A method to improve electrical properties of BiFeO 3 thin films

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 3, 2012, Pages 1182-1185

  Wu, Jiagang ^a   Wang, John ^b   Xiao, Dingquan ^a   Zhu, Jianguo ^a  

^a SICHUAN UNIVERSITY   (China)

^b NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

bismuth content; bismuth ferrite; electrical properties

Indexed keywords

BISMUTH FERRITE; BISMUTH FERRITES; CERAMIC TARGET; FATIGUE BEHAVIOR; LOW DIELECTRIC LOSS; LOW-LEAKAGE CURRENT; MOLAR RATIO; RADIO FREQUENCY SPUTTERING;

BISMUTH; CERAMIC MATERIALS; DIELECTRIC LOSSES; FERRITE; FILM PREPARATION; SILICON COMPOUNDS; THIN FILMS;

ELECTRIC PROPERTIES;

EID: 84859131549     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am300236j     Document Type: Article

References (31)

1. Hill, N. A.; Rabe, K. M. Phys. Rev. B 1999, 59, 8759-8769
2. Wang, J.; Neaton, J. B.; Zheng, H.; Nagarajan, V.; Ogale, S. B.; Liu, B.; Viehland, D.; Vaithyanathan, V.; Schlom, D. G.; Waghmare, U. V.; Spaldin, N. A.; Rabe, K. M.; Wuttig, M.; Ramesh, R. Science 2003, 299, 1719-1722
3. Eerenstein, W.; Mathur, N. D.; Scott, J. F. Nature (London) 2006, 442, 759-765
4. Ramesh, R.; Spaldin, N. A. Nat. Mater. 2007, 6, 21-29
5. Catalan, G.; Scott, J. F. Adv. Mater. 2009, 21, 2463-2466
6. Martin, L. W.; Chu, Y. H.; Ramesh, R. Mater. Sci. Eng., R 2010, 68, 89-133
7. Shuvaev, A. M.; Travkin, V. D.; Ivanov, V. Y.; Mukhin, A. A.; Pimenov, A. Phys. Rev. Lett. 2010, 104, 097202
8. Kitagawa, Y.; Hiraoka, Y.; Honda, T.; Ishikura, T.; Nakamura, H.; Kimura, T. Nat. Mater. 2010, 9, 797-802
9. Li, J. F.; Wang, J. L.; Wuttig, M.; Ramesh, R.; Wang, N.; Ruette, B.; Pyatakov, A. P.; Zvezdin, A. K.; Viehland, D. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 5261-5263
10. Neaton, J. B.; Ederer, C.; Waghmare, U. V.; Spaldin, N. A.; Rabe, K. M. Phys. Rev. B 2005, 71, 014113
11. Wu, J. G.; Wang, J. Acta Mater. 2010, 58, 1688-1697
12. Mathe, V. L.; Patankar, K. K.; Patil, R. N.; Lokhande, C. D. J. Magn. Magn. Mater. 2004, 270, 380-388
13. Jun, Y. K.; Moon, W. T.; Chang, C. M.; Kim, H. S.; Ryu, H. S.; Kim, J. W.; Kim, K. H.; Hong, S. H. Solid State Commun. 2005, 135, 133-137
14. Qi, X.; Dho, J.; Tomov, R.; Blamire, M. G.; MacManus-Driscoll, J. L. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 062903
15. Yuan, G. L.; Or, S. W. Appl. Phys. Lett. 2006, 88 (6) 062905
16. Zheng, R. Y.; Sim, C. H.; Wang, J.; Ramakrishna, S. J. Am. Ceram. Soc. 2008, 91, 3240-3245
17. Lee, C. C.; Wu, J. M. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 102906
18. Wu, J. G.; Wang, J. J. Appl. Phys. 2010, 107, 034103
19. Murari, N. M.; Thomas, R.; Melgarejo, R. E.; Pavunny, S. P.; Katiyar, R. S. J. Appl. Phys. 2009, 106, 014103
20. Singh, S. K.; Ishiwara, H.; Sato, K.; Maruyama, K. J. Appl. Phys. 2007, 102, 094109
21. Wu, J. G.; Wang, J. J. Appl. Phys. 2009, 106, 054115
22. Huang, F. Z.; Lu, X. M.; Lin, W. W.; Cai, W.; Wu, X. M.; Kan, Y.; Sang, H.; Zhu, J. S. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 252903
23. Wu, J. G.; Kang, G. Q.; Liu, H. J.; Wang, J. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 172906
24. Bea, H.; Bibes, M.; Barthélémy, A.; Bouzehouane, K.; Jacquet, E.; Khodan, A.; Contour, J.-P.; Fusil, S.; Wyczisk, F.; Forget, A.; Lebeugle, D.; Colson, D.; Viret, M. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 072508
25. Shelke, V.; Harshan, V. N.; Kotru, S.; Gupta, A. J. Appl. Phys. 2009, 106, 104114
26. You, L.; Chua, N. T.; Yao, K.; Chen, L.; Wang, J. Phys. Rev. B 2009, 80, 024105
27. Wu, J.; Wang, J.; Xiao, D. Q.; Zhu, J. G. Phys. Status Solidi RRL 2011, 5, 190-192
28. Almond, D. P.; Bowen, C. R. Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 157601
29. Dawber, M.; Scott, J. F. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1060-1062
30. Scott, J. F.; Dawber, M. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3801-3803
31. Pintilie, L.; Vrejoiu, I.; Hesse, D.; Alexe, M. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 102908