Ultrasensitive surface-enhanced Raman scattering based gold deposited silicon nanowires

Applied Physics Letters

Volumn 104, Issue 19, 2014, Pages

  Peng, Mingfa ^a   Xu, Hongyan ^a   Shao, Mingwang ^a  

^a SOOCHOW UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

NANOWIRES; RAMAN SCATTERING; SURFACE SCATTERING;

ARRAY STRUCTURES; ENHANCEMENT FACTOR; NANOMATERIAL; RAMAN ENHANCEMENT; SILICON NANOWIRES; SURFACE ENHANCED RAMAN SCATTERING (SERS); SURFACE-ENHANCED RAMAN; ULTRA SENSITIVES;

GOLD DEPOSITS;

EID: 84900848430     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4876958     Document Type: Article

References (26)

1. M. Fleischmann, P. J. Hendra, and A. J. McQuillan, Chem. Phys. Lett. 26, 163 (1974). 10.1016/0009-2614(74)85388-1
2. S. Nie and S. R. Emory, Science 275, 1102 (1997). 10.1126/science.275. 5303.1102
3. K. Kneipp, Y. Wang, H. Kneipp, L. T. Perelman, I. Itzkan, R. R. Dasari, and M. S. Feld, Phys. Rev. Lett. 78, 1667 (1997). 10.1103/PhysRevLett.78.1667
4. R. H. Que, M. W. Shao, S. J. Zhuo, C. Y. Wen, S. D. Wang, and S. T. Lee, Adv. Funct. Mater. 21, 3337 (2011). 10.1002/adfm.201100641
5. X. Zhang, M. A. Young, O. Lyandres, and R. P. Van Duyne, J. Am. Chem. Soc. 127, 4484 (2005). 10.1021/ja043623b
6. K. E. Shafer-Peltier, C. L. Haynes, M. R. Glucksberg, and R. P. Van Duyne, J. Am. Chem. Soc. 125, 588 (2003). 10.1021/ja028255v
7. I. Chou, M. Benford, H. T. Beier, G. L. Coté, M. Wang, N. Jing, J. Kameoka, and T. A. Good, Nano Lett. 8, 1729 (2008). 10.1021/nl0808132
8. A. Barhoumi, D. Zhang, F. Tam, and N. J. Halas, J. Am. Chem. Soc. 130, 5523 (2008). 10.1021/ja800023j
9. X. Qian, X. Zhou, and S. Nie, J. Am. Chem. Soc. 130, 14934 (2008). 10.1021/ja8062502
10. A. J. Bonham, G. Braun, I. Pavel, M. Moskovits, and N. O. Reich, J. Am. Chem. Soc. 129, 14572 (2007). 10.1021/ja0767837
11. K. Kneipp, M. Moskovits, and H. Kneipp, Surface-Enhanced Raman Scattering: Physics and Applications (Springer, Berlin, 2006).
12. J. Kneipp, H. Kneipp, W. L. Rice, and K. Kneipp, Anal. Chem. 77, 2381 (2005). 10.1021/ac050109v
13. A. Rumyantseva, S. Kostcheev, P. M. Adam, S. V. Gaponenko, S. V. Vaschenko, O. S. Kulakovich, A. A. Ramanenka, D. V. Guzatov, D. Korbutyak, V. Dzhagan, A. Stroyuk, and V. Shvalagin, ACS Nano 7, 3420 (2013). 10.1021/nn400307a
14. L. Sun, C. X. Yu, and J. Irudayaraj, Anal. Chem. 79, 3981 (2007). 10.1021/ac070078z
15. M. D. Porter, R. J. Lipert, L. M. Siperko, G. Wang, and R. Narayanan, Chem. Soc. Rev. 37, 1001 (2008). 10.1039/b708461g
16. J. H. Granger, M. C. Granger, M. A. Firpo, S. J. Mulvihill, and M. D. Porter, Analyst 138, 410 (2013). 10.1039/c2an36128k
17. M. W. Shao, L. Lu, H. Wang, S. Wang, M. L. Zhang, D. D. D. Mab, and S. T. Lee, Chem. Commun. 20, 2310 (2008). 10.1039/b802405g
18. M. F. Peng, J. Gao, P. P. Zhang, Y. Li, X. H. Sun, and S. T. Lee. Chem. Mater. 23, 3296 (2011). 10.1021/cm200186v
19. H. Y. Xu, M. W. Shao, T. Chen, Y. Zhao, and S. T. Lee, J. Raman Spectrosc. 43, 396 (2012). 10.1002/jrs.3042
20. S. J. Lee, A. R. Morrill, and M. Moskovits, J. Am. Chem. Soc. 128, 2200 (2006). 10.1021/ja0578350
21. Q. Liao, C. Mu, D. S. Xu, X. C. Ai, J. N. Yao, and J. P. Zhang, Langmuir 25, 4708 (2009). 10.1021/la8036555
22. F. Cheng, A. Ajay, W. Effendi, V. G. Marc, M. W. She, L. Linn, M. K. Nizamudin, M. S. Shaik, and B. Narayanan, Chem. Mater. 21, 3542 (2009). 10.1021/cm900132j
23. M. W. Shao, M. L. Zhang, N. B. Wong, D. D. D. Ma, H. Wang, W. W. Chen, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 233118 (2008). 10.1063/1.2969292
24. M. L. Zhang, X. Fan, H. W. Zhou, M. W. Shao, J. A. Zapien, N. B. Wong, and S. T. Lee, J. Phys. Chem. C 114, 1969 (2010). 10.1021/jp902775t
25. X. T. Wang, W. S. Shi, G. W. She, L. X. Mu, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 96, 053104 (2010). 10.1063/1.3300837
26. M. Inoue and K. Ohtaka, Phys. Rev. B 26, 3487 (1982). 10.1103/PhysRevB.26.3487