Procedure of removing polymer residues and its influences on electronic and structural characteristics of graphene

Applied Physics Letters

Volumn 102, Issue 9, 2013, Pages

  Ahn, Youngkun ^a   Kim, Hyein ^b   Kim, Young Hwan ^a   Yi, Yeonjin ^b   Kim, Seong Il ^a  

^a Korea Institute of Science and Technology   (South Korea)

^b Yonsei University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING PROCESS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHODS; EFFECTIVE REMOVALS; P-DOPING; POLYMER RESIDUE; POST ANNEALING; STRUCTURAL CHARACTERISTICS;

ACRYLIC MONOMERS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DEPOLYMERIZATION; ELECTRONIC PROPERTIES; ESTERS; FUNCTIONAL GROUPS; MONOLAYERS; PHOTOELECTRONS; RAMAN SPECTROSCOPY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

GRAPHENE;

EID: 84875137497     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4794900     Document Type: Article

References (30)

1. A. H. C. Neto, F. Guinea, N. M. R. Peres, K. S. Novoselov, and A. K. Geim, Rev. Mod. Phys. 81 (1), 109-162 (2009). 10.1103/RevModPhys.81.109
2. A. A. Balandin, S. Gosh, W. Bao, I. Calizo, D. Teweldebrhan, F. Miao, and C. N. Lau, Nano Lett. 8 (3), 902-907 (2008). 10.1021/nl0731872
3. C. Lee, X. Wei, J. Kysar, and J. Hone, Science 321, 385-388 (2008). 10.1126/science.1157996
4. X. Li, Y. Zhu, W. Cai, M. Borysiak, B. Han, D. Chen, R. D. Piner, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Nano Lett. 9 (12), 4359-4363 (2009). 10.1021/nl902623y
5. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov, Science 306, 666-669 (2004). 10.1126/science.1102896
6. Y. Dam, Y. Le, N. J. Kybert, Z. Luo, and A. T. C. Johnson, Nano Lett. 9 (4), 1472-1475 (2009) 10.1021/nl8033637.
7. H. J. Yoon, D. H. Jun, J. H. Yang. Z. Zhou, S. S. Yang, and M. M.-C. Cheng, Sens. Actuators B 157, 310-313 (2011). 10.1016/j.snb.2011.03.035
8. H. Cao, Q. Yu, L. A. Jauregui, J. Tian, W. Wu, Z. Liu, R. Jalilan, D. K. Benjamin, Z. Jiang, J. Bao, S. S. Pei, and Y. P. Chen, Appl. Phys. Lett. 96, 122106 (2010). 10.1063/1.3371684
9. H. Yang, J. Heo, S. Park, H. J. Song, D. H. Seo, K.-E. Byun, P. Kim, I. Yoo, H.-J. Chung, and K. Kim, Science 336, 1140-1143 (2012). 10.1126/science.1220527
10. W. Han, K. Pi, W. Bao, K. M. McCreary, Y. Li, W. H. Wang, C. N. Lau, and R. K. Kawakami, Appl. Phys. Lett. 94, 222109 (2009). 10.1063/1.3147203
11. X. Li, H. Zhu, K. Wang, A. Cao, J. Wei, C. Li, Y. Jia, Z. Li, X. Li, and D. Wu, Adv. Mater. 22, 2743-2748 (2010). 10.1002/adma.200904383
12. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J.-H. Ahn, P. Kim, J.-Y. Choi, and B. H. Hong, Nature 457, 706-710 (2009). 10.1038/nature07719
13. X. Wang, L. Zhi, and K. Mllen, Nano Lett. 8 (1), 323-327 (2008). 10.1021/nl072838r
14. X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 324, 1312 (2009). 10.1126/science.1171245
15. S. Bae, H. Kim, Y. Lee, X. Xu, J.-S. Park, Y. Zheng, J. Balakrishnan, T. Lei, H. R. Kim, Y. I. Song, Y.-J. Kim, K. S. Kim, B. Ozyilmaz, J.-H. Ahn, B. H. Hong, and S. Lijima, Nat. Nanotechnol. 5, 574-578 (2010). 10.1038/nnano.2010.132
16. K. V. Emtsev, A. Bostwick, K. Horn, J. Jobst, G. L. Kellogg, L. Ley, J. L. McChesney, T. Ohta, S. A. Reshanov, J. Rohl, E. Rotenberg, A. K. Schmid, D. Waldmann, H. B. Weber, and T. Seyller, Nature Mater. 8, 203-207 (2009). 10.1038/nmat2382
17. G. Eda, G. Fanchini, and M. Chhowalla, Nat. Nanotechnol. 3, 270-274 (2008). 10.1038/nnano.2008.83
18. A. N. Obraztsov, Nat. Nanotechnol. 4, 212-213 (2009). 10.1038/nnano.2009.67
19. J. W. Suk, A. Kitt, C. W. Magnuson, Y. Hao, S. Ahmed, J. An, A. K. Swan, B. B. Goldberg, and R. S. Ruoff, ACS Nano 5 (9), 6916-6924 (2011). 10.1021/nn201207c
20. A. Pirkle, J. Chan, A. Venugopal, D. Hinojos, C. W. Magnuson, S. McDonnell, L. Colombo, E. M. Vogel, R. S. Ruoff, and R. M. Wallace, Appl. Phys. Lett. 99, 122108 (2011). 10.1063/1.3643444
21. Y.-C. Lin, C.-C. Lu, C.-H. Yeh, C. Jin, K. Suenaga, and P.-W. Chiu, Nano Lett. 12, 414-419 (2012). 10.1021/nl203733r
22. C. Pirlot, I. Willems, A. Fonseca, J. B. Nagy, and J. Delhale, Adv. Eng. Mater. 4 (3), 109-114 (2002). 10.1002/1527-2648(200203)4:3<109::AID- ADEM109>3.0.CO;2-5
23. T. Gross, A. Lippitz, W. E. S. Unger, C. Woll, G. Hahner, and W. Braun, Appl. Surf. Sci. 68, 291-298 (1993). 10.1016/0169-4332(93)90248-A
24. M. N. Hedhili, B. V. Yakshinskiy, R. Wasielewski, A. Ciszewski, and T. E. Madey, J. Chem. Phys. 128, 174704 (2008). 10.1063/1.2908821
25. F. OuYang, B. Huang, Z. Li, J. Xiao, H. Wang, and H. Xu, J. Phys. Chem. C. 112, 12003-12007 (2008). 10.1021/jp710547x
26. R. S. Pantelic, J. W. Suk, Y. Hao, R. S. Ruoff, and H. Stahlberg, Nano Lett. 11 (10), 4319-4323 (2011). 10.1021/nl202386p
27. Z. H. Ni, H. M. Wang, Y. Ma, J. Kasim, Y. H. Wu, and Z. X. Shen, ACS Nano 2 (5), 1033-1039 (2008). 10.1021/nn800031m
28. S. Ryu, L. Liu, S. Berciaud, Y.-J. Yu, H. Liu, P. Kim, G. W. Flynn, and L. E. Brus, Nano Lett. 10, 4944-4951 (2010). 10.1021/nl1029607
29. X. Xiao, T. E. Beechem, M. T. Brumbach, T. N. Lambert, D. J. Davis, J. R. Michael, C. M. Washburn, J. Wang, S. M. Brozik, D. R. Wheeler, D. B. Burckel, and R. Polsky, ACS Nano 6 (4), 3573-3579 (2012). 10.1021/nn300655c
30. Z. H. Ni, H. M. Wang, Z. Q. Luo, Y. Y. Wang, T. Yu, Y. H. Wu, and Z. X. Shen, J. Raman Spectrosc. 41, 479-483 (2010) 10.1002/jrs.2485.