Inverted organic solar cells with sol-gel processed high work-function vanadium oxide hole-extraction layers

Advanced Functional Materials

Volumn 21, Issue 24, 2011, Pages 4776-4783

  Zilberberg, Kirill ^a   Trost, Sara ^a   Meyer, Jens ^b   Kahn, Antoine ^b   Behrendt, Andreas ^a   Lützenkirchen Hecht, Dirk ^a   Frahm, Ronald ^a   Riedl, Thomas ^a  

^a UNIVERSITY OF WUPPERTAL   (Germany)

^b Princeton University   (United States)

Author keywords

high work function materials; inverted organic solar cells; solution processed metal oxide; vanadium oxide

Indexed keywords

AMBIENT AIR; BULK HETEROJUNCTION; CONTROL DEVICE; FUNCTIONAL LAYER; HIGH VACUUM; HIGH WORK FUNCTION; HIGH-THROUGHPUT; INVERSE-PHOTOELECTRON SPECTROSCOPIES; KELVIN PROBE; LIQUID PROCESSING; ORGANIC LAYERS; ORGANIC SOLAR CELL; PLASMA TREATMENT; POST ANNEALING; POWER CONVERSION EFFICIENCIES; SOLUTION PROCESSED METAL OXIDE; SOLUTION-PROCESSED; VANADIUM OXIDE; VANADIUM OXIDES;

CONVERSION EFFICIENCY; ELECTRONIC STRUCTURE; GELS; HETEROJUNCTIONS; METALLIC COMPOUNDS; OXIDES; PHOTONS; PLASMA APPLICATIONS; POWER SUPPLY CIRCUITS; SOL-GEL PROCESS; SOL-GELS; SOLAR CELLS; SOLS; THROUGHPUT; ULTRAVIOLET PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; UNINTERRUPTIBLE POWER SYSTEMS; VANADIUM COMPOUNDS;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 83655202935     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201101402     Document Type: Article

References (54)

1. a) H. Y. Chen, J. H. Hou, S. Q. Zhang, Y. Y. Liang, G. W. Yang, Y. Yang, L. P. Yu, Y. Wu, G. Li, Nat. Photonics 2009, 3, 649
2. b) Y. Y. Liang, Z. Xu, J. B. Xia, S. T. Tsai, Y. Wu, G. Li, C. Ray, L. P. Yu, Adv. Mater. 2010, 22, E135.
3. M. Campoy-Quiles, T. Ferenczi, T. Agostinelli, P. G. Etchegoin, Y. Kim, T. D. Anthopoulos, P. N. Stavrinou, D. D. C. Bradley, J. Nelson, Nat. Mater. 2008, 7, 158
4. b) Y. Yao, J. H. Hou, Z. Xu, G. Li, Y. Yang, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 1783.
5. L. M. Chen, Z. R. Hong, G. Li, Y. Yang, Adv. Mater. 2009, 21, 1434
6. b) Z. Xu, L. M. Chen, G. W. Yang, C. H. Huang, J. H. Hou, Y. Wu, G. Li, C. S. Hsu, Y. Yang, Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 1227.
7. F. C. Krebs, Sol. Energ. Mat. Sol. Cells 2009, 93, 465.
8. C. Waldauf, M. Morana, P. Denk, P. Schilinsky, K. Coakley, S. A. Choulis, C. J. Brabec, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 233517.
9. M. S. White, D. C. Olson, S. E. Shaheen, N. Kopidakis, D. S. Ginley, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 143517.
10. A. Roy, S. H. Park, S. Cowan, M. H. Tong, S. N. Cho, K. Lee, A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 013302.
11. R. Steim, F. R. Kogler, C. J. Brabec, J. Mater. Chem. 2010, 20, 2499.
12. K. Norrman, M. V. Madsen, S. A. Gevorgyan, F. C. Krebs, J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 16883.
13. A. K. K. Kyaw, X. W. Sun, C. Y. Jiang, G. Q. Lo, D. W. Zhao, D. L. Kwong, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 221107
14. b) C. Tao, S. P. Ruan, X. D. Zhang, G. H. Xie, L. Shen, X. Z. Kong, W. Dong, C. X. Liu, W. Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 193307
15. c) K. S. Shin, K. H. Lee, H. H. Lee, D. Choi, S. W. Kim, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 15782
16. d) H. Schmidt, K. Zilberberg, S. Schmale, H. Flügge, T. Riedl, W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 243305
17. e) D. W. Zhao, P. Liu, X. W. Sun, S. T. Tan, L. Ke, A. K. K. Kyaw, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 153304.
18. S. Schumann, R. Da Campo, B. Illy, A. C. Cruickshank, M. A. McLachlan, M. P. Ryan, D. J. Riley, D. W. McComb, T. S. Jones, J. Mater. Chem. 2011, 21, 2381.
19. C. Tao, S. P. Ruan, G. H. Xie, X. Z. Kong, L. Shen, F. X. Meng, C. X. Liu, X. D. Zhang, W. Dong, W. Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 043311.
20. a) G. Li, C. W. Chu, V. Shrotriya, J. Huang, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 073508
21. b) K. Takanezawa, K. Tajima, K. Hashimoto, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 063308
22. c) B. Y. Yu, A. Tsai, S. P. Tsai, K. T. Wong, Y. Yang, C. W. Chu, J. J. Shyue, Nanotechnology 2008, 19, 255202.
23. D. C. Lim, Y. T. Kim, W. H. Shim, A. Y. Jang, J. H. Lim, Y. D. Kim, Y. Jeong, Y. D. Kim, K. H. Lee, Bull. of the Kor. Chem. Soc. 2011, 32, 1067.
24. J. S. Huang, C. Y. Chou, C. F. Lin, IEEE Electr. Dev. Lett. 2010, 31, 332
25. b) J. S. Huang, C. Y. Chou, M. Y. Liu, K. H. Tsai, W. H. Lin, C. F. Lin, Org. Electron. 2009, 10, 1060.
26. J. Meyer, R. Khalandovsky, P. Görrn, A. Kahn, Adv. Mater. 2011, 23, 70.
27. a) N. Ozer, C. M. Lampert, Thin Solid Films 1999, 349, 205
28. b) N. Ozer, C. M. Lampert, Sol. Energ. Mat. Sol. Cells 1998, 54, 147
29. c) A. Agrawal, J. P. Cronin, R. Zhang, Sol. Energ. Mat. Sol. Cells 1993, 31, 9.
30. K. X. Steirer, J. P. Chesin, N. E. Widjonarko, J. J. Berry, A. Miedaner, D. S. Ginley, D. C. Olson, Org. Electron. 2010, 11, 1414.
31. K. Zilberberg, S. Trost, H. Schmidt, T. Riedl, Advanced Energy Materials 2011, 1, 377.
32. M. Demeter, M. Neumann, W. Reichelt, Surf. Sci. 2000, 454, 41.
33. J. Meyer, K. Zilberberg, T. Riedl, A. Kahn, J. Appl. Phys. 2011, 110, 033710.
34. A. Talledo, C. G. Granqvist, J. Appl. Phys. 1995, 77, 4655
35. b) C. G. Granqvist, Solid State Ionics 1994, 70, 678.
36. Q. H. Wu, A. Thissen, W. Jaegermann, Solid State Ionics 2004, 167, 155.
37. W. Osikowicz, M. P. de Jong, W. R. Salaneck, Adv. Mater. 2007, 19, 4213.
38. M. Kröger, S. Hamwi, J. Meyer, T. Riedl, W. Kowalsky, A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 123301
39. b) J. Meyer, M. Kröger, S. Hamwi, F. Gnam, T. Riedl, W. Kowalsky, A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 193302.
40. J. H. Seo, A. Gutacker, Y. Sun, H. Wu, F. Huang, Y. Cao, U. Scherf, A. J. Heeger, G. C. Bazan, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 8416.
41. U. Schubert, Acc. Chem. Res. 2007, 40, 730.
42. C. Y. Chang, F. Y. Tsai, S. J. Jhuo, M. J. Chen, Org. Electron. 2008, 9, 667.
43. M. Yoshizawa, A. Yasuda, T. Kobayashi, Appl. Phys. B 1991, 53, 296.
44. M. M. Mandoc, F. B. Kooistra, J. C. Hummelen, B. de Boer, P. W. M. Blom, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 263505.
45. S. R. Cowan, W. L. Leong, N. Banerji, G. Dennler, A. J. Heeger, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 3083.
46. I. G. Hill, C. K. Chan, W. Zhao, A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 203306.
47. M. Kröger, S. Hamwi, J. Meyer, T. Riedl, W. Kowalsky, A. Kahn, Org. Electron. 2009, 10, 932
48. b) S. Hamwi, J. Meyer, T. Winkler, T. Riedl, W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 253307.
49. M. Lehnhardt, S. Hamwi, M. Hoping, J. Reinker, T. Riedl, W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 193301
50. b) T. Rabe, P. Görrn, M. Lehnhardt, M. Tilgner, T. Riedl, W. Kowalsky, Phys. Rev. Lett. 2009, 102, 137401.
51. D. A. Shirley, Phys. Rev. B 1972, 5, 4709.
52. M. Wojdyr, J. of Appl. Cryst. 2010, 43, 1126.
53. J. H. Scofield, J. Electron Spectrosc. 1976, 8, 129.
54. J. Hwang, A. Wan, A. Kahn, Mat. Sci. Eng. R 2009, 64, 1.