Electrodeposition of ZnO from DMSO solution: Influence of anion nature and its concentration in the nucleation and growth mechanisms

Journal of the Brazilian Chemical Society

Volumn 23, Issue 3, 2012, Pages 505-512

  Riveros, Gonzalo ^a   Ramírez, Daniel ^a   Tello, Alejandra ^b   Schrebler, Ricardo ^b   Henríquez, Rodrigo ^b   Gómez, Humberto ^b  

^a UNIVERSIDAD DE VALPARAÍSO   (Chile)

^b PONTIFICIA UNIVERSIDAD CATÓLICA DE VALPARAÍSO   (Chile)

Author keywords

DMSO; Electrodeposition; Nucleation and growth mechanism; ZnO

Indexed keywords

EID: 84859070041     PISSN: 01035053     EISSN: 16784790     Source Type: Journal    
DOI: 10.1590/S0103-50532012000300018     Document Type: Article

References (27)

1. Huang, M. H.; Mao, S.; Feick, H.; Yan, H. Q.; Wu, Y. Y.; Kind, H.; Weber, E.; Russo, R.; Yang, P. D.; Science 2001, 292, 1897.
2. Lee, J. Y.; Choi, Y. S.; Kim, J. H.; Park, M. O.; Im, S.; Thin Solid Films 2002, 403, 553.
3. Liang, S.; Sheng, H.; Liu, Y.; Huo, Z.; Lu, Y.; Shen, H.; J. Cryst. Growth 2001, 225, 110.
4. Saito, N.; Haneda, H.; Sekiguchi, T.; Ohashi, N.; Sakaguchi, I.; Koumoto, K.; Adv. Mater. 2002, 14, 418.
5. Lincot, D.; MRS Bull. 2010, 35, 778.
6. Lu, X. H.; Wang, D.; Li, G. R.; Su, C. Y.; Kuang, D. B.; Tong, Y. X.; J. Phys. Chem. C 2009, 113, 13574.
7. Sounart, T. L.; Liu, J.; Voigt, J. A.; Hsu, J. W. P.; Spoerke, E. D.; Tian, Z.; Jiang, Y. B.; Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 335.
8. Dalchiele, E. A.; Giorgi, P.; Marotti, R. E.; Martin, F.; Ramos-Barrado, J. R.; Ayouci, R.; Leinen, D.; Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2001, 70, 245.
9. Goux, A.; Pauporte, T.; Chivot, J.; Lincot, D.; Electrochim. Acta 2005, 50, 2239.
10. Marotti, R. E.; Guerra, D. N.; Bello, C.; Machado, G.; Dalchiele, E. A.; Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2004, 82, 85.
11. Matsumoto, Y.; MRS Bull. 2000, 25, 47.
12. Ramirez, D.; Silva, D.; Gomez, H.; Riveros, G.; Marotti, R. E.; Dalchiele, E. A.; Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2007, 91, 1458.
13. Gal, D.; Hodes, G.; Lincot, D.; Schock, H. W.; Thin Solid Films 2000, 361, 79.
14. Jayakrishnan, R.; Hodes, G.; Thin Solid Films 2003, 440, 19.
15. Elias, J.; Tena-Zaera, R.; Levy-Clement, C.; J. Phys. Chem. C 2008, 112, 5736.
16. Elias, J.; Tena-Zaera, R.; Levy-Clement, C.; J. Electroanal. Chem. 2008, 621, 171.
17. Tena-Zaera, R.; Elias, J.; Wang, G.; Levy-Clement, C.; J. Phys. Chem. C 2007, 111, 16706.
18. Inamdar, A. I.; Mujawar, S. H.; Barman, S. R.; Bhosale, P. N.; Patil, P. S.; Semicond. Sci. Technol. 2008, 23, 085013.
19. Gomez, H.; Riveros, G.; Ramirez, D.; Henriquez, R.; Schrebler, R.; Marotti, R.; Dalchiele, E.; J. Solid State Electrochem. 2012, 16, 197.
20. Ahrland, S.; Björk, N.-O.; Acta Chem. Scand. 1976, 30A, 265.
21. Gaizer, F.; Silber, H. B.; J. Inorg. Nucl. Chem. 1980, 42, 1317.
22. Zitolo, A.; D'Angelo, P.; Chem. Phys. Lett. 2010, 499, 113.
23. Silber, H. B.; Kromer, L. U.; Gaizer, F.; Inorg. Chem. 1981, 20, 3323.
24. Henriquez, R.; Froment, M.; Riveros, G.; Dalchiele, E. A.; Gomez, H.; Grez, P.; Lincot, D.; J. Phys. Chem. C 2007, 111, 6017.
25. Henriquez, R.; Gomez, H.; Grez, P.; Lincot, D.; Froment, M.; Dalchiele, E. A.; Riveros, G.; Electrochem. Solid-State Lett. 2007, 10, D134.
26. Adić, R. R.; Marković, N. M.; Vešović, V. B.; J. Electroanal. Chem. 1984, 165, 105.
27. Scharifker, B.; Hills, G.; Electrochim. Acta 1983, 28, 879.