Highly stable graphene-based multilayer films immobilized via covalent bonds and their applications in organic field-effect transistors

Advanced Functional Materials

Volumn 23, Issue 19, 2013, Pages 2422-2435

  Ou, Xiaowei ^a   Jiang, Lang ^a   Chen, Penglei ^a,b   Zhu, Mingshan ^a   Hu, Wenping ^a   Liu, Minghua ^a   Zhu, Junfa ^c   Ju, Huanxin ^c  

^a INSTITUTE OF CHEMISTRY   (China)

^b ZHENGZHOU UNIVERSITY   (China)

^c UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY OF CHINA   (China)

Author keywords

covalent bonds; graphene based multilayered films; high stability; reproducibility

Indexed keywords

COVALENT CROSSLINKING; ELECTRICAL PERFORMANCE; MULTI-LAYERED FILMS; MULTILAYERS FILMS; ORGANIC FIELD-EFFECT TRANSISTOR (OFETS); REPRODUCIBILITIES; SOURCE/DRAIN ELECTRODES; STRUCTURAL CHARACTERISTICS;

COVALENT BONDS; CROSSLINKING; DISPLAY DEVICES; ELECTRODES; METALLIC FILMS; MULTILAYER FILMS; NANOSHEETS; ORGANIC FIELD EFFECT TRANSISTORS; PRODUCTION ENGINEERING; STABILITY; ULTRATHIN FILMS;

GRAPHENE;

EID: 84877727430     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201202586     Document Type: Article

References (75)

1. A. K. Geim, Science 2009, 324, 1530
2. C. N. R. Rao, A. K. Sood, S. K. Subrahmanyam, A. Govindaraj, Angew. Chem. 2009, 121, 7890
3. Angew. Chem., Int. Ed. 2009, 48, 7752
4. X. Huang, Z. Yin, S. Wu, X. Qi, Q. He, Q. Zhang, Q. Yan, F. Boey, H. Zhang, Small 2011, 7, 1876.
5. M. Pumera, Energy Environ. Sci. 2011, 4, 668
6. Y. Zhu, S. Murali, W. Cai, X. Li, J. W. Suk, J. R. Potts, R. S. Ruoff, Adv. Mater. 2010, 22, 3906
7. M. J. Allen, V. C. Tung, R. B. Kaner, Chem. Rev. 2010, 110, 132.
8. D. S. Hecht, L. Hu, G. Irvin, Adv. Mater. 2011, 23, 1482
9. G. Eda, M. Chhowalla, Adv. Mater. 2010, 22, 2392
10. F. Schwierz, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 487
11. P. Avouris, Nano Lett. 2010, 10, 4285
12. M. Segal, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 612.
13. D. R. Dreyer, C. W. Bielawski, Adv. Funct. Mater. 2012, 22, 3247
14. W. H. Lee, J. Park, S. H. Sim, S. Lim, K. S. Kim, B. H. Hong, K. Cho, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 4447
15. J. Park, W. H. Lee, S. Huh, S. H. Sim, S. B. Kim, K. Cho, B. H. Hong, K. S. Kim, J. Phys. Chem. Lett. 2011, 2, 841
16. A. Venugopal, L. Colombo, E. M. Vogel, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 013512.
17. F. Xia, V. Perebeinos, Y.-M. Lin, Y. Wu, P. Avouris, Nat. Nanotechnol. 2011, 6, 179
18. P. H. Wöbkenberg, G. Eda, D.-S. Leem, J. C. de Mello, D. D. C. Bradley, M. Chhowalla, T. D. Anthopoulos, Adv. Mater. 2011, 23, 1558
19. X. Li, X. Wang, L. Zhang, S. Lee, H. Dai, Science 2008, 319, 1229
20. X. Wang, X. Li, L. Zhang, Y. Yoon, P. K. Weber, H. Wang, J. Guo, H. Dai, Science 2009, 324, 768.
21. W. H. Lee, J. Park, S. H. Sim, S. B. Jo, K. S. Kim, B. H. Hong, K. Cho, Adv. Mater. 2011, 23, 1752
22. X. Li, Y. Zhu, W. Cai, M. Borysiak, B. Han, D. Chen, R. D. Piner, L. Colombo, R. S. Ruoff, Nano Lett. 2009, 9, 4359
23. P. Sutter, M. S. Hybertsen, J. T. Sadowski, E. Sutter, Nano Lett. 2009, 9, 2654.
24. L. J. Cote, F. Kim, J. Huang, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 1043
25. X. Li, G. Zhang, X. Bai, X. Sun, X. Wang, E. Wang, H. Dai, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 538
26. Z.-S. Wu, S. Pei, W. Ren, D. Tang, L. Gao, B. Liu, F. Li, C. Liu, H.-M. Cheng, Adv. Mater. 2009, 21, 1756
27. G. Eda, G. Fanchini, M. Chhowalla, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 270
28. S. Gilje, S. Han, M. Wang, K. L. Wang, R. B. Kaner, Nano Lett. 2007, 7, 3394.
29. S. Wang, P. K. Ang, Z. Wang, A. L. L. Tang, J. T. L. Thong, K. P. Loh, Nano Lett. 2010, 10, 92
30. H. A. Becerril, R. M. Stoltenberg, M. L. Tang, M. E. Roberts, Z. Liu, Y. Chen, D. H. Kim, B.-L. Lee, S. Lee, Z. Bao, ACS Nano 2010, 4, 6343
31. S. Pang, H. N. Tsao, X. Feng, K. Müllen, Adv. Mater. 2009, 21, 3488
32. Y. Chen, Y. Xu, K. Zhao, X. Wan, J. Deng, W. Yan, Nano Res. 2010, 3, 714
33. K. W. Putz, O. C. Compton, M. J. Palmeri, S. T. Nguyen, L. C. Brinson, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3322.
34. Y. Zhu, J. M. Tour, Nano Lett. 2010, 10, 4356
35. X. Zhao, Q. Zhang, Y. Hao, Y. Li, Y. Fang, D. Chen, Macromolecules 2010, 43, 9411
36. J. Shen, Y. Hu, C. Li, C. Qin, M. Shi, M. Ye, Langmuir 2009, 25, 6122
37. H. Li, S. Pang, S. Wu, X. Feng, K. Müllen, C. Bubeck, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 9423
38. X. Zhang, S. Li, X. Jin, S. Zhang, Chem. Commun. 2011, 47, 4929
39. f) K. K. Manga, Y. Zhou, Y. Yan, K. P. Loh, Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 3638
40. g) J. S. Park, S. M. Cho, W.-J. Kim, J. Park, P. J. Yoo, ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 360.
41. T.-K. Hong, D. W. Lee, H. J. Choi, H. S. Shin, B.-S. Kim, ACS Nano 2010, 4, 3861
42. D. Wang, X. Wang, Langmuir 2011, 27, 2007
43. C. Zhu, S. Guo, Y. Zhai, S. Dong, Langmuir 2010, 26, 7614
44. J. Liu, L. Tao, W. Yang, D. Li, C. Boyer, R. Wuhrer, F. Braet, T. P. Davis, Langmuir 2010, 26, 10068
45. H.-B. Yao, L.-H. Wu, C.-H. Cui, H.-Y. Fang, S.-H. Yu, J. Mater. Chem. 2010, 20, 5190
46. f) D. W. Lee, T.-K. Hong, D. Kang, J. Lee, M. Heo, J. Y. Kim, B.-S. Kim, H. S. Shin, J. Mater. Chem. 2011, 21, 3438.
47. D. E. Bergbreiter, K.-S. Liao, Soft Matter 2009, 5, 23
48. X. Zhang, H. Chen, H. Zhang, Chem. Commun. 2007, 1395
49. K. Ariga, J. P. Hill, Q. Ji, Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 2319.
50. S. Stankovich, D. A. Dikin, R. D. Piner, K. A. Kohlhaas, A. Kleinhammes, Y. Jia, Y. Wu, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Carbon 2007, 45, 1558
51. D. Yang, A. Velamakanni, G. Bozoklu, S. Park, M. Stoller, R. D. Piner, S. Stankovich, I. Jung, D. A. Field, C. A. Ventrice Jr., R. S. Ruoff, Carbon 2009, 47, 145.
52. J. Ou, J. Wang, S. Liu, B. Mu, J. Ren, H. Wang, S. Yang, Langmuir 2010, 26, 15830
53. H. Yang, F. Li, C. Shan, D. Han, Q. Zhang, L. Niu, A. Ivaska, J. Mater. Chem. 2009, 19, 4632
54. Y. Lin, J. Jin, M. Song, J. Mater. Chem. 2011, 21, 3455
55. D.-D. Zhang, S.-Z. Zua, B.-H. Han, Carbon 2009, 47, 2993
56. Y. K. Yap, S. Kida, T. Aoyama, Y. Mori, T. Sasaki, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 915.
57. O. Akhavan, E. Ghaderi, J. Phys. Chem. C 2009, 113, 20214
58. M. J. McAllister, J. L. Lio, D. H. Adamson, H. C. Schniepp, A. A. Abdala, J. Liu, M. Herrera-Alonso, D. L. Milius, R. Car, R. K. Prud'homme, I. A. Aksay, Chem. Mater. 2007, 19, 4396
59. H. C. Schniepp, J. L. Li, M. J. McAllister, H. Sai, M. Herrera-Alonso, D. H. Adamson, R. K. Prud'homme, R. Car, D. A. Saville, I. A. Aksay, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 8535.
60. D. Li, M. B. Müller, S. Gilje, R. B. Kaner, G. G. Wallace, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 101.
61. Q. Zheng, W. H. Ip, X. Lin, N. Yousefi, K. K. Yeung, Z. Li, J.-K. Kim, ACS Nano 2011, 5, 6039.
62. Q. B. Zheng, M. M. Gudarzi, S. J. Wang, Y. Geng, Z. Li, J.-K. Kim, Carbon 2011, 49, 2905.
63. O. C. Compton, D. A. Dikin, K. W. Putz, L. C. Brinson, S. T. Nguyen, Adv. Mater. 2010, 22, 892.
64. Q. Tang, H. Li, M. He, W. Hu, C. Liu, K. Chen, C. Wang, Y. Liu, D. Zhu, Adv. Mater. 2006, 18, 65
65. X. Duan, Q. Tang, J. Qiu, Y. Niu, Z. Wang, W. Hu, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 113301
66. Q. Tang, Y. Tong, H. Li, Z. Ji, L. Li, W. Hu, Y. Liu, D. Zhu, Adv. Mater. 2008, 20, 1511.
67. C.-A. Di, D. Wei, G. Yu, Y. Liu, Y. Guo, D. Zhu, Adv. Mater. 2008, 20, 3289
68. P. Yao, P. Chen, L. Jiang, H. Zhao, H. Zhu, D. Zhou, W. Hu, B.-H. Han, M. Liu, Adv. Mater. 2010, 22, 5008
69. Y. Cao, S. Liu, Q. Shen, K. Yan, P. Li, J. Xu, D. Yu, M. L. Steigerwald, C. Nuckolls, Z. Liu, X. Guo, Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 2743.
70. X. Feng, W. Zhao, H. Ju, L. Zhang, Y. Ye, W. Zhang, J. Zhu, Org. Electron. 2012, 13, 1060.
71. N. Koch, A. Kahn, J. Ghijsen, J.-J. Pireaux, J. Schwartz, R. L. Johnson, A. Elschner, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 70.
72. Y. Wang, X. Chen, Y. Zhong, F. Zhu, K. P. Loh, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 063302.
73. B. Kim, J. M. Beebe, Y. Jun, X.-Y. Zhu, C. D. Frisbie, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 4970.
74. W. S. Hummers, R. E. Offeman, J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 1339
75. M. Zhu, P. Chen, M. Liu, ACS Nano 2010, 5, 4529.