Efficient excitation of channel plasmons in tailored, UV-lithography- defined V-grooves

Nano Letters

Volumn 14, Issue 3, 2014, Pages 1659-1664

  Smith, Cameron L C ^a   Thilsted, Anil H ^a   Garcia Ortiz, Cesar E ^b   Radko, Ilya P ^b   Marie, Rodolphe ^a   Jeppesen, Claus ^a   Vannahme, Christoph ^a   Bozhevolnyi, Sergey I ^b   Kristensen, Anders ^a  

^a TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK   (Denmark)

^b UNIVERSITY OF SOUTHERN DENMARK   (Denmark)

Author keywords

Channel plasmon polariton; plasmonic coupler; termination mirror; UV lithography; V groove

Indexed keywords

MIRRORS; PLASMONS; SILICON; SILICON OXIDES; SILICON WAFERS; WAVEGUIDES;

CHANNEL PLASMON-POLARITONS; COUPLING MIRROR; FABRICATION PROCESS; PLASMONIC COUPLER; SILICON ETCHING; THERMAL SILICON; UV LITHOGRAPHY; V-GROOVE;

LITHOGRAPHY;

EID: 84896364536     PISSN: 15306984     EISSN: 15306992     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl5002058     Document Type: Article

References (38)

1. Barnes, W. L.; Dereux, A.; Ebbesen, T. W. Nature 2003, 424, 824-830
2. Yin, L.; Vlasko-Vlasov, V. K.; Pearson, J.; Hiller, J. M.; Hua, J.; Welp, U.; Brown, D. E.; Kimball, C. W. Nano Lett. 2005, 5, 1399-1402
3. Verhagen, E.; Polman, A.; Kuipers, L. K. Opt. Express 2008, 16, 45-57
4. Schuller, J. A; Barnard, E. S.; Cai, W.; Jun, Y. C.; White, J. S.; Brongersma, M. L. Nat. Mater. 2010, 9, 193-204
5. Gramotnev, D. K.; Bozhevolnyi, S. I. Nat. Photonics 2010, 4, 83-91
6. Dionne, J.; Sweatlock, L.; Atwater, H.; Polman, A. Phys. Rev. B 2006, 73, 1-9
7. Oulton, R. F.; Sorger, V. J.; Genov, D. A.; Pile, D. F. P.; Zhang, X. Nat. Photonics 2008, 2, 496-500
8. Goykhman, I.; Desiatov, B.; Levy, U. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 141106
9. Zia, R.; Schuller, J.; Brongersma, M. Phys. Rev. B 2006, 74, 165415
10. Quinten, M.; Leitner, A.; Krenn, J. R.; Aussenegg, F. R. Opt. Lett. 1998, 23, 1331-1333
11. Ebbesen, T. W.; Genet, C.; Bozhevolnyi, S. I. Phys. Today 2008, 61, 44-50
12. Gramotnev, D. K.; Nielsen, M. G.; Tan, S. J.; Kurth, M. L.; Bozhevolnyi, S. I. Nano Lett. 2012, 12, 359-363
13. Wang, K.; Schonbrun, E.; Steinvurzel, P.; Crozier, K. B. Nano Lett. 2010, 10, 3506-3511
14. Erickson, D.; Serey, X.; Chen, Y.-F.; Mandal, S. Lab Chip 2011, 11, 995-1009
15. Maragò, O. M.; Jones, P. H.; Gucciardi, P. G.; Volpe, G.; Ferrari, A. C. Nat. Nanotechnol. 2013, 8, 807-819
16. Bozhevolnyi, S.; Volkov, V.; Devaux, E.; Ebbesen, T. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 1-4
17. Pile, D. F. P.; Gramotnev, D. K. Opt. Lett. 2005, 30, 1186-1188
18. Moreno, E.; Garcia-Vidal, F. J.; Rodrigo, S. G.; Martin-Moreno, L.; Bozhevolnyi, S. I. Opt. Lett. 2006, 31, 3447-3449
19. Bozhevolnyi, S. I.; Volkov, V. S.; Devaux, E.; Laluet, J.-Y.; Ebbesen, T. W. Nature 2006, 440, 508-511
20. Volkov, V. S.; Bozhevolnyi, S. I.; Devaux, E.; Laluet, J.-Y.; Ebbesen, T. W. Nano Lett. 2007, 7, 880-884
21. Volkov, V. S.; Gosciniak, J.; Bozhevolnyi, S. I.; Rodrigo, S. G.; Martín-Moreno, L.; García-Vidal, F. J.; Devaux, E.; Ebbesen, T. W. New J. Phys. 2009, 11, 113043
22. Volkov, V. S.; Bozhevolnyi, S. I.; Rodrigo, S. G.; GarcI, F. J.; Ebbesen, T. W.; Alle, N. B. Nano Lett. 2009, 1278-1282
23. Nielsen, R. B.; Fernandez-Cuesta, I.; Boltasseva, A.; Volkov, V. S.; Bozhevolnyi, S. I.; Klukowska, A.; Kristensen, A. Opt. Lett. 2008, 33, 2800-2802
24. Fernandez-Cuesta, I.; Nielsen, R. B.; Boltasseva, A.; Borrisé, X.; Pérez-Murano, F.; Kristensen, A. J. Vac. Sci. Technol., B 2007, 25, 2649-2653
25. Smith, C. L. C.; Desiatov, B.; Goykmann, I.; Fernandez-Cuesta, I.; Levy, U.; Kristensen, A. Opt. Express 2012, 20, 5696-5706
26. Kosako, T.; Kadoya, Y.; Hofmann, H. F. Nat. Photonics 2010, 4, 312-315
27. Curto, A. G.; Volpe, G.; Taminiau, T. H.; Kreuzer, M. P.; Quidant, R.; van Hulst, N. F. Science 2010, 329, 930-933
28. Kriesch, A.; Burgos, S. P.; Ploss, D.; Pfeifer, H.; Atwater, H. A; Peschel, U. Nano Lett. 2013, 4539-4545
29. Aieta, F.; Genevet, P.; Kats, M. A; Yu, N.; Blanchard, R.; Gaburro, Z.; Capasso, F. Nano Lett. 2012, 12, 4932-4396
30. Vercruysse, D.; Sonnefraud, Y.; Verellen, N.; Fuchs, F. B.; Di Martino, G.; Lagae, L.; Moshchalkov, V. V; Maier, S. A; Van Dorpe, P. Nano Lett. 2013, 3843-3849
31. Esslinger, M.; Khunsin, W.; Talebi, N.; Wei, T.; Dorfmüller, J.; Vogelgesang, R.; Kern, K. Adv. Opt. Mater. 2013, 434-437
32. Esteban, R.; Teperik, T. V.; Greffet, J. J. Phys. Rev. Lett. 2010, 104, 026802
33. Qu, S.-W.; Nie, Z.-P. Sci. Rep. 2013, 3, 3172
34. Choi, S. B.; Park, D. J.; Jeong, Y. K.; Yun, Y. C.; Jeong, M. S.; Byeon, C. C.; Kang, J. H.; Park, Q.-H.; Kim, D. S. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 063115
35. Baron, A.; Devaux, E.; Rodier, J.-C.; Hugonin, J.-P.; Rousseau, E.; Genet, C.; Ebbesen, T. W.; Lalanne, P. Nano Lett. 2011, 11, 4207-4212
36. Radko, I. P.; Holmgaard, T.; Han, Z.; Pedersen, K.; Bozhevolnyi, S. I. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 213109
37. http://www.silvaco.com/products/tcad/process-simulation/athena/athena. html (accessed January 9, 2014).
38. Bozhevolnyi, S. I.; Nerkararyan, K. V. Opt. Lett. 2009, 34, 2039-2041