Growth and alloying of ultra-thin Zn layers on Pd(110)

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 5, 2012, Pages 3635-3644

  Stadlmayr, Werner ^a   Klötzer, Bernhard ^a   Penner, Simon ^a   Memmel, Norbert ^a  

^a UNIVERSITY OF INNSBRUCK   (Austria)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADLAYERS; AS-DEPOSITED FILMS; ATOMIC ROWS; BULK-LIKE; DEPOSITION TIME; INITIAL DEPOSITIONS; INTERFACE LAYER; INTERMETALLIC PHASE; LOW-ENERGY ION SCATTERING; ONSET TEMPERATURE; PD(110); PSEUDOMORPHIC GROWTH; ROOM TEMPERATURE; SUBSURFACE LAYER; SURFACE ALLOYS; SURFACE ATOMS; ULTRA-THIN; ULTRATHIN LAYERS; ZN ATOMS;

ALLOYING; AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; MONOLAYERS; PALLADIUM; STOICHIOMETRY; TEMPERATURE PROGRAMMED DESORPTION;

ZINC;

EID: 84856890462     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp210221w     Document Type: Article

References (28)

1. Palo, D. R.; Dagle, R. A.; Holladay, J. D. Chem. Rev. 2007, 107, 3992-4021
2. Ball, M.; Wietschel, M. Int. J. Hydrogen Energy 2009, 34, 615-627
3. Wu, G. S.; Mao, D. S.; Lu, G. Z.; Cao, Y.; Fan, K. N. Catal. Lett. 2009, 130, 177-184
4. Cheng, W. H. Acc. Chem. Res. 1999, 32, 685-691
5. Iwasa, N.; Mayanagi, T.; Ogawa, N.; Sakata, K.; Takezawa, N. Catal. Lett. 1998, 54, 119-123
6. Iwasa, N.; Takezawa, N. Top. Catal. 2003, 22, 215-224
7. Iwasa, N.; Mayanagi, T.; Nomura, W.; Arai, M.; Takezawa, N. Appl. Catal., A 2003, 248, 153-160
8. Zhou, G.; Barrio, L.; Agnoli, S.; Senanayake, S. D.; Evans, J.; Kubacka, A.; Estrella, M.; Hanson, J. C.; Martinez-Arias, A.; Fernandez-Garcia, M.; Rodriguez, J. A. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 9680-9684
9. Chen, Z. X.; Neyman, K. M.; Gordienko, A. B.; Rösch, N. Phys. Rev. B 2003, 68, 075417/1-075417/8
10. Chen, Z. X.; Neyman, K. M.; Rösch, N. Surf. Sci. 2004, 548, 291-300
11. Bayer, A.; Flechtner, K.; Denecke, R.; Steinrück, H. P.; Neyman, K. M.; Rösch, N. Surf. Sci. 2006, 600, 78-94
12. Gabasch, H.; Knop-Gericke, A.; Schlögl, R.; Penner, S.; Jenewein, B.; Hayek, K.; Klötzer, B. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 11391-11398
13. Stadlmayr, W.; Penner, S.; Klötzer, B.; Memmel, N. Surf. Sci. 2009, 603, 251-255
14. Jeroro, E.; Lebarbier, V.; Datye, A.; Wang, Y.; Vohs, J. M. Surf. Sci. 2007, 601, 5546-5554
15. Weirum, G.; Kratzer, M.; Koch, H. P.; Tamtögl, A.; Killman, J.; Bako, I.; Winkler, A.; Surnev, S.; Netzer, F. P.; Schennach, R. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 9788-9796
16. Rameshan, C.; Stadlmayr, W.; Weilach, C.; Penner, S.; Lorenz, H.; Hävecker, M.; Blume, R.; Rocha, T.; Teschner, D.; Knop-Gericke, A.; Schlögl, R.; Memmel, N.; Zemlyanov, D.; Rupprechter, G.; Klötzer, B. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 3224-3227
17. Rameshan, C.; Weilach, C.; Stadlmayr, W.; Penner, S.; Lorenz, H.; Hävecker, M.; Blume, R.; Rocha, T.; Teschner, D.; Knop-Gericke, A.; Schlögl, R.; Zemlyanov, D.; Memmel, N.; Rupprechter, G.; Klötzer, B. J. Catal. 2010, 276, 101-113
18. Stadlmayr, W.; Rameshan, C.; Weilach, C.; Lorenz, H.; Hävecker, M.; Blume, R.; Rocha, T.; Teschner, D.; Knop-Gericke, A.; Zemlyanov, D.; Penner, S.; Schlögl, R.; Rupprechter, G.; Klötzer, B.; Memmel, N. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 10850-10856
19. Suchorski, Y.; Spiel, Ch.; Vogel, D.; Drachsel, W.; Schlögl, R.; Rupprechter, G. Chem. Phys. Chem. 2010, 11, 3231-3235
20. Kratzer, M.; Tamtögl, A.; Killmann, J.; Schennach, R.; Winkler, A. Appl. Surf. Sci. 2009, 255, 5755-5759
21. Powell, C. J.; Jablonski, A. NIST Electron Effective Attenuation Length Data Base, version 1.1; National Institute of Standards and Technology: Gaithersburg, MD, 2003.
22. Aono, M.; Oshima, C.; Zaima, S.; Otani, S.; Ishizawa, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1981, 20, L829-L832
23. Fauster, T. Vacuum 1988, 38, 129-142
24. MacLaren, J. M.; Pendry, J. B.; Rous, P. J.; Saldin, D. K.; Somorjai, G. A.; van Hove, M. A.; Vvendesky, D. D. Surface Crystallographic Information Service; Reidel: Dordrecht, The Netherlands, 1987.
25. Speller, S.; Parascandola, S.; Heiland, W. Surf. Sci. 1997, 383, 131-136
26. Memmel, N.; Detzel, Th. Surf. Sci. 1997, 307-309, 490-495
27. Detzel, Th.; Memmel, N.; Vonbank, M.; Donath, M.; Dose, V. Phys. Low-Dimens. Semicond. Struct. 1995, 8/9, 1-28
28. Friedrich, M.; Ormeci, A.; Grin, Y.; Armbrüster, M. Z. Anorg. Allg. Chem. 2010, 636, 1-5