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Volumn 2, Issue 9, 2013, Pages 794-798

One-step production of anisotropically etched graphene using supercritical water

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EID: 84884320162     PISSN: None     EISSN: 21611653     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/mz400186t     Document Type: Article
Times cited : (9)

References (29)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.