Treatment of gaseous effluents by using surface discharge plasma in continuous reactors: Process modelling and simulation

Canadian Journal of Chemical Engineering

Volumn 93, Issue 2, 2015, Pages 206-212

  Assadi, Aymen Amine ^a,b   Bouzaza, Abdelkrim ^a,b   Wolbert, Dominique ^a,b  

^a INSTITUT DES SCIENCES CHIMIQUES DE RENNES   (France)

^b UNIVERSITÉ EUROPÉENNE DE BRETAGNE   (France)

Author keywords

Continuous reactor; Kinetics modelling; Mass transfer; Plasma DBD; VOCs

Indexed keywords

ELECTRIC DISCHARGES; GASEOUS EFFLUENTS; INDOOR AIR POLLUTION; MASS TRANSFER; OXIDATION; VOLATILE ORGANIC COMPOUNDS;

BYPRODUCTS FORMATION; CONTINUOUS REACTORS; DEGRADATION REACTION; KINETICS MODELLING; MODELLING AND EXPERIMENTS; PLASMA DBD; REMOVAL EFFICIENCIES; SURFACE DISCHARGE PLASMAS;

PLASMA APPLICATIONS;

EID: 84921305479     PISSN: 00084034     EISSN: 1939019X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cjce.22122     Document Type: Article

References (23)

1. ADEME Pollutions olfactives: origine, législation, analyse, traitement, ADEME, Dunod, Angers, 2005.
2. CITEPA Emissions dans l'air en France métropole-substance relative à l'acidification, l'eutrophisation et à la pollution photochimique, 2011.
3. P. Le Cloirec, COV (composés organiques volatils), Technique de l'Ingénieur, G1835, 2004.
4. A. M. Vandenbroucke, R. Morent, N. De Geyter, C. Leys, J. Hazard. Mater. 2011, 195, 30.
5. K. Allegraud, Pécharge à barrière diélectrique de surface: physique et procédé, thesis, Ecole polytechnique de Paris, 2008.
6. M. Redolfi, N. Aggadi, X. Duten, S. Touchard, S. Pasquiers, K. Hassouni, Plasma Chem. Plasma P 2009, 29, 173.
7. S. Schmid, M. C. Jecklin, R. Zenobi, Chemosphere 2010, 79, 124.
8. K. Yoshida. J. Taiwan Inst. Chem. E 2013, 44, 1054.
9. A. A. Assadi, Péveloppement d'un procédé de couplage réacteur plasma DBD-réacteur photocatalytique pour le traitement des effluents gazeux : du laboratoire à l'application industrielle, thesis no. 009, Rennes: ENSC Rennes, 2012.
10. N. Aggadi, Étude de la réactivité de suies modèles de n-hexane sous décharge couronne pulsée à la pression atmosphérique, Université de Paris Nord-France, 2006.
11. O. Guaitella, F. Thevenet, E. Puzenat, C. Guillard, A. Rousseau, Appl. Catal., B 2008, 80, 296.
12. L. Sivachandiran, F. Thevenet, A. Rousseau, Plasma Chem. Plasma P 2013, 33, 855.
13. A. A. Assadi, A. Bouzaza, D. Wolbert, Chem. Eng. Res. Des. in press.
14. Z. Ye, J. Zhao, H. Huang, F. Ma, R. Zhang, J. Hazard. Mater. 2013, 260, 32.
15. T. Zhu, J. Li, W. Liang, Y. Jin, J. Hazard. Mater. 2009, 165, 1258.
16. K. Yan, E. J. M. Van Heesch, A. J. M. Pemen, P. A. H. J. Huijbrechts. Plasma Chem. Plasma P. 2001, 21, 107.
17. Y. S. Mokt, W. Lee Ho, Y. J. Hyun, S. W. Ham, I. S. Nam, Korean J. Chem. Eng. 2001, 18, 711.
18. R. H. Perry, D. Green, J. O. Maloney, Perry's Chemical Engineering Handbook, 7th edition, McGraw-Hill, New-York 1997.
19. C. Subrahmanyam, A. Renken, L. Kiwi-Minsker, Chem. Eng. J. 2010, 160, 677.
20. H. Wang, D. Li, Y. Wu, J. Li, L. Guofeng, J. Electrostat. 2009, 67, 547.
21. M. P. Cal, M. Schluep, Environ. Prog. 2001, 20, 151.
22. S. Brosillon, L. Lhomme, D. Wolbert, Chem. Eng. J. 2011, 169, 216.
23. K. Allegraud, O. Guaitella, A. Rousseau, J. Phys. D: Appl. Phys. 2007, 40, 7698.