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RSC Advances

Volumn 1, Issue 9, 2011, Pages 1815-1821

Effects of sputtering conditions on formation of gold nanoparticles in sputter deposition technique

(3) Hatakeyama, Yoshikiyo a Onishi, Kei a Nishikawa, Keiko a

a CHIBA UNIVERSITY (Japan)

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1-BUTYL-3-METHYLIMIDAZOLIUM TETRAFLUOROBORATE; APPLIED VOLTAGES; DEPOSITION TECHNIQUE; DISCHARGE CURRENTS; FORMATION PROCESS; GOLD NANOPARTICLES; LOW VAPOR PRESSURES; SIZE AND SIZE DISTRIBUTIONS; SMALL ANGLE X-RAY SCATTERING; SPUTTERING CONDITIONS; SPUTTERING TIME; WORKING DISTANCES;

GOLD ALLOYS; IONIC LIQUIDS; METAL NANOPARTICLES;

SPUTTER DEPOSITION;

EID: 84858968011 PISSN: None EISSN: 20462069 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c1ra00688f Document Type: Article

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