Fabrication and characterization of dielectric nanocube self-assembled structures

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 51, Issue 9 PART 2, 2012, Pages

  Mimura, Ken Ichi ^a   Kato, Kazumi ^a   Imai, Hiroaki ^b   Wada, Satoshi ^c   Haneda, Hajime ^d   Kuwabara, Makoto ^e  

^a NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

^b KEIO UNIVERSITY   (Japan)

^c UNIVERSITY OF YAMANASHI   (Japan)

^d NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

^e KYUSHU UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BATIO; FACE TO FACE; LATTICE STRAIN; NANOCUBES; NONLINEAR CURVES; PARAELECTRICS; PIEZORESPONSE; POLING FIELD; SELF ASSEMBLED STRUCTURES; SI SUBSTRATES; SOLUTION SELF-ASSEMBLY;

MIXTURES; PLATINUM; SCANNING PROBE MICROSCOPY; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

FERROELECTRIC MATERIALS;

EID: 84867795521     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.51.09LC03     Document Type: Conference Paper

References (30)

1. Y. Sakai, T. Futakuchi, and M. Adachi: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09NA02.
2. Y. Doshida, H. Shimizu, Y. Mizuno, K. Itoh, S. Hirose, and H. Tamura: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09ND06.
3. A. Hieno, W. Sakamoto, M. Moriya, and T. Yogo: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09NB04.
4. J. Kaneshiro and Y. Uesu: Jpn. J. Appl. Phys. 49 (2010) 09ME02.
5. T. Shiraishi, H. Einishi, S. Yasui, M. Ishikawa, T. Hasegawa, M. Kurosawa, H. Uchida, Y. Sakashita, and H. Funakubo: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09ND11.
6. J. H. Park, Y. Kawakami, M. Suzuki, and J. Akedo: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09ND19.
7. H. Kishi, Y. Mizuno, and H. Chazono: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 1.
8. B. Huybrechts, K. Ishizaki, and M. Takata: J. Mater. Sci. 30 (1995) 2463.
9. T. Tsurumi, T. Harigai, D. Tanaka, H. Kakemoto, and S. Wada: Sci. Technol. Adv. Mater. 5 (2004) 425.
10. A. Q. Jiang, J. F. Scott, H. Lu, and Z. Chen: J. Appl. Phys. 93 (2003) 1180.
11. R. Tangirala, J. L. Baker, A. P. Alivisatos, and D. J. Milliron: Angew. Chem., Int. Ed. 49 (2010) 2878.
12. X. Wang, J. Zhuang, Q. Peng, and Y. Li: Nature 437 (2005) 121.
13. E. V. Shevchenko, D. V. Talapin, N. A. Kotov, S. O'Brien, and C. B. Murray: Nature 439 (2006) 55.
14. P. Li, C. Nan, Z. Wei, J. Lu, Q. Peng, and Y. Li: Chem. Mater. 22 (2010) 4232.
15. H. G. Yang, G. Liu, S. Z. Qiao, C. H. Sun, Y. G. Jin, S. C. Smith, J. Zou, H. M. Cheng, and G. Q. Lu: J. Am. Chem. Soc. 131 (2009) 4078.
16. F. Dang, K. Kato, H. Imai, S. Wada, H. Haneda, and M. Kuwabara: Cryst. Growth Des. 10 (2010) 4537.
17. B. W. Li, M. Osada, K. Akatsuka, Y. Ebina, T. C. Ozawa, and T. Sasaki: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09NA10.
18. S. Adireddy, C. Lin, B. Cao, W. Zhou, and G. Caruntu: Chem. Mater. 22 (2010) 1946.
19. K. Fujinami, K. Katagiri, J. Kamiya, T. Hamanaka, and K. Koumoto: Nanoscale 2 (2010) 2080.
20. F. Dang, K. Mimura, K. Kato, H. Imai, S. Wada, H. Haneda, and M. Kuwabara: CrystEngComm 13 (2011) 3878.
21. F. Dang, K. Mimura, K. Kato, H. Imai, S. Wada, H. Haneda, and M. Kuwabara: Nanoscale 4 (2012) 1344.
22. K. Mimura, F. Dang, K. Kato, H. Imai, S. Wada, H. Haneda, and M. Kuwabara: Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 09NC09.
23. K. Mimura, F. Dang, K. Kato, H. Imai, S. Wada, H. Haneda, and M. Kuwabara: J. Nanosci. Nanotechnol. 12 (2012) 3853.
24. K. Mimura, K. Kato, H. Imai, S. Wada, H. Haneda, and M. Kuwabara: Appl. Phys. Lett. 101 (2012) 012901.
25. D. Fu, K. Suzuki, and K. Kato: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) L1103.
26. F. K. Lotgering: J. Inorg. Nucl. Chem. 9 (1959) 113.
27. K. S. Cho, D. V. Talapin, W. Gaschler, and C. B. Murray: J. Am. Chem. Soc. 127 (2005) 7140.
28. Y. Yin and A. P. Alivisatos: Nature 437 (2005) 664.
29. B. Sadtler, D. O. Demchenko, H. Zheng, S. M. Hughes, M. G. Merkle, U. Dahmen, L. W. Wang, and A. P. Alivisatos: J. Am. Chem. Soc. 131 (2009) 5285.
30. H. Zheng, R. K. Smith, Y. W. Jun, C. Kisielowski, U. Dahmen, and A. P. Alivisatos: Science 324 (2009) 1309.