Chemical vapor deposition of graphene on silver foil as a tarnish-resistant coating

Physica Status Solidi - Rapid Research Letters

Volumn 7, Issue 12, 2013, Pages 1076-1079

  Ayhan, Muhammed Emre ^a   Kalita, Golap ^a   Sharma, Subash ^a   Tanemura, Masaki ^a  

^a NAGOYA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

Chemical vapor deposition; Foils; Graphene; Silver; Tarnishing

Indexed keywords

CARBON PRECURSORS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONS (CVD); FOILS; GRAPHENE COATINGS; GRAPHENE FILMS; LARGE-AREA GRAPHENE; SULFUR REACTIONS; TARNISHING;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; COATINGS; CORROSION RESISTANCE; GRAPHENE; SULFUR; SURFACES; VAPORS;

SILVER;

EID: 84890161803     PISSN: 18626254     EISSN: 18626270     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssr.201308159     Document Type: Article

References (30)

1. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, Science 306, 666 (2004).
2. Y. Zhang, Y. W. Tan, H. L. Stormer, and P. Kim, Nature 438, 201 (2005).
3. A. K. Geim and K. S. Novoselov, Nature Mater. 6, 183 (2007).
4. C. Lee, X. Wei, J. W. Kysar, and J. Hone, Science 321, 385 (2008).
5. S. Chen, L. Brown, M. Levendorf, W. Cai, S. Y. Ju, J. Edgeworth, X. Li, C. W. Magnuson, A. Velamakanni, R. R. Piner, J. Park, and R. S. Ruoff, ACS Nano 5, 1321 (2011).
6. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J. H. Ahn, P. Kim, J. Y. Choi, and B. H. Hong, Nature 457, 706 (2009).
7. X. S. Li, W. W. Cai, J. H. An, S. Kim, J. Nah, D. X. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 324, 1312 (2009).
8. S. Bae, H. K. Kim, Y. Lee, X. Xu, J. Park, Y. Zheng, J. Balakrishnan, D. Im, T. Lei, Y. Song, Y. Kim, K. Kim, B. Ozyilmaz, J. Ahn, B. Hong, and S. Iijima, Nature Nanotechnol. 5, 574 (2010).
9. D. Prasai, J. C. Tuberquia, R. R. Harl, G. K. Jennings, and K. I. Bolotin, ACS Nano 6, 1102 (2012).
10. B. C. Banerjee, T. J. Hirt, and P. L. Walker, Nature 192, 450 (1961).
11. I. Alstrup, I. Chorkendorff, and S. Ullmann, Surf. Sci. 264, 95 (1992).
12. E. Sutter, P. Albrecht, and P. Sutter, Appl. Phys. Lett. 95, 133109 (2009).
13. R. Hirano, K. Matsubara, G. Kalita, Y. Hayashia, and M. Tanemura, Nanoscale 4, 7791 (2012).
14. J. Coraux, A. T. N'Diaye, M. Engler, C. Busse, D. Wall, N. Buckanie, F. Heringdorf, R. van Gastei, B. Poelsema, and T. Michely, New J. Phys. 11, 023006 (2009).
15. J. Wintterlin and M. L. Bocquet, Surf. Sci. 603, 1841 (2009).
16. L. Gao, J. R. Guest, and N. P. Guisinger, Nano Lett. 10, 3512 (2010).
17. T. Oznuluer, E. Pince, E. O. Polat, O. Balci, O. Salihoglu, and C. Kocabas, Appl. Phys. Lett. 98, 183101 (2011).
18. J. B. Liu, S. H. Fu, B. Yuan, Y. L. Li, and Z. X. Deng, J. Am. Chem. Soc. 132, 7279 (2010).
19. X. Z. Tang, Z. W. Cao, H. B. Zhang, J. Liu, and Z. Z. Yu, Chem. Commun. 47, 3084 (2011).
20. S. Link and M. A. El-Sayed, Int. Rev. Phys. Chem. 19, 409 (2000).
21. S. Sun and P. Wu, Phys. Chem. Chem. Phys. 13, 21116 (2011).
22. X. Q. Zou and S. J. Dong, J. Phys. Chem. B 110, 21545 (2006).
23. W. Yang, J. Li, Y. Zhong, H. Qian, Z. Li, and Y. Hu, Cryst. Eng. Commun. 15, 2598 (2013).
24. R. Pasricha, S. Gupta, and A. K. Srivastava, Small 5, 2253 (2009).
25. H. E. Bennett, R. L. Peck, D. K. Burge, and J. M. Bennett, J. Appl. Phys. 40, 3351 (1969).
26. J. L. Elechiguerra, L. L. Lopez, C. Liu, D. G. Gutierrez, A. C. Bragado, and M. J. Yacaman, Chem. Mater. 17, 6042 (2005).
27. J. C. Reed, H. Zhu, A. Y. Zhu, C. Li, and E. Cubukcu, Nano Lett. 12, 4090 (2012).
28. I. Vlassiouk, M. Regmi, P. Fulvio, S. Dai, P. Datskos, G. Eres, and S. Smirnov, ACS Nano 5, 6069 (2011).
29. M. Losurdo, M. M. Giangregorio, P. Capezzuto, and G. Brunoa, Phys. Chem. Chem. Phys. 13, 20836 (2011).
30. G. Lee, Phys. Rev. B 51, 7250 (1995).