Microstructure evolution and device performance in solution-processed polymeric field-effect transistors: The key role of the first monolayer

Journal of the American Chemical Society

Volumn 134, Issue 9, 2012, Pages 4015-4018

  Wang, Suhao ^a   Kiersnowski, Adam ^a,b   Pisula, Wojciech ^a   Müllen, Klaus ^a  

^a MAX PLANCK INSTITUTE FOR POLYMER RESEARCH   (Germany)

^b WROCLAW UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Poland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALIGNMENT DIRECTION; DEVICE PERFORMANCE; DIP COATING; FURTHER DEVELOPMENT; MICROSTRUCTURE EVOLUTIONS; MULTI-LAYER NETWORK; POLYMER CHAINS; POLYMER MICROSTRUCTURES; SOLUTION DEPOSITION; SOLUTION-PROCESSED; STRUCTURAL ANISOTROPY;

CARRIER TRANSPORT; MESFET DEVICES; MICROSTRUCTURE; MONOLAYERS; PLASTIC COATINGS; SOLVENTS; THIOPHENE;

POLYMERIC FILMS;

POLY[2,5 BIS(3 ALKYLTHIOPHEN 2 YL)THIENO[3,2 B]THIOPHENE]; POLYMER; UNCLASSIFIED DRUG;

ANISOTROPY; ARTICLE; BIOACCUMULATION; DEVICES; FIELD EFFECT TRANSISTOR; FILM; MATERIAL COATING; MATERIALS TESTING; MICROSTRUCTURE; TRANSPORT KINETICS; VELOCITY;

EID: 84863281661     PISSN: 00027863     EISSN: 15205126     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja211630w     Document Type: Article

References (34)

1. (a) Sirringhaus, H.; Tessler, N.; Friend, R. H. Science 1998, 280, 1741.
2. (b) Huitena, H. E. A.; Gelinck, G. H.; van der Putter, J. B. P. H.; Kuijk, K. E.; Hart, C. M.; Cantatore, E.; Herwig, P. T.; van Breemen, A. J. J. M.; de Leeuw, D. M. Nature 2001, 414, 599.
3. (c) Facchetti, A.; Yoon, M.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2005, 17, 1705.
4. (d) McCulloch, I.; Heeney, M.; Bailey, C.; Genevicius, K.; MacDonald, I.; Shkunov, M.; Sparrowe, D.; Tierney, S.; Wagner, R.; Zhang, W.; Chabinyc, M. L.; Kline, J. R.; McGehee, M. D.; Toney, M. F. Nat. Mater. 2006, 5, 328-333.
5. (e) Berggren, M.; Nilsson, D.; Robinson, N. D. Nat. Mater. 2007, 6, 3.
6. (f) Liu, S.; Wang, W. M.; Briseno, A. L.; Mannsfeld, S. C. B.; Bao, Z. Adv. Mater. 2009, 21, 1217.
7. (g) Di, C.; Liu, Y.; Yu, G.; Zhu, D. Acc. Chem. Res. 2009, 42, 1573.
8. (h) Tsao, H. N.; Müllen, K. Chem. Soc. Rev. 2010, 39, 2372.
9. (i) Facchetti, A. Chem. Mater. 2011, 23, 733.
10. (a) Dodabalapur, A.; Torsi, L.; Katz, H. Science 1995, 268, 270.
11. (b) Sirringhaus, H.; Brown, P. J.; Friend, R. H.; Nielsen, M. M.; Bechgaard, K.; Langeveld-Voss, B. M. W.; Spiering, A. J. H.; Janssen, R. A. J.; Meijer, E. W.; Herwig, P.; de Leeuw, D. M. Nature 1999, 401, 685.
12. (c) Xiao, K.; Liu, Y. Q.; Huang, X. B.; Xu, Y.; Yu, G.; Zhu, D. B. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 9226.
13. (d) Locklin, J.; Shino, K.; Onishi, K.; Kaneko, F.; Bao, Z. N.; Advincula, R. C. Chem. Mater. 2003, 15, 1404.
14. (e) Dinelli, F.; Murgia, M.; Levy, P.; Cavallini, M.; Biscarini, F.; de Leeuw, D. M. Phys. Rev. Lett. 2004, 92, No. 116802.
15. (f) Ruiz, A.; Papadimitratos, A.; Mayer, A. C.; Malliaras, G. G. Adv. Mater. 2005, 17, 1795.
16. (g) Huang, J.; Sun, J.; Katz, H. E. Adv. Mater. 2008, 20, 2567.
17. (h) Mathijssen, S. G. J.; Smits, E. C. P.; van Hal, P. A.; Wondergem, H. J.; Ponomarenko, S. A.; Moser, A.; Resel, R.; Bobbert, P. A.; Kemerink, M.; Janssen, R. A. J.; de Leeuw, D. M. Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 674.
18. (i) Li, L.; Gao, P.; Schuermann, K. C.; Ostendorp, S.; Wang, W.; Du, C.; Lei, Y.; Fuchs, H.; Cola, L. D.; Müllen, K; Chi, L. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 8807.
19. (j) Fabiano, S.; Musumeci, C.; Chen, Z.; Scandurra, A.; Wang, H.; Loo, Y.; Facchetti, A.; Pignataro, B. Adv. Mater. 2012, 24, 951.
20. (k) Tanase, C.; Meijer, E. J.; Blom, P. W. M.; de Leeuw, D. M. Org. Electron. 2003, 4, 33.
21. (a) Xu, G.; Bao, Z.; Groves, J. T. Langmuir 2000, 16, 1834.
22. (b) Sanderg, H. G. O.; Frey, G. L.; Shkunov, M. N.; Sirringhaus, H.; Friend, R. H.; Nielsen, M. M.; Kumpf, C. Langmuir 2002, 18, 10176.
23. (c) Scott, J. C.; Samuel, J. D. J.; Hou, J. H.; Rettner, C. T.; Miller, R. D. Nano Lett. 2006, 6, 2916.
24. (d) Park, B.; Aiyar, A.; Hong, J.; Reichmanis, E. ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 1574.
25. (a) Mativetsky, J. M.; Kastler, M.; Savage, R. C.; Gentilini, D.; Palma, M.; Pisula, W.; Müllen, K.; Samorì, P. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 2486.
26. (b) Wang, S.; Dössel, L.; Mavrinskiy, A.; Gao, P.; Feng, X.; Pisula, W.; Müllen, K. Small 2011, 7, 2841.
27. Ruiz, R.; Nickel, B.; Koch, N.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F.; Kahn, A.; Scoles, G. Phys. Rev. B 2003, 67, No. 125406.
28. (a) Dinelli, F.; Murgia, M.; Levy, P.; Cavallini, M.; Biscarini, F.; de Leeuw, D. M. Phys. Rev. Lett. 2004, 92, No. 116802.
29. (b) Ruiz, A.; Papadimitratos, A.; Mayer, A. C.; Malliaras, G. G. Adv. Mater. 2005, 17, 1795.
30. Tsao, H. N.; Cho, D.; Andreasen, J. W.; Rouhanipour, A.; Breiby, D. W.; Pisula, W.; Müllen, K. Adv. Mater. 2009, 21, 209.
31. DeLongchamp, D. M.; Kline, R. J.; Jung, Y.; Germack, D. D.; Lin, E. K.; Moad, A. J.; Tichter, L. J.; Toney, M. F.; Heeney, M.; McCulloch, I. ACS Nano 2009, 3, 780.
32. Lim, S. C.; Kim, S. H.; Lee, J. H.; Kim, M. K.; Kim, D. J.; Zyung, T. Synth. Met. 2005, 148, 75.
33. (a) Kline, R. J.; DeLongchamp, D. M.; Fischer, D. A.; Lin, E. K.; Heeney, M.; McCulloch, I.; Toney, M. F. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, No. 062117.
34. (b) Jung, Y.; Kline, R. J.; Fischer, D. A.; Lin, E. K.; Heeney, M.; McCulloch, I.; DeLongchamp, D. M. Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 742.