Metallacarborane-based metal-organic framework with a complex topology

Crystal Growth and Design

Volumn 14, Issue 3, 2014, Pages 1324-1330

  Kennedy, Robert D ^a   Clingerman, Daniel J ^a,d   Morris, William ^a   Wilmer, Christopher E ^b   Sarjeant, Amy A ^a   Stern, Charlotte L ^a   O'Keeffe, Michael ^c   Snurr, Randall Q ^b   Hupp, Joseph T ^a   Farha, Omar K ^a,c   Mirkin, Chad A ^a  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

^b ARIZONA STATE UNIVERSITY   (United States)

^c Northwestern University   (United States)

^d KING ABDULAZIZ UNIVERSITY   (Saudi Arabia)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COBALT BIS(DICARBOLLIDE); COMPLEX TOPOLOGY; COORDINATION POLYHEDRA; METAL ORGANIC FRAMEWORK; METALORGANIC FRAMEWORKS (MOFS); SINGLE CRYSTAL X-RAY DIFFRACTION ANALYSIS; SOLVOTHERMAL REACTIONS; STRUCTURE PREDICTION;

COBALT; COPPER; CRYSTALLINE MATERIALS; GEOMETRY; JAVA PROGRAMMING LANGUAGE; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

TOPOLOGY;

EID: 84897749180     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg401817g     Document Type: Article

References (57)

1. Cook, T. R.; Zheng, Y.-R.; Stang, P. J. Chem. Rev. 2013, 113, 734-777
2. Oh, M.; Mirkin, C. A. Nature 2005, 438, 651-654
3. Spokoyny, A. M.; Kim, D.; Sumrein, A.; Mirkin, C. A. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 1218-1227
4. Kitagawa, S.; Kitaura, R.; Noro, S.-i. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 2334-2375
5. Min, K. S.; Suh, M. P. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 6834-6840
6. Oh, M.; Mirkin, C. A. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 5492-5494
7. Lee, J.; Farha, O. K.; Roberts, J.; Scheidt, K. A.; Nguyen, S. T.; Hupp, J. T. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 1450-1459
8. Ma, L.; Abney, C.; Lin, W. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 1248-1256
9. Oh, M.; Stern, C. L.; Mirkin, C. A. Chem. Commun. 2004, 2684-2685
10. Li, J.-R.; Kuppler, R. J.; Zhou, H.-C. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 1477-1504
11. Bae, Y.-S.; Farha, O. K.; Spokoyny, A. M.; Mirkin, C. A.; Hupp, J. T.; Snurr, R. Q. Chem. Commun. 2008, 4135-4137
12. Bae, Y.-S.; Spokoyny, A. M.; Farha, O. K.; Snurr, R. Q.; Hupp, J. T.; Mirkin, C. A. Chem. Commun. 2010, 46, 3478-3480
13. Kreno, L. E.; Leong, K.; Farha, O. K.; Allendorf, M.; Van Duyne, R. P.; Hupp, J. T. Chem. Rev. 2012, 112, 1105-1125
14. Suh, M. P.; Park, H. J.; Prasad, T. K.; Lim, D.-W. Chem. Rev. 2012, 112, 782-835
15. Farha, O. K.; YazaydIn, A. Ö.; Eryazici, I.; Malliakas, C. D.; Hauser, B. G.; Kanatzidis, M. G.; Nguyen, S. T.; Snurr, R. Q.; Hupp, J. T. Nature Chem. 2010, 2, 944-948
16. Furukawa, H.; Ko, N.; Go, Y. B.; Aratani, N.; Choi, S. B.; Choi, E.; YazaydIn, A. Ö.; Snurr, R. Q.; O'Keeffe, M.; Kim, J.; Yaghi, O. M. Science 2010, 329, 424-428
17. O'Keeffe, M.; Yaghi, O. M. Chem. Rev. 2012, 112, 675-702
18. O'Keeffe, M. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 1215-1217
19. Eddaoudi, M.; Kim, J.; Rosi, N.; Vodak, D.; Wachter, J.; O'Keeffe, M.; Yaghi, O. M. Science 2002, 295, 469-472
20. Lin, X.; Telepeni, I.; Blake, A. J.; Dailly, A.; Brown, C. M.; Simmons, J. M.; Zoppi, M.; Walker, G. S.; Thomas, K. M.; Mays, T. J.; Hubberstey, P.; Champness, N. R.; Schröder, M. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 2159-2171
21. Li, H.; Eddaoudi, M.; Groy, T. L.; Yaghi, O. M. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 8571-8572
22. Ma, S.; Sun, D.; Simmons, J. M.; Collier, C. D.; Yuan, D.; Zhou, H.-C. J. Am. Chem. Soc. 2007, 130, 1012-1016
23. Kennedy, R. D.; Krungleviciute, V.; Clingerman, D. J.; Mondloch, J. E.; Peng, Y.; Wilmer, C. E.; Sarjeant, A. A.; Snurr, R. Q.; Hupp, J. T.; Yildirim, T.; Farha, O. K.; Mirkin, C. A. Chem. Mater. 2013, 25, 3539-3543
24. Lin, X.; Jia, J.; Zhao, X.; Thomas, K. M.; Blake, A. J.; Walker, G. S.; Champness, N. R.; Hubberstey, P.; Schröder, M. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 7358-7364
25. Chen, B.; Ockwig, N. W.; Millward, A. R.; Contreras, D. S.; Yaghi, O. M. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 4745-4749
26. Hu, Y.; Xiang, S.; Zhang, W.; Zhang, Z.; Wang, L.; Bai, J.; Chen, B. Chem. Commun. 2009, 7551-7553
27. Lee, Y.-G.; Moon, H. R.; Cheon, Y. E.; Suh, M. P. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 7741-7745
28. Prasad, T. K.; Hong, D. H.; Suh, M. P. Chem.-Eur. J. 2010, 16, 14043-14050
29. Wang, X.-S.; Ma, S.; Rauch, K.; Simmons, J. M.; Yuan, D.; Wang, X.; Yildirim, T.; Cole, W. C.; López, J. J.; de Meijere, A.; Zhou, H.-C. Chem. Mater. 2008, 20, 3145-3152
30. Xue, M.; Zhu, G.; Li, X.; Zhao, X.; Jin, Z.; Kang, E.; Qiu, S. Cryst. Growth Des. 2008, 8, 2478-2483
31. Yang, S.; Lin, X.; Dailly, A.; Blake, A. J.; Hubberstey, P.; Champness, N. R.; Schroder, M. Chem.-Eur. J. 2009, 15, 4829-4835
32. Zhao, D.; Yuan, D.; Yakovenko, A.; Zhou, H.-C. Chem. Commun. 2010, 46, 4196-4198
33. Zheng, B.; Liang, Z.; Li, G.; Huo, Q.; Liu, Y. Cryst. Growth Des. 2010, 10, 3405-3409
34. Wang, X.-S.; Meng, L.; Cheng, Q.; Kim, C.; Wojtas, L.; Chrzanowski, M.; Chen, Y.-S.; Zhang, P. X.; Ma, S. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 16322-16325
35. Duan, X.; Yu, J.; Cai, J.; He, Y.; Wu, C.; Zhou, W.; Yildirim, T.; Zhang, Z.; Xiang, S.; O'Keeffe, M.; Chen, B.; Qian, G. Chem. Commun. 2013, 49, 2043-2045
36. Farha, O. K.; Spokoyny, A. M.; Mulfort, K. L.; Galli, S.; Hupp, J. T.; Mirkin, C. A. Small 2009, 5, 1727-1731
37. Farha, O. K.; Spokoyny, A. M.; Mulfort, K. L.; Hawthorne, M. F.; Mirkin, C. A.; Hupp, J. T. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 12680-12681
38. Spokoyny, A. M.; Farha, O. K.; Mulfort, K. L.; Hupp, J. T.; Mirkin, C. A. Inorg. Chim. Acta 2010, 364, 266-271
39. Safronov, A. V.; Sevryugina, Y. V.; Jalisatgi, S. S.; Kennedy, R. D.; Barnes, C. L.; Hawthorne, M. F. Inorg. Chem. 2012, 51, 2629-2637
40. Hawthorne, M. F.; Young, D. C.; Andrews, T. D.; Howe, D. V.; Pilling, R. L.; Pitts, A. D.; Reintjes, M.; Warren, L. F.; Wegner, P. A. J. Am. Chem. Soc. 1968, 90, 879-896
41. Warren, L. F.; Hawthorne, M. F. J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 1157-1173
42. Finze, M. Inorg. Chem. 2008, 47, 11857-11867
43. Yoo, J.; Hwang, J.-W.; Do, Y. Inorg. Chem. 2001, 40, 568-570
44. + within the pores of the framework.
45. The solvent masking procedure as implemented in Olex2 was used to remove the electronic contribution of disordered and ill-defined solvent molecules or couter cations from the refinement: Dolomanov, O. V.; Bourhis, L. J.; Gildea, R. J.; Howard, J. A. K.; Puschmann, H. J. Appl. Crystallogr. 2009, 42, 339-341
46. Spek, A. L. PLATON (C), 1980-2011; Padualaan 8, 3584 CH, Utrecht, The Netherlands. The van der Waals radii used in the analysis C:1.70, H:1.2, B:1.63, Cu:1.4, N:1.5,O:1.52.
47. Eddaoudi, M.; Kim, J.; Wachter, J. B.; Chae, H. K.; O'Keeffe, M.; Yaghi, O. M. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 4368-4369
48. Moulton, B.; Lu, J.; Mondal, A.; Zaworotko, M. J. Chem. Commun. 2001, 863-864
49. Clingerman, D. J.; Kennedy, R. D.; Mondloch, J. E.; Sarjeant, A. A.; Hupp, J. T.; Farha, O. K.; Mirkin, C. A. Chem. Commun. 2013, 11485-11487
50. Farha, O. K.; Eryazici, I.; Jeong, N. C.; Hauser, B. G.; Wilmer, C. E.; Sarjeant, A. A.; Snurr, R. Q.; Nguyen, S. T.; YazaydIn, A. Ö.; Hupp, J. T. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 15016-15021
51. Farha, O. K.; Wilmer, C. E.; Eryazici, I.; Hauser, B. G.; Parilla, P. A.; O'Neill, K.; Sarjeant, A. A.; Nguyen, S. T.; Snurr, R. Q.; Hupp, J. T. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 9860-9863
52. Zou, Y.; Park, M.; Hong, S.; Lah, M. S. Chem. Commun. 2008, 2340-2342
53. Yuan, D.; Zhao, D.; Sun, D.; Zhou, H.-C. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 5357-5361
54. Perry, J. J., IV; Perman, J. A.; Zaworotko, M. J. Chem. Soc. Rev. 2009, 38, 1400-1417
55. Wang, X.-S.; Ma, S.; Forster, P. M.; Yuan, D.; Eckert, J.; López, J. J.; Murphy, B. J.; Parise, J. B.; Zhou, H.-C. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 7263-7266
56. Hu, Y. -X.; Ma, H. -B.; Zhang, W. -W.; Xiang, S.; Zhai, L.; Wang, L. -F.; Chen, B.; Ren, X. -M.; Bai, J. Inorg. Chem. 2012, 51, 7066-7074
57. Li, M.; Li, D.; O'Keeffe, M.; Yaghi, O. M. Chem. Rev. 2014, 114, 1343-1370