Electrochemical degradation of phenol on the La and Ru doped Ti/SnO 2-Sb electrodes

Korean Journal of Chemical Engineering

Volumn 29, Issue 9, 2012, Pages 1178-1186

  Xu, Haiqing ^a,b   Li, Ai Ping ^b   Qi, Qi ^a,c   Jiang, Wei ^a   Sun, Yue Ming ^a  

^a SOUTHEAST UNIVERSITY   (China)

^b HUAIYIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (China)

^c ZHEJIANG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Electrochemical Oxidation; Phenol Degradation; Ti SnO 2 Sb La; Ti SnO 2 Sb Ru

Indexed keywords

EID: 84865811143     PISSN: 02561115     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s11814-012-0014-3     Document Type: Article

References (49)

1. M. A. Maluleke and V. M. Linkov, Sep. Purif. Technol., 32, 377 (2003).
2. R. Levi, M. Milman, M. V. Landau, A. Brenner and M. Herskowitz, Environ. Sci. Technol., 42, 5165 (2008).
3. S. Hammami, N. Oturan, N. Bellakhal, M. Dachraoui and A. M. Oturan, J. Electroanal. Chem., 610, 75 (2007).
4. T. C. An, X. H. Zhu and Y. Xiong, Chemosphere, 46, 897 (2002).
5. Y. Lee, Y. Kim, H. Jeong, M. K. Yeo and M. Kang, Bull. Korean Chem. Soc., 30, 107 (2009).
6. S. M. Lam, J. C. Sin and A. R. Mohamed, Korean J. Chem. Eng., 27, 1109 (2010).
7. J. H. Park, Y. S. Seo, H. S. Kim and I. K. Kim, Korean J. Chem. Eng., 28, 1693 (2011).
8. L. Szpyrkowicz, S. N. Kaul, R. N. Neti and S. Satyanarayan, Water Res., 39, 1601 (2005).
9. M. Panizza, M. Delucchi and G. Cerisola, J. Appl. Electrochem., 35, 357(2005).
10. P. Cañizares, J. A. Domínguez, M. A. Rodrigo, J. Villaseñor and J. Rodríguez, Ind. Eng. Chem. Res., 38, 3779 (1999).
11. Y. Xiong, C. He, H. T. Karlsson and X. H. Zhu, Chemosphere, 50, 131 (2003).
12. O. Simond and C. Comninellis, Electrochim. Acra, 42, 2013 (1997).
13. H. C. Ma, C. P. Liu, J. H. Liao, Y. Su, X. Z. Xue and W. Xing, J. Mol. Catal. A: Chem., 247, 7 (2006).
14. M. VukoviĆ, D. Marijan, D. Čukman, P. Pervan and M. Milun, J. Mater. Sci., 34, 869 (1999).
15. C. Comninellis and G. P. Vercesi, J. Appl. Electrochem., 21, 335 (1991).
16. P. Duverneuil, F. Maury, N. Pebere, F. Senocq and H. Vergnes, Surf. Coat. Technol., 151-152, 9 (2002).
17. C. L. P. S. Zanta, P. A. Michaud, C. Comninellis, A. R. De Andrade and J. F. C. Boodts, J. Appl. Electrochem., 33, 1211 (2003).
18. C. R. Costa, C. M. R. Botta, E. L. G. Espindola and P. Olivi, J. Hazard. Mater., 153, 616 (2008).
19. B. Hadjarab, A. Bouguelia, A. Benchettara and M. Trari, J. Alloy. Compd., 461, 360 (2008).
20. L. Lipp and D. Pletcher, Electrochim. Acta, 42, 1091 (1997).
21. B. Correa-Lozano, C. Comninellis and A. D. De-Battisti, J. Appl. Electrochem., 26, 683 (1996).
22. L. L. Houk, S. K. Johnson, J. Feng, R. S. Houk and D. C. Johnson, J. Appl. Electrochem., 28, 1167n (1998).
23. Y. H. Wang, K. Y. Chan, X. Y. Li and S. K. So, Chemosphere, 65, 1087 (2006).
24. S. K. Johnson, L. L. Houk, J. R. Feng, R. S. Houk and D. C. Johnson, Environ. Sci. Technol., 33, 2638 (1999).
25. M. E. Makgae, C. C. Theron, W. J. Przybylowicz and A. M. Crouch, Mater. Chem. Phys., 92, 559 (2005).
26. Y. J. Feng, Y. H. Cui, L. Bruce and Z. Liu, Chemosphere, 70, 1629 (2008).
27. S. Ardizzone, C. L. Bianchi, G. Cappelletti, M. Ionita, A. Minguzzi, S. Rondinini and A. Vertova, J. Electroanal. Chem., 589 160 (2006).
28. N. Matyasovszky, M. Tian and A. Chen, J. Phys. Chem. A, 113, 9348 (2009).
29. M. E. Makgae, M. J. Klink and A. M. Crouch, Appl. Catal. B: Environ., 84, 659 (2008).
30. F. Montilla, E. Morallon, A. De Battisti, S. Barison, S. Daolio and J. L. Vazquez, J. Phys. Chem. B, 108, 15976 (2004).
31. A. Weibel, R. Bouchet, F. Boulc'h and P. Knauth, Chem. Mater., 17, 2378 (2005).
32. G. E. S. Brito, S. H. Pulcinelli and C. V. Santilli, J. Mater. Sci., 31, 4087 (1996).
33. B. Correalozano, C. Comninellis and A. De Battisti, J. Electrochem. Soc., 143, 203 (1996).
34. B. M. Trost, C. Chan and G. Ruhter, J. Am. Chem. Soc., 109, 3486 (1987).
35. K. Srinivas, M. Vithal, B. Sreedhar, M. M. Raja and P. V. Reddy, J. Phys. Chem. C, 113, 3543 (2009).
36. S. Yang, Y. Feng, J. Wan, W. Zhu and Z. Jiang, Appl. Surf. Sci., 246, 222 (2005).
37. S. Fierro, T. Nagel, H. Baltruschat and C. Comninellis, Electrochem. Commun., 9, 1969 (2007).
38. C. Mousty, G. Fóti, Ch. Comninellis and V. Reid, Electrochim. Acta, 45, 451 (1999).
39. J. Li, A. Cassell, L. Delzeit, J. Han and M. Meyyappan, J. Phys. Chem. B, 106, 9299 (2002).
40. C. L. P. S. Zanta, A. R. De Andrade and J. F. C. Boodts, J. Appl. Electrochem., 30, 467 (2000).
41. D. T. Cestarolli and A. R. De Andrade, Electrochim. Acta, 48, 4137 (2003).
42. Q. F. Yi, W. Huang, J. J. Zhang, X. P. Liu and L. Li, J. Electroanal. Chem., 610, 163 (2007).
43. E. Rasten, G. Hagen and R. Tunold, Electrochim. Acta, 48, 3945 (2003).
44. C. Karunakaran, P. Gomathisankar and G. Manikandan, Korean J. Chem. Eng., 28, 1214 (2011).
45. Z. G. Ye, H. M. Meng, D. Chen, H. Y. Yu, Z. S. Huan, X. D. Wang and D. B. Sun, Solid State Sci., 10, 346 (2008).
46. X. P. Zhu, S. Y. Shi, J. J. Wei, F. X. Lv, H. Z. Zhao, J. T. Kong, Q. He and J. N. Ni, Environ. Sci. Technol., 41, 6541 (2007).
47. O. Chailapakul, E. Popa, H. Tai, B. V. Sarada and D. A. Tryk, Electrochem. Commun., 2, 422 (2000).
48. H. J. Jung, J. S. Hong and J. K. Suh, Korean J. Chem. Eng., 28, 1882 (2011).
49. S. Fierro, T. Nagel, H. Baltruschat and C. Comninellis, Electrochem. Commun., 9, 1969 (2007).