A mechanism for the addition of ethylene to nickel bis-dithiolene

International Journal of Quantum Chemistry

Volumn 113, Issue 11, 2013, Pages 1621-1625

  Shibl, Mohamed F ^a,c   Dang, Li ^b   Raju, Rajesh K ^a   Hall, Michael B ^b   Brothers, Edward N ^a  

^a TEXAS A AND M UNIVERSITY AT QATAR   (Qatar)

^b TEXAS A AND M UNIVERSITY   (United States)

^c CAIRO UNIVERSITY   (Egypt)

Author keywords

density functional theory; ethylene purification; nickel bis dithiolene complex

Indexed keywords

ADDITION PRODUCTS; BARRIER HEIGHTS; DENSITY FUNCTIONAL THEORY CALCULATIONS; LOWER ENERGIES; NEUTRAL SPECIES; NICKEL COMPLEX; STRUCTURAL CHANGE; STRUCTURAL PARAMETER;

DENSITY FUNCTIONAL THEORY; NICKEL; SULFUR;

ETHYLENE;

EID: 84876489712     PISSN: 00207608     EISSN: 1097461X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/qua.24370     Document Type: Article

References (20)

1. G. C. Blytas, In Separation and Purification Technology, N. N. Li, J. M. Calo, Eds.; Dekker; New York, 1992, pp. 19.
2. T. Suzuki, R. D. Nobel, C. A. Koval, Inorg. Chem. 1997, 36, 136.
3. K. Wang, E. I. Stiefel, Science, 2001, 912, 106.
4. G. E. Keller, A. E. Marcinkowsky, S. K. Verma, K. D. Williamson, In Separation and Purification Technology;, N. N. Li, J. M. Kalo, Eds.; M. Dekker: New York, 1992.
5. G. N. Schrauzer, V. P. Mayweg, J. Am. Chem. Soc. 1965, 87, 1483.
6. G. N. Schrauzer, H. N. Rabinowitz, J. Am. Chem. Soc. 1968, 90, 4297.
7. C. H. Zhang, K. Reddy, R. K. Chadha, G. N. Schrauzer, J. Coord. Chem. 1992, 26, 117.
8. R. D. Schmitt, R. M. Wing, A. H. Maki, J. Am. Chem. Soc. 1969, 91, 4394.
9. A. Herman, R. M. Wing, J. Organomet. Chem. 1973, 63, 441.
10. G. N. Schrauzer, R. K. Y. Ho, R. P. Murillo, J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 3508.
11. R. M. Wing, G. W. Tustin, W. H. Okamura, J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 1935.
12. Y. Fan, M. B. Hall, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 12076.
13. Q.-Z. Han, Y.-H. Zhao, H. Wen, Data Sci. J. 2007, 6, S837.
14. Q.-Z. Han, Y.-H. Zhao, H. Wen, Mol. Simul. 2008, 34, 631.
15. D. J. Harrison, N. Nguyen, A. J. Lough, U. M. Fekl, M. Kajitani, T. Kohara, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 11026.
16. L. Dang, M. F. Shibl, Y. Fan, A. Alak, D. J. Harrison, U. Fekl, E. N. Brothers, M. B. Hall, J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 4481.
17. L. Dang, X. Yang, J. Zhou, E. N. Brothers, M. B. Hall, J. Phys. Chem. A 2012, 116, 476.
18. J. D. Chai, M. Head-Gordon, Phys. Chem. Chem. Phys. 2008, 10, 6615.
19. R. Krishnan, J. S. Seeger, J. A. Pople, J. Chem. Phys. 1980, 72, 650.
20. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, G. Scalmani, V. Barone, B. Mennucci, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Caricato, X. Li, H. P. Hratchian, A. F. Izmaylov, J. Bloino, G. Zheng, J. L. Sonnenberg, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, T. Vreven, J. A. Montgomery, Jr., J. E. Peralta, F. Ogliaro, M. Bearpark, J. J. Heyd, E. Brothers, K. N. Kudin, V. N. Staroverov, R. Kobayashi, J. Normand, K. Raghavachari, A. Rendell, J. C. Burant, S. S. Iyengar, J. Tomasi, M. Cossi, N. Rega, J. M. Millam, M. Klene, J. E. Knox, J. B. Cross, V. Bakken, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski, R. L. Martin, K. Morokuma, V. G. Zakrzewski, G. A. Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, S. Dapprich, P. V. Parandekar, N. J. Mayhall, A. D. Daniels, O. Farkas, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, J. Cioslowski, D. J. Fox, Gaussian Development Version, Revision H.08, Gaussian, Inc., Wallingford CT, 2009.