Self-organized graphene patterns

Advanced Materials

Volumn 23, Issue 24, 2011, Pages 2734-2738

  Kim, Tae Young ^a   Kwon, Soon Woo ^b   Park, Seung Jun ^c   Yoon, Dae Ho ^b   Suh, Kwang S ^a   Yang, Woo Seok ^d  

^a Korea University   (South Korea)

^b Sungkyunkwan University   (South Korea)

^c Hanyang University   (South Korea)

^d Korea Electronic Technology Institute (KETI)   (South Korea)

Author keywords

graphene; micropatterning; reduced graphene oxide; self assembly

Indexed keywords

MICRO PATTERNING; POLY(IONIC LIQUID)S; REDUCED GRAPHENE OXIDE; SELF ASSEMBLY PROCESS; SELF-ORGANIZED; SOLVENT EVAPORATION; SURFACE PATTERN;

IONIC LIQUIDS; PLATELETS; SELF ASSEMBLY;

GRAPHENE;

GRAPHITE; IONIC LIQUID; OXIDE; SOLVENT;

ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CHEMISTRY; OXIDATION REDUCTION REACTION;

GRAPHITE; IONIC LIQUIDS; MICROSCOPY, ATOMIC FORCE; OXIDATION-REDUCTION; OXIDES; SOLVENTS;

EID: 79959758107     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201100329     Document Type: Article

References (39)

1. a) A. K. Geim, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 183
2. b) D. V. Kosynkin, A. L. Higginbotham, A. Sinitskii, J. R. Lomeda, A. Dimiev, B. K. Price, J. M. Tour, Nature 2009, 458, 872
3. c) D. Li, R. B. Kaner, Science 2008, 320, 1170
4. d) L. Jiao, L. Zhang, X. Wang, G. Diankov, H. Dai, Nature 2009, 458, 877.
5. X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, R. S. Ruoff, Science 2009, 324, 1312.
6. a) K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, A. A. Firsov, Science 2004, 306, 666
7. b) K. S. Novoselov, D. Jiang, F. Schedin, T. J. Booth, V. V. Khotkevich, S. V. Morozov, A. K. Geim, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2005, 102, 10451.
8. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J. H. Ahn, P. Kim, J. Y. Choi, B. H. Hong, Nature 2009, 457, 706.
9. a) J. R. Lomeda, C. D. Doyle, D. V. Kosynkin, W. F. Hwang, J. M. Tour, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 16201
10. b) V. C. Tung, M. J. Allen, Y. Yang, R. B. Kaner, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 25
11. c) S. Park, R. S. Ruoff, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 217
12. d) D. R. Dreyer, S. Park, C. W. Bielawski, R. S. Ruoff, Chem. Soc. Rev. 2010, 1, 572
13. e) Y. Zhu, S. Murali, W. Cai, X. Li, J. W. Suk, J. R. Potts, R. S. Ruoff, Adv. Mater. 2010, 22, 3906.
14. a) J. D. Fowler, M. J. Allen, V. C. Tung, Y. Yang, R. B. Kaner, B. H. Weiller, ACS Nano 2009, 3, 301
15. b) J. T. Robinson, F. K. Perkins, E. S. Snow, Z. Q. Wei, P. E. Sheehan, Nano Lett. 2008, 8, 3137.
16. J. R. Robinson, M. Zalalutdinov, J. W. Baldwin, E. S. Snow, Z. Wei, P. Sheehan, B. H. Houston, Nano Lett. 2008, 8, 3441.
17. J. Bai, X. Zhong, S. Jiang, Y. Huang, X. Duan, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 190.
18. S. Pang, H. N. Tsao, X. Feng, K. Müllen, Adv. Mater. 2009, 21, 3488.
19. a) E. Rabani, D. R. Reichman, P. L. Geissler, L. E. Brus, Nature 2003, 426, 271
20. b) T. P. Bigioni, X. M. Lin, T. T. Nguyen, E. I. Corwin, T. A. Witten, H. M. Jaeger, Nat. Mater. 2006, 5, 265
21. c) B. P. Khanal, E. R. Zubarev, Angew. Chem. 2007, 119, 2245
22. c) R. D. Deegan, O. Bakajin, T. F. Dupont, F. Huber, S. R. Nagel, T. A. Witten, Nature 1997, 389, 827
23. d) E. Paulic-Vaujour, A. Stannard, C. P. Martin, M. O. Blunt, I. Notingher, P. J. Moriarty, I. Vancea, U. Thiele, Phys. Rev. Lett. 2008, 100, 176102
24. e) V. X. Nguyen, K. J. Stebe, Phys. Rev. Lett. 2002, 88, 164501.
25. a) J. Xu, J. Xia, Z. Lin, Angew. Chem. 2007, 119, 1892
26. b) S. W. Hong, S. Giri, V. S. Y. Lin, Z. Lin, Chem. Mater. 2006, 18, 5164.
27. a) M. Byun, R. L. Laskowski, M. He, F. Qui, M. Jeffries-El, Z. Lin, Soft Matter 2009, 5, 1583
28. b) M. Byun, N. B. Bowden, Z. Lin, Nano Lett. 2010, 10, 3111
29. c) S. W. Hong, J. Xia, Z. Lin, Adv. Mater. 2007, 19, 1413
30. d) S. W. Hong, M. Byun, Z. Lin, Angew. Chem. Int. Ed. 2009, 48, 512
31. e) J. Xu, J. Xia, S. W. Hong, Z. Lin, F. Qiu, Y. Yang, Phys. Rev. Lett. 2006, 96, 006104.
32. a) S. W. Hong, W. Jeong, H. Ko, M. R. Kessler, V. V. Tsukruk, Z. Lin, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 2114
33. b) R. Duggal, F. Hussain, M. Pasquali, Adv. Mater. 2006, 18, 29
34. c) H. Shimoda, S. J. Oh, H. Z. Geng, R. J. Walker, X. B. Zhang, L. E. McNeil, O. Zhou, Adv. Mater. 2002, 14, 899.
35. T. Kim, H. Lee, J. Kim, K. S. Suh, ACS Nano 2010, 4, 1612.
36. L. Seemann, A. Stemmer, N. Naujoks, Nano Lett. 2007, 7, 3840.
37. G. Eda, G. Fanchini, M. Chhowalla, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 270.
38. W. S. Hummers, R. E. Offerman, J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 1339.
39. C. Pozo-Gonzalo, R. Marcilla, M. Salsamendi, D. Mecerreyes, J. A. Pomposo, J. Rodriguez, H. J. Bolink, J. Polym. Sci. Polym. Chem. 2008, 46, 3150.