Chlorination of reduced graphene oxide enhances the dielectric constant of reduced graphene oxide/polymer composites

Advanced Materials

Volumn 25, Issue 16, 2013, Pages 2308-2313

  Kim, Jin Young ^a   Lee, Wi Hyoung ^a,b   Suk, Ji Won ^a   Potts, Jeffrey R ^a   Chou, Harry ^a   Kholmanov, Iskandar N ^a   Piner, Richard D ^a   Lee, Jongho ^a   Akinwande, Deji ^a   Ruoff, Rodney S ^a  

^a The University of Texas at Austin   (United States)

^b Konkuk University   (South Korea)

Author keywords

chlorination; composite films; dielectric performance; polymers; reduced graphene oxide

Indexed keywords

DIELECTRIC PERFORMANCE; INTERFACIAL POLARIZATION; REDUCED GRAPHENE OXIDES;

CHLORINATION; GRAPHENE; POLYMERS;

COMPOSITE FILMS;

EID: 84876485032     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201300385     Document Type: Article

References (47)

1. Y. Zhu, S. Murali, W. Cai, X. Li, J. W. Suk, J. R. Potts, R. S. Ruoff, Adv. Mater. 2010, 22, 3906.
2. D. R. Dreyer, R. S. Ruoff, C. W. Bielawski, Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 9336.
3. S. Stankovich, D. A. Dikin, G. H. B. Dommett, K. M. Kohlhaas, E. J. Zimney, E. A. Stach, R. D. Piner, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Nature 2006, 442, 282.
4. X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, R. S. Ruoff, Science 2009, 324, 1312.
5. I. Meric, M. Y. Han, A. F. Young, B. Ozyilmaz, P. Kim, K. L. Shepard, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 654.
6. C. Liu, Z. Yu, D. Neff, A. Zhamu, B. Z. Jang, Nano Lett. 2010, 10, 4863.
7. H. Chang, Z. Sun, K. Y.-F. Ho, X. Tao, F. Yan, W.-M. Kwok, Z. Zheng, Nanoscale 2011, 3, 258.
8. C. Gomez-Navarro, R. T. Weitz, A. M. Bittner, M. Scolari, A. Mews, M. Burghard, K. Kern, Nano Lett. 2007, 7, 3499.
9. S. Park, J. An, I. Jung, R. D. Piner, S. J. An, X. Li, A. Velamakanni, R. S. Ruoff, Nano Lett. 2009, 9, 1593.
10. H. A. Becerril, J. Mao, Z. Liu, R. M. Stoltenberg, Z. Bao, Y. Chen, ACS Nano 2008, 2, 463.
11. G. EDA, G. Fanchini, M. Chhowalla, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 270.
12. I. N. Kholmanov, M. D. Stoller, J. Edgeworth, W. H. Lee, H. Li, J. Lee, C. Barnhart, J. R. Potts, R. Piner, D. Akinwande, J. E. Barrick, R. S. Ruoff, ACS Nano 2012, 6, 5157.
13. X. Zhu, Y. Zhu, S. Murali, M. D. Stoller, R. S. Ruoff, ACS Nano 2011, 5, 3333.
14. D. M. Grannan, J. C. Garland, D. B. Tanner, Phys. Rev. Lett. 1981, 46, 375.
15. Y. Song, T. W. Noh, S. Lee, J. R. Gaines, Phys. Rev. B 1986, 33, 904.
16. C. Pecharroman, J. S. Moya, Adv. Mater. 2000, 12, 294.
17. Z.-M. Dang, B. Peng, D. Xie, S.-H. Yao, M.-J. Jiang, J. Bai, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 112910.
18. T.-M. Wu, Y.-W. Lim, C.-S. Liao, Carbon 2005, 43, 734.
19. Z.-M. Dang, J.-P. Wu, H.-P. Xu, S.-H. Yao, M.-J. Jiang, J. Bai, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 072912.
20. M. Moniruzzaman, K. I. Winey, Macromolecules 2006, 39, 5194.
21. G. Chen, D. Wu, W. Weng, C. Wu, Carbon 2003, 41, 579.
22. J. R. Potts, D. R. Dreyer, C. W. Bielawski, R. S. Ruoff, Polymer 2011, 52, 5.
23. C. Pecharroman, F. Esteban-Betegon, J. F. Bartolome, S. Lopez-Esteban, J. S. Moya, Adv. Mater. 2001, 13, 1541.
24. Z.-M. Dang, Y.-H. Lin, C.-W. Nan, Adv. Mater. 2003, 15, 1625.
25. L. Qi, B. I. Lee, S. Chen, W. D. Samuels, G. J. Exarhos, Adv. Mater. 2005, 17, 1777.
26. I. Horcas, R. Fernandez, J. M. Gomez-Rodriguez, J. Colchero, J. Gomez-Herrero, A. M. Baro, Rev. Sci. Instrum. 2007, 78, 013705.
27. S. Park, J. An, J. R. Potts, A. Velamakanni, S. Murali, R. S. Ruoff, Carbon 2011, 49, 3019.
28. D.-W. Wang, K.-H. Wu, I. R. Gentle, G. Q. Lu, Carbon 2012, 50, 3333.
29. C.-Y. Su, Y. Xu, W. Zhang, J. Zhao, X. Tang, C.-H. Tsai, L.-J. Li, Chem. Mater. 2009, 21, 5674.
30. S. Dubin, S. Gilje, K. Wang, V. C. Tung, K. Cha, A. S. Hall, J. Farrar, R. Varshneya, Y. Yang, R. B. Kaner, ACS Nano 2010, 4, 3845.
31. S. Stankovich, D. A. Dikin, R. D. Piner, K. A. Kohlhaas, A. Kleinhammes, Y. Jia, Y. Wu, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Carbon 2007, 45, 1558.
32. M. Dresselhaus, A. Jorio, M. Hofmann, G. Dresselhaus, R. Saito, Nano Lett. 2010, 10, 751.
33. H. C. Schniepp, J.-L. Li, M. J. McAlloster, H. Sai, M. Herrera-Alonso, D. H. Adamson, R. K. Prud'homme, R. Car, D. A. Saville, I. A. Aksay, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 8535.
34. M. A. Pimenta, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, L. G. Cancado, A. Jorio, R. Saito, Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 1276.
35. A. Das, S. Pisana, B. Chakraborty, S. Piscanec, S. K. Saha, U. V. Waghmare, K. S. Novoselov, H. R. Krishnamurthy, A. K. Geim, A. C. Ferrari, A. K. Sood, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 210.
36. C. Zhang, L. Fu, N. Liu, M. Liu, Y. Wang, Z. Liu, Adv. Mater. 2011, 23, 1020.
37. L. S. Panchakarla, K. S. Subrahmanyam, S. K. Saha, A. Govindaraj, H. R. Krishnamurthy, U. V. Waghmare, C. N. R. Rao, Adv. Mater. 2009, 21, 4726.
38. L. G. Cancado, K. Takai, T. Enoki, M. Endo, Y. A. Kim, H. Mizusaki, A. Jorio, L. N. Coelho, R. Magalhaes-Paniago, M. A. Pimenta, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 163106.
39. H. Wang, T. Maiyalagan, X. Wang, ACS Catal. 2012, 2, 781.
40. K. R. Moonoosawmy, P. Kruse, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 13417.
41. C.-W. Nan, Y. Shen, J. Ma, Annu. Rev. Mater. Res. 2010, 40, 131.
42. C. Y. Chen, R. J. Birgeneau, M. A. Kastner, N. W. Preyer, T. Thio, Phys. Rev. B 1991, 43, 392.
43. M.-J. Jiang, Z.-M. Dang, M. Bozlar, F. Miomandre, J. Bai, J. Appl. Phys. 2009, 106, 084902.
44. J. Wu, L. Xie, Y. Li, H. Wang, Y. Ouyang, J. Guo, H. Dai, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 19668.
45. S. Tongay, K. Berke, M. Lemaitre, Z. Nasrollahi, D. B. Tanner, A. F. Hebard, B. R. Appleton, Nanotechnology 2011, 22, 425701.
46. K. K. Kim, A. Reina, Y. Shi, H. Park, L.-J. Li, Y. H. Lee, J. Kong, Nanotechnology 2010, 21, 285205.
47. Z.-M. Dang, Y.-H. Zhang, S.-C. Tjong, Synth. Met. 2004, 146, 79.