Gravure printing of hybrid MoS2@S-rGO interdigitated electrodes for flexible microsupercapacitors

Applied Physics Letters

Volumn 107, Issue 1, 2015, Pages

  Xiao, Yuxiu ^a   Huang, Lei ^a   Zhang, Qi ^a   Xu, Shuhua ^a   Chen, Qi ^a   Shi, Wangzhou ^a  

^a SHANGHAI NORMAL UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTROLYTES; GRAPHENE; GRAPHIC METHODS; LAYERED SEMICONDUCTORS; MICROELECTRODES; MOLYBDENUM COMPOUNDS; OFFSET PRINTING;

ACTIVE SURFACE AREA; FLEXIBLE DEVICE APPLICATIONS; FLEXIBLE POLYIMIDE SUBSTRATE; GRAVURE PRINTING; HIGH SPECIFIC CAPACITANCES; INTER-DIGITATED ELECTRODES; MICRO SUPERCAPACITORS; REDUCED GRAPHENE OXIDES;

SULFUR COMPOUNDS;

EID: 84936971913     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4926570     Document Type: Article

References (36)

1. T. Chen and L. M. Dai, J. Mater. Chem. A 2, 10756 (2014). 10.1039/c4ta00567h
2. G. P. Xiong, C. Z. Meng, R. G. Reifenberger, P. P. Irazoqui, and T. S. Fisher, Electroanalysis 26, 30 (2014). 10.1002/elan.201300238
3. Y. Wang, Y. M. Shi, C. X. Zhao, J. I. Wong, X. W. Sun, and H. Y. Yang, Nanotechnology 25, 094010 (2014). 10.1088/0957-4484/25/9/094010
4. Z. Q. Niu, L. Zhang, L. L. Liu, B. W. Zhu, H. B. Dong, and X. D. Chen, Adv. Mater. 25, 4035 (2013). 10.1002/adma.201301332
5. C. Kim and K. S. Yang, Appl. Phys. Lett. 83, 1216 (2003). 10.1063/1.1599963
6. A. P. Yu, I. Roes, A. Davies, and Z. W. Chen, Appl. Phys. Lett. 96, 253105 (2010). 10.1063/1.3455879
7. Z. S. Wu, K. Parvez, X. L. Feng, and K. Müllen, J. Mater. Chem. A 2, 8288 (2014). 10.1039/c4ta00958d
8. P. H. Huang, M. Heon, D. Pech, M. Brunet, P. L. Taberna, Y. Gogotsi, S. Lofland, J. D. Hettinger, and P. Simon, J. Power Sources 225, 240 (2013). 10.1016/j.jpowsour.2012.10.020
9. D. Pech, M. Brunet, H. Durou, P. H. Huang, V. Mochalin, Y. Gogotsi, P. L. Taberna, and P. Simon, Nat. Nanotechnol. 5, 651 (2010). 10.1038/nnano.2010.162
10. Z. S. Wu, K. Parvez, X. L. Feng, and K. Müllen, Nat. Commun. 4, 2487 (2013). 10.1038/ncomms3487
11. G. L. Guo, L. Huang, Q. H. Chang, L. C. Ji, Y. Liu, Y. Q. Xie, W. Z. Shi, and N. Q. Jia, Appl. Phys. Lett. 99, 083111 (2011). 10.1063/1.3629789
12. K. Zhang, L. Mao, L. L. Zhang, H. S. O. Chan, X. S. Zhao, and J. S. Wu, J. Mater. Chem. 21, 7302 (2011). 10.1039/c1jm00007a
13. M. Beidaghi and C. L. Wang, Adv. Funct. Mater. 22, 4501 (2012). 10.1002/adfm.201201292
14. M. F. El-Kady, V. Strong, S. Dubin, and R. B. Kaner, Science 335, 1326 (2012). 10.1126/science.1216744
15. Z. Y. Lin, Y. Liu, Y. G. Yao, O. J. Hildreth, Z. Li, K. Moon, and C. P. Wong, J. Phys. Chem. C 115, 7120 (2011). 10.1021/jp2007073
16. J. J. Yoo, K. Balakrishnan, J. S. Huang, V. Meunier, B. G. Sumpter, A. Srivastava, M. Conway, A. L. M. Reddy, J. Yu, R. Vajtai, and P. M. Ajayan, Nano Lett. 11, 1423 (2011). 10.1021/nl200225j
17. H. Jung, C. V. Cheah, N. Jeong, and J. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 105, 053902 (2014). 10.1063/1.4890840
18. W. Gao, N. Singh, L. Song, Z. Liu, A. L. M. Reddy, L. J. Ci, R. Vajtai, Q. Zhang, B. Q. Wei, and P. M. Ajayan, Nat. Nanotechnol. 6, 496 (2011). 10.1038/nnano.2011.110
19. H. L. Yu, C. Ma, B. H. Ge, Y. J. Chen, Z. Xu, C. L. Zhu, C. Y. Li, Q. Y. Yang, P. Gao, J. Q. Li, C. W. Sun, L. H. Qi, Y. M. Wang, and F. H. Li, Chem. Eur. J. 19, 5818 (2013). 10.1002/chem.201300072
20. L. J. Cao, S. B. Yang, W. Gao, Z. Liu, Y. J. Gong, L. L. Ma, G. Shi, S. D. Lei, Y. H. Zhang, S. T. Zhang, R. Vajtai, and P. M. Ajayan, Small 9, 2905 (2013). 10.1002/smll.201203164
21. E. G. D. S. Firmiano, A. C. Rabelo, C. J. Dalmaschio, A. N. Pinheiro, E. C. Pereira, W. H. Schreiner, and E. R. Leite, Adv. Energy Mater. 4, 1301380 (2014). 10.1002/aenm.201301380
22. J. Noh, D. Yeom, C. Lim, H. Cha, J. Han, J. Kim, Y. Park, V. Subramanian, and G. Cho, IEEE Trans. Electron Devices 33, 275 (2010). 10.1109/TEPM.2010.2057512
23. D. Pech, M. Brunet, P. L. Taberna, P. Simon, N. Fabre, F. Mesnilgrente, V. Conédéra, and H. Durou, J. Power Sources 195, 1266 (2010). 10.1016/j.jpowsour.2009.08.085
24. L. Huang, Z. P. Wang, J. K. Zhang, J. L. Pu, Y. J. Lin, S. H. Xu, L. Shen, Q. Chen, and W. Z. Shi, ACS Appl. Mater. Interfaces 6, 7426 (2014). 10.1021/am500843p
25. J. Puetz and M. A. Aegerter, Thin Solid Films 516, 4495 (2008). 10.1016/j.tsf.2007.05.086
26. M. M. Voigt, A. Guite, D. Y. Chung, R. U. A. Khan, A. J. Campbell, D. D. C. Bradley, F. S. Meng, J. H. G. Steinke, S. Tierney, I. McCulloch, H. Penxten, L. Lutsen, O. Douheret, J. Manca, U. Brokmann, K. Sönnichsen, D. Hülsenberg, W. Bock, C. Barron, N. Blanckaert, S. Springer, J. Grupp, and A. Mosley, Adv. Funct. Mater. 20, 239 (2010). 10.1002/adfm.200901597
27. Q. H. Chang, Z. P. Wang, J. Z. Wang, Y. Yan, Z. J. Ma, J. X. Zhu, W. Z. Shi, Q. Chen, Q. J. Yu, and L. Huang, Nanoscale 6, 5410 (2014). 10.1039/c3nr06340b
28. Q. H. Chang, L. Huang, J. Z. Wang, Z. J. Ma, P. P. Li, Y. Yan, J. X. Zhu, S. H. Xu, L. Shen, Q. Chen, Q. J. Yu, and W. Z. Shi, Carbon 85, 185 (2015). 10.1016/j.carbon.2014.12.099
29. Q. H. Chang, Z. J. Ma, J. Z. Wang, Y. Yan, W. Z. Shi, Q. Chen, Y. W. Huang, Q. J. Yu, and L. Huang, Electrochim. Acta 151, 459 (2015). 10.1016/j.electacta.2014.11.074
30. L. Huang, Y. Liu, L. C. Ji, Y. Q. Xie, T. Wang, and W. Z. Shi, Carbon 49, 2431 (2011). 10.1016/j.carbon.2011.01.067
31. Y. C. Si and E. T. Samulski, Nano Lett. 8, 1679 (2008). 10.1021/nl080604h
32. W. J. Yuan, A. R. Liu, L. Huang, C. Li, and G. Q. Shi, Adv. Mater. 25, 766 (2013). 10.1002/adma.201203172
33. K. Chang and W. X. Chen, ACS Nano 5, 4720 (2011). 10.1021/nn200659w
34. Z. Yang, Z. Yao, G. F. Li, G. Y. Fang, H. G. Nie, Z. Liu, X. M. Zhou, X. A. Chen, and S. M. Huang, ACS Nano 6, 205 (2012). 10.1021/nn203393d
35. P. P. Li, L. Huang, Y. J. Lin, L. Shen, Q. Chen, and W. Z. Shi, Nanotechnology 25, 055603 (2014). 10.1088/0957-4484/25/5/055603
36. L. Zhang and G. Q. Shi, J. Phys. Chem. C 115, 17206 (2011). 10.1021/jp204036a