-
2
-
-
84877002692
-
-
Gu, J. J.; Wang, X. W.; Wu, H.; Shao, J.; Neal, A. T.; Manfra, M. J.; Gordon, R. G.; Ye, P. D. IEEE Int. Electron Devices Meeting (IEDM) 2012, 27.6. 1-27.6. 4
-
(2012)
IEEE Int. Electron Devices Meeting (IEDM)
, pp. 2761-2764
-
-
Gu, J.J.1
Wang, X.W.2
Wu, H.3
Shao, J.4
Neal, A.T.5
Manfra, M.J.6
Gordon, R.G.7
Ye, P.D.8
-
3
-
-
35948929852
-
-
Noborisaka, J.; Sato, T.; Motohisa, J.; Hara, S.; Tomioka, K.; Fukui, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2007, 46, 7562
-
(2007)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.46
, pp. 7562
-
-
Noborisaka, J.1
Sato, T.2
Motohisa, J.3
Hara, S.4
Tomioka, K.5
Fukui, T.6
-
5
-
-
84862824521
-
-
Dowdy, R.; Walko, D. A.; Fortuna, S. A.; Li, X. IEEE Electron Device Lett. 2012, 33 (4) 522-524
-
(2012)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.33
, Issue.4
, pp. 522-524
-
-
Dowdy, R.1
Walko, D.A.2
Fortuna, S.A.3
Li, X.4
-
6
-
-
34547779456
-
-
Do, Q. T.; Blekker, K.; Regolin, I.; Prost, W.; Tegude, F. J. IEEE Electron Device Lett. 2007, 28 (8) 682-684
-
(2007)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.28
, Issue.8
, pp. 682-684
-
-
Do, Q.T.1
Blekker, K.2
Regolin, I.3
Prost, W.4
Tegude, F.J.5
-
7
-
-
40749151146
-
-
Thelander, C.; FrobergFroberg, L. E.; Rehnstedt, C.; Samuelson, L.; Wernersson, L. E. IEEE Electron Device Lett. 2008, 29 (3) 206-208
-
(2008)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.29
, Issue.3
, pp. 206-208
-
-
Thelander, C.1
Frobergfroberg, L.E.2
Rehnstedt, C.3
Samuelson, L.4
Wernersson, L.E.5
-
8
-
-
84861674649
-
-
Dey, A. W.; Thelander, C.; Lind, E.; Dick, K. A.; Borg, B. M.; Borgstrom, M.; Nilsson, P.; Wernersson, L. IEEE Electron Device Lett. 2012, 33 (6) 791-793
-
(2012)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.33
, Issue.6
, pp. 791-793
-
-
Dey, A.W.1
Thelander, C.2
Lind, E.3
Dick, K.A.4
Borg, B.M.5
Borgstrom, M.6
Nilsson, P.7
Wernersson, L.8
-
9
-
-
33745327664
-
-
Xiang, J.; Lu, W.; Hu, Y.; Wu, Y.; Yan, H.; Lieber, C. M. Nature 2006, 441 (7092) 489-493
-
(2006)
Nature
, vol.441
, Issue.7092
, pp. 489-493
-
-
Xiang, J.1
Lu, W.2
Hu, Y.3
Wu, Y.4
Yan, H.5
Lieber, C.M.6
-
10
-
-
33746893026
-
-
Li, Y.; Xiang, J.; Qian, F.; Gradecak, S.; Wu, Y.; Yan, H.; Blom, D. A.; Lieber, C. M. Nano Lett. 2006, 6 (7) 1468-1473
-
(2006)
Nano Lett.
, vol.6
, Issue.7
, pp. 1468-1473
-
-
Li, Y.1
Xiang, J.2
Qian, F.3
Gradecak, S.4
Wu, Y.5
Yan, H.6
Blom, D.A.7
Lieber, C.M.8
-
11
-
-
67349199146
-
-
Vandenbrouck, S.; Madjour, K.; Theron, D.; Dong, Y.; Li, Y.; Lieber, C. M.; Gaquiere, C. IEEE Electron Device Lett. 2009, 30 (4) 322-324
-
(2009)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.30
, Issue.4
, pp. 322-324
-
-
Vandenbrouck, S.1
Madjour, K.2
Theron, D.3
Dong, Y.4
Li, Y.5
Lieber, C.M.6
Gaquiere, C.7
-
13
-
-
75849144727
-
-
Nam, S. W.; Jiang, X.; Xiong, Q.; Ham, D.; Lieber, C. M. Proc. Natl. Acad. Sci. 2009, 106 (50) 21035-21038
-
(2009)
Proc. Natl. Acad. Sci.
, vol.106
, Issue.50
, pp. 21035-21038
-
-
Nam, S.W.1
Jiang, X.2
Xiong, Q.3
Ham, D.4
Lieber, C.M.5
-
14
-
-
67049098848
-
-
Perea, D. E.; Hemesath, E. R.; Schwalbach, E. J.; Lensch-Falk, J. L.; Voorhees, P. W.; Lauhon, L. J. Nat. Nanotechnol. 2009, 4 (5) 315-319
-
(2009)
Nat. Nanotechnol.
, vol.4
, Issue.5
, pp. 315-319
-
-
Perea, D.E.1
Hemesath, E.R.2
Schwalbach, E.J.3
Lensch-Falk, J.L.4
Voorhees, P.W.5
Lauhon, L.J.6
-
15
-
-
59349113596
-
-
Gutsche, C.; Regolin, I.; Blekker, K.; Lysov, A.; Prost, W.; Tegude, F. J. J. Appl. Phys. 2009, 105 (2) 024305-024305-5
-
(2009)
J. Appl. Phys.
, vol.105
, Issue.2
, pp. 024305-0243055
-
-
Gutsche, C.1
Regolin, I.2
Blekker, K.3
Lysov, A.4
Prost, W.5
Tegude, F.J.6
-
16
-
-
70349339234
-
-
Xie, P.; Hu, Y.; Fang, Y.; Huang, J.; Lieber, C. M. Proc. Natl. Acad. Sci. 2009, 106 (36) 15254-15258
-
(2009)
Proc. Natl. Acad. Sci.
, vol.106
, Issue.36
, pp. 15254-15258
-
-
Xie, P.1
Hu, Y.2
Fang, Y.3
Huang, J.4
Lieber, C.M.5
-
17
-
-
61649126465
-
-
Fortuna, S. A.; Wen, J.; Chun, I. S.; Li, X. Nano Lett. 2008, 8 (12) 4421-4427
-
(2008)
Nano Lett.
, vol.8
, Issue.12
, pp. 4421-4427
-
-
Fortuna, S.A.1
Wen, J.2
Chun, I.S.3
Li, X.4
-
19
-
-
84871534462
-
-
Dowdy, R. S.; Walko, D. A.; Li, X. Nanotechnology 2013, 24 (3) 035304
-
(2013)
Nanotechnology
, vol.24
, Issue.3
, pp. 035304
-
-
Dowdy, R.S.1
Walko, D.A.2
Li, X.3
-
20
-
-
33846393901
-
-
Xiong, Q.; Wang, J.; Eklund, P. C. Nano Lett. 2006, 6 (12) 2736-2742
-
(2006)
Nano Lett.
, vol.6
, Issue.12
, pp. 2736-2742
-
-
Xiong, Q.1
Wang, J.2
Eklund, P.C.3
-
21
-
-
56749115775
-
-
Algra, R. E.; Verheijen, M. A.; Borgstrom, M. T.; Feiner, L.-F.; Immink, G.; van Enckevort, W. J. P.; Vlieg, E.; Bakkers, E. P. A. M. Nature 2008, 456 (7220) 369-372
-
(2008)
Nature
, vol.456
, Issue.7220
, pp. 369-372
-
-
Algra, R.E.1
Verheijen, M.A.2
Borgstrom, M.T.3
Feiner, L.-F.4
Immink, G.5
Van Enckevort, W.J.P.6
Vlieg, E.7
Bakkers, E.P.A.M.8
-
22
-
-
58149269212
-
-
Caroff, P.; Dick, K. A.; Johansson, J.; Messing, M. E.; Deppert, K.; Samuelson, L. Nat. Nanotechnol. 2008, 4 (1) 50-55
-
(2008)
Nat. Nanotechnol.
, vol.4
, Issue.1
, pp. 50-55
-
-
Caroff, P.1
Dick, K.A.2
Johansson, J.3
Messing, M.E.4
Deppert, K.5
Samuelson, L.6
-
23
-
-
80051702746
-
-
Joyce, H. J.; Gao, Q.; Wong-Leung, J.; Kim, Y.; Tan, H. H.; Jagadish, C. IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 2011, 17 (4) 766-778
-
(2011)
IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron.
, vol.17
, Issue.4
, pp. 766-778
-
-
Joyce, H.J.1
Gao, Q.2
Wong-Leung, J.3
Kim, Y.4
Tan, H.H.5
Jagadish, C.6
-
24
-
-
34248191178
-
-
Joyce, H. J.; Gao, Q.; Tan, H. H.; Jagadish, C.; Kim, Y.; Zhang, X.; Guo, Y.; Zou, J. Nano Lett. 2007, 7 (4) 921-926
-
(2007)
Nano Lett.
, vol.7
, Issue.4
, pp. 921-926
-
-
Joyce, H.J.1
Gao, Q.2
Tan, H.H.3
Jagadish, C.4
Kim, Y.5
Zhang, X.6
Guo, Y.7
Zou, J.8
-
26
-
-
0023961304
-
-
Shahidi, G. G.; Antoniadis, D. A.; Smith, H. I. IEEE Electron Device Lett. 1988, 9 (2) 94-96
-
(1988)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.9
, Issue.2
, pp. 94-96
-
-
Shahidi, G.G.1
Antoniadis, D.A.2
Smith, H.I.3
-
27
-
-
0020203672
-
-
Drummond, T.; Morkoc, H.; Lee, K.; Shur, M. IEEE Electron Device Lett. 1982, 3 (11) 338-341
-
(1982)
IEEE Electron Device Lett.
, vol.3
, Issue.11
, pp. 338
-
-
Drummond, T.1
Morkoc, H.2
Lee, K.3
Shur, M.4
|