Fullerene as sensor for halides: Modeling approach

Journal of Computational and Theoretical Nanoscience

Volumn 10, Issue 9, 2013, Pages 2026-2028

  Elhaes, Hanan ^a   Ibrahim, Medhat ^b  

^a Ain Shams University   (Egypt)

^b NATIONAL RESEARCH CENTRE   (Egypt)

Author keywords

Fullerene; Halogen; HF; Molecular Modeling; PM5

Indexed keywords

HALOGEN; HEAT OF FORMATION; HIGHEST OCCUPIED MOLECULAR ORBITAL; LOWEST UNOCCUPIED MOLECULAR ORBITAL; MODEL APPROACH; MOLECULAR DIMENSIONS; PM5; PM5 SEMIEMPIRICAL METHODS;

DIPOLE MOMENT; HAFNIUM; IONIZATION POTENTIAL; MOLECULAR MODELING; MOLECULAR WEIGHT; POINT GROUPS;

FULLERENES;

EID: 84886453479     PISSN: 15461955     EISSN: 15461963     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/jctn.2013.3164     Document Type: Article

References (23)

1. H. W. Kroto, J. R. Heath, S. C. O?Brien, R. F. Curl, and R. E. Smalley, Nature 318, 162 (1985
2. E. Nashy, O. Osman, A.-A. Mahmoud, and M. Ibrahim, Spectrochim. Acta A 88, 171 (2012)
3. M. Ibrahim, A. A. El-Barbary, M. M. El-Nahass, M. A. Kamel, M. A. M. El-Mansy, and A. M. Asiri, Spectrochim. Acta A 87, 202 (2012)
4. M. Ibrahim, N. A. Saleh, W. M. Elshemey, and A. A. Elsayed, Mini Rev. Med. Chem. 12, 447 (2012)
5. W. Andreoni, Nanostruc. Mater. 3, 293 (1993
6. K. Raghavachari and C. Sosa, Chem. Phys. Lett. 209, 223 (1993
7. M. Ibrahim and H. Elhaes, Chin. J. Phys. 43, 915 (2005
8. M. Ibrahim, H. Elhaes, and A. F. Jalbout, Chin. J. Phys. 44, 432 (2006
9. M. Ibrahim, H. Elhaes, A. J. Hameed, and A. F. Jalbout, J. Comput. Theor. Nanosci. 5, 2247 (2008
10. M. Ibrahim, H. Elhaes, A. J. Hameed, A. F. Jalbout, and A. de Leon, J. Comput. Theor. Nanosci. 6, 85 (2009
11. M. Ibrahim, H. Elhaes, A. A. Khalil, A. F. Jalbout, and A. de Leon, J. Comput. Theor. Nanosci. 6, 80 (2009
12. H. Elhaes, M. Ibrahim, M. Sleim, J. Liu, and J. Huang, Sensor Lett. 7, 530 (2009
13. R. N. Goyal, V. K. Gupta, and N. Bachheti, Anal. Chim. Acta 597, 82 (2007
14. C. Tang, W. Zhu, H. Zou, A. Zhang, J. Gong, and C. Tao, Comput. Theor. Chem. 991, 154 (2012)
15. Z. Li, J. Zhang, Y. Zhou, S. Shuang, C. Dong, and M. M. F. Choi, Electrochim. Acta 76, 288 (2012)
16. J. T. Robinson, F. K. Perkins, E. S. Snow, Z. Wei, and P. E. Sheehan, Nano Lett. 8, 3137 (2008
17. R. Taylor, J. Fluorine Chem. 125, 359 (2004
18. P. S. Bhattacharya and K. P. Ghatak, Quantum Matter 1, 63 (2012)
19. I. Will, A. Ding, and Y. Xu, Quantum Matter 2, 17 (2013
20. Q. Zhao, Quantum Matter 2, 9 (2013
21. MOPAC 2002 Version 2.5.3, J. J. P. Stewart, Fujitsu Limited, Tokyo, Japan (2002)
22. C. C. J. Roothaan, Rev. Mod. Phys. 23, 69 (1951
23. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, Jr, J. A. Montgomery, T. Vreven, K. N. Kudin, J. C. Burant, J. M. Millam, S. S. Iyengar, J. Tomasi, V. Barone, B. Mennucci, M. Cossi, G. Scalmani, N. Rega, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, M. Klene, X. Li, J. E. Knox, H. P. Hratchian, J. B. Cross, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi,C. Pomelli, J. W. Ochterski, P. Y. Ayala, K. Morokuma, G. A. Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, V. G. Zakrzewski, S. Dapprich, A. D. Daniels, M. C. Strain, O. Farkas, D. K. Malick, A. D. Rabuck, K. Raghavachari, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, Q. Cui, A. G. Baboul, S. Clifford, J. Cioslowski, B. B. Stefanov, G. Liu, A. Liashenko, P. Piskorz, I. Komaromi, R. L. Martin, D. J. Fox, T. Keith, M. A. Al-Laham, C. Y. Peng, A. Nanayakkara, M. Challacombe, P. M. W. Gill, B. Johnson, W. Chen, M. W. Wong, C. Gonzalez, and J. A. Pople, Gaussian, Inc., Wallingford, CT (2003)