Aerosol-assisted CVD of bismuth vanadate thin films and their photoelectrochemical properties

Chemical Vapor Deposition

Volumn 21, Issue 1-3, 2015, Pages 41-45

  Brack, Paul ^a   Sagu, Jagdeep S ^a   Peiris, T A Nirmal ^a   McInnes, Andrew ^a   Senili, Mauro ^b   Wijayantha, K G Upul ^a   Marken, Frank ^c   Selli, Elena ^b  

^a LOUGHBOROUGH UNIVERSITY   (United Kingdom)

^b UNIVERSITY OF MILAN   (Italy)

^c University of Bath   (United Kingdom)

Author keywords

AACVD; BiVO4; Photoelectrochemical; Thin film; Water splitting

Indexed keywords

AEROSOLS; BISMUTH; BISMUTH COMPOUNDS; FILM PREPARATION; PHOTOELECTROCHEMICAL CELLS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SODIUM SULFATE; SUBSTRATES; TIN OXIDES;

AACVD; BIVO4; ENERGY DISPERSIVE X-RAY; FLUORINE DOPED TIN OXIDE (FTO); PHOTOELECTROCHEMICAL PROPERTIES; PHOTOELECTROCHEMICALS; REVERSIBLE HYDROGEN ELECTRODES; WATER SPLITTING;

THIN FILMS;

EID: 84924250391     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201407142     Document Type: Article

References (45)

1. M. G. Walter, E. L. Warren, J. R. McKone, S. W. Boettcher, Q. Mi, E. A. Santori, N. S. Lewis, Chem. Rev. 2010, 110, 6446.
2. X. Chen, S. Shen, L. Guo, S. S. Mao, Chem. Rev. 2010, 110, 6503.
3. M. Gratzel, Nature 2001, 414, 338.
4. S. Choudhary, S. Upadhyay, P. Kumar, N. Singh, V. R. Satsangi, R. Shrivastav, S. Dass, Int. J. Hydrogen Energy 2012, 37, 18713.
5. S. J. Hong, S. Lee, J. S. Jang, J. S. Lee, Energy Environ. Sci. 2011, 4, 1781.
6. Y. Park, K. J. MacDonald, K.-S. Choi, Chem. Soc. Rev. 2013, 423, 2321.
7. S. P. Berglund, D. W. Flaherty, N. T. Hahn, A. J. Bard, C. B. Mullins, J. Phys. Chem. C 2011, 115, 3794.
8. J. R. McKone, N. S. Lewis, H. B. Gray, Chem. Mater. 2014, 26, 407.
9. J. A. Seabold, K.-S. Choi, J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 2186.
10. F. F. Abdi, L. Han, A. H. M. Smets, M. Zeman, B. Dam, R. van de Krol, Nat. Commun. 2013, 4, 3195.
11. P. Bornoz, F. F. Abdi, S. D. Tilley, B. Dam, R. van de Krol, M. Gratzel, K. Sivula, J. Phys. Chem. C 2014, 118, 16959.
12. L. H. Mascaro, A. Pockett, J. M. Mitchels, L. M. Peter, P. J. Cameron, V. Celorrio, D. J. Fermin, J. S. Sagu, K. G. U. Wijayantha, G. Kociok-Kohn, F. Marken, J. Solid State Electrochem. 2014, DOI: 10.1007/s10008-014-2495-y
13. D.-D. Qin, T.Wang, Y.-M. Song, C.-L. Tao, Dalton Trans. 2014, 43, 7691.
14. E. Alarcon-Llado, L. Chen, M. Hettick, N. Mashouf, Y. Lin, A. Javey, J. W. Ager, Phys. Chem. Chem. Phys. 2014, 16, 1651.
15. T. W. Kim, K.-S. Choi, Science 2014, 343, 990.
16. C. Ding, J. Shi, D. Wang, Z. Wang, N. Wang, G. Liu, F. Xiong, C. Li, Phys. Chem. Chem. Phys. 2013, 15, 4589.
17. A. A. Tahir, T. A. N. Peiris, K. G. U. Wijayantha, Chem. Vap. Deposition 2012, 18, 107.
18. A. A. Tahir, K. G. U. Wijayantha, M. Mazhar, V. McKee, Thin Solid Films 2010, 518, 3664.
19. I. A. Bhatti, T. A. N. Peiris, T. D. Smith, K. G. U. Wijayantha, Mater. Lett. 2013, 93, 333.
20. A. A. Tahir, K. G. U. Wijayantha, S. Saremi-Yarahmadi, M. Mazhar, V. McKee, Chem. Mater. 2009, 21, 3763.
21. A. A. Tahir, H. A. Burch, K. G. U. Wijayantha, B. G. Pollet, Int. J. Hydrogen Energy 2013, 38, 4315.
22. M. A. Ehsan, T. A. N. Peiris, K. G. U. Wijayantha, H. Khaledi, H. N. Ming, M. Misran, Z. Arifin, M. Mazhar, Thin Solid Films 2013, 540, 1.
23. A. A. Tahir, T. D. Smith, K. G. U. Wijayantha, Nanosci. Nanotechnol. Lett. 2011, 3, 674.
24. P. Marchand, I. A. Hassan, I. P. Parkin, C. J. Carmalt, Dalton Trans. 2013, 42, 9406.
25. X. Hou, K.-L. Choy, Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 583.
26. A. A. Tahir, M. A. Ehsan, M. Mazhar, K. G. U. Wijayantha, M. Zeller, A. D. Hunter, Chem. Mater. 2010, 22, 5084.
27. J. B. Biswal, S. S. Garje, J. Nuwad, C. G. S. Pillai, J. Solid State Chem. 2013, 204, 348.
28. S. J. A. Moniz, D. Bachu, C. S. Blackman, A. J. Cross, S. Elouali, D. Pugh, R. Q.Cabrera, S. Vallejos, Inorg. Chim. Acta 2012, 380, 328.
29. J. Waters, D. Crouch, J. Raftery, P. O'Brien, Chem. Mater. 2004, 16, 3289.
30. A. Kudo, K. Omori, H. Kato, J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 11459.
31. S. Tokunaga, H. Kato, A. Kudo, Chem. Mater. 2001, 13, 4624.
32. Y. Liang, T. Tsubota, L. P. A. Mooij, R. van de Krol, J. Phys. Chem. C 2011, 115, 17594.
33. R. L. Frost, D. A. Henry, M. L. Weier, W. Martens, J. Raman Spectrosc. 2006, 37, 722.
34. F. D. Hardcastle, I. E. Wachs, J. Phys. Chem. 1991, 95, 5031.
35. F. F. Abdi, T. J. Savenije, M. M. May, B. Dam, R. van de Krol, J. Phys. Chem. Lett. 2013, 4, 2752.
36. F. F. Abdi, R. van de Krol, J. Phys. Chem. C 2012, 116, 9398.
37. D. K. Zhong, S. Choi, D. R. Gamelin, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 18370.
38. P. Chatchai, Y. Murakami, S. Y. Kishioka, A. Y. Nosaka, Y. Nosaka, Electrochem. Solid State Lett. 2008, 11, H160.
39. K. Sayama, A. Nomura, T. Arai, T. Sugita, R. Abe, M. Yanagida, T. Oi, Y. Iwasaki, Y. Abe, H. Sugihara, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 11352.
40. M. T. McDowell, M. F. Lichterman, J. M. Spurgeon, S. Hu, I. D. Sharp, B. S. Brunschwig, N. S. Lewis, J. Phys. Chem. C 2014, 118, 19618.
41. Y. Zhang, J. Wang, Y. Zhao, J. Zhai, L. Jiang, Y. Song, D. J. Zhu, J. Mater. Chem. 2008, 18, 2650.
42. Q. Jia, K. Iwashina, A. Kudo, Proc Natl Acad Sci USA 2012, 109, 11564.
43. A. J. E. Rettie, H. C. Lee, L. G. Marshall, J.-F. Lin, C. Capan, J. Lindemuth, J. S. McCloy, J. Zhou, A. J. Bard, C. B. Mullins, J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 11389.
44. M. F. Lichterman, M. R. Shaner, S. G. Handler, B. Brunschwig, H. B. Gray, N. S. Lewis, J. M. Spurgeon, J. Phys. Chem. Lett. 2013, 4, 4188.
45. A. Kay, I. Cesar, M. Gratzel, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 15714.