Flack and L. Dwyer 1993 SPIE Proc.1927 899.
40. D. M. Newmark, J. Garofalo and S. Vaidya 1993 SPIE Proc.1927 63.
41. C. A. Mack 1993 SPIE Proc.1927 125.
42. R. R. Kunz, M. A. Hartney, R. W. Otten Jr, E. Barouch and U. Hollerback 1993 SPIE Proc.1927 464.
43. Y. H. Oh, B. S. Park, H. B. Chung, S. S. Choi, S. H. Choi, H. J. Yoo and S. C. Park 1994 SPIE Proc.2197 9, 1994.
44. K. Tounai, S. Hashimoto, S. Shiraki and K. Kasanna 1994 SPIE Proc.2197 31.
45. H. E. Kim, Y. S. Kim, C. S. Lee, Y. M. Ham, D. J. Ann and S. H. Choi 1994 SPIE Proc.2197 54.
46. K. Ronse, R. Pforr, K. H. Baik, R. Jonckheere and L. Van den hove 1994 SPIE Proc.2197 86.
47. M. Sugawara, H. Kawahira, K. Tsudaka, A. Ogura, S. Nozawa, F. Uesawa and H. Shimizu 1994 SPIE Proc.2197 211.
48. Y. M. Ham, Y. S. Kim. I. B. Hur, K. Y. Park, H. E. Kim, D. J. Ann and S. H. Choi 1994 SPIE Proc.2197 243.
49. Z. Cui, B. Martin, P. D. Prewett, S. Johnson and P. Herman 1994 SPIE Proc.2197 253.
50. J. Bischoff, W. Henke, J. V. D. Werf and P. Dirksen 1994 SPIE Proc.2197 953.
51. A. K. Pfau, R. Hsu and W. G. Oldham 1992 SPIE Proc.1674 182.
52. K. K. K. Toh 1988 M. S. Thesis, U. C. Berkeley.