-
1
-
-
77955455865
-
-
in press
-
M. Willander, O. Nur, Q. X. Zhao, L. L. Yang, M. Lorenz, B. Q. Cao, J. Zúñiga Pérez, C Czekalla, G Zimmermann, and M. Grundmann, A. Bakin, A. Behrends, M. Al- Suleiman, A. El-Shaer, A. Che Mofor, B. Postels and A. Waag, N. Boukos and A. Travlos H. S. Kwack, J. Guinard and D. Le Si Dang, Nanotechnology Topical Review in press (2009).
-
(2009)
Nanotechnology Topical Review
-
-
Willander, M.1
Nur, O.2
Zhao, Q.X.3
Yang, L.L.4
Lorenz, M.5
Cao, B.Q.6
Zúñiga Pérez, J.7
Czekalla, C.8
Zimmermann, G.9
Grundmann, M.10
Bakin, A.11
Behrends, A.12
Al- Suleiman, M.13
El-Shaer, A.14
Che Mofor, A.15
Postels, B.16
Waag, A.17
Boukos, N.18
Travlos, A.19
Kwack, H.S.20
Guinard, J.21
Le Si Dang, D.22
more..
-
3
-
-
73549115051
-
-
M. Willander, L. L. Yang, A. Wadeasa, S. U. Ali, M. H. Asif, Q. X. Zhao, and O. Nur, J. Mater. Chem., 19, 1008 (2009).
-
(2009)
J. Mater. Chem.
, vol.19
, pp. 1008
-
-
Willander, M.1
Yang, L.L.2
Wadeasa, A.3
Ali, S.U.4
Asif, M.H.5
Zhao, Q.X.6
Nur, O.7
-
6
-
-
79955642845
-
-
S. L. Gu, J. D. Ye, S. M. Zhu, S. M. Liu, X. Zhou, R. Zhang, Y. Shi, Y. D. Zheng, Y. Hang, and C. L. Zhang, Appl. Phys. Lett., 88, 092101
-
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 092101
-
-
Gu, S.L.1
Ye, J.D.2
Zhu, S.M.3
Liu, S.M.4
Zhou, X.5
Zhang, R.6
Shi, Y.7
Zheng, Y.D.8
Hang, Y.9
Zhang, C.L.10
-
7
-
-
67649815926
-
-
H. A. Ahn, Y. Y. Kim. D. C. Kim, S. K. Montana, and H. K. Cho, J. Appl. Phys., 105, 013502 (2009).
-
(2009)
J. Appl. Phys.
, vol.105
, pp. 013502
-
-
Ahn, H.A.1
Kim, Y.Y.2
Kim, D.C.3
Montana, S.K.4
Cho, H.K.5
-
8
-
-
33750007888
-
-
Ya. I. Alivov, B. Xiao, Q. Fan, and H. Morkoç, Appl. Phys. Lett., 89, 152115 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 152115
-
-
Alivov, Ya.I.1
Xiao, B.2
Fan, Q.3
Morkoç, H.4
-
12
-
-
0033077441
-
-
N. Ohashi, T. Nakata, T. Sekiguchi, H. Hosono, M. Mizuguchi, T. Tsurumi, J. Tanaka, and H. Haneda, Jpn. J. Appl. Phys. Part 2, 38, L113 (1999).
-
(1999)
Jpn. J. Appl. Phys. Part 2
, vol.38
-
-
Ohashi, N.1
Nakata, T.2
Sekiguchi, T.3
Hosono, H.4
Mizuguchi, M.5
Tsurumi, T.6
Tanaka, J.7
Haneda, H.8
-
14
-
-
33644882228
-
-
A. B. Djurisc, Y. H. Leung, K. H. Tam, L. Ding, W. K. Ge, H. Y. Chen, S. Gwo, Appl. Phys. Lett., 88, 103107 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 103107
-
-
Djurisc, A.B.1
Leung, Y.H.2
Tam, K.H.3
Ding, L.4
Ge, W.K.5
Chen, H.Y.6
Gwo, S.7
-
15
-
-
67649815926
-
-
C. H. Ahn, Y. Yi. Kim, D. C. Kim, S. K. Mohanta, and H. K. Cho, J. Appl. Phys., 105,13502 (2009).
-
(2009)
J. Appl. Phys.
, vol.105
, pp. 13502
-
-
Ahn, C.H.1
Kim, Y.Yi.2
Kim, D.C.3
Mohanta, S.K.4
Cho, H.K.5
-
16
-
-
0346504211
-
-
F. H. Leiter, H. Alves, D. Pfisterer, N. G. Romanov, D. M. Hofmann, and B. K. Meyer, Physica B 340, 201 (2003).
-
(2003)
Physica B
, vol.340
, pp. 201
-
-
Leiter, F.H.1
Alves, H.2
Pfisterer, D.3
Romanov, N.G.4
Hofmann, D.M.5
Meyer, B.K.6
-
17
-
-
0029774658
-
-
K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 403
-
-
Vanheusden, K.1
Seager, C.H.2
Warren, W.L.3
Tallant, D.R.4
Voigt, J.A.5
-
18
-
-
0037883739
-
-
S. -H. Jeong, B. -S. Kim, and B. -T. Lee, Appl. Phys. Lett., 82, 2625 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.82
, pp. 2625
-
-
Jeong, S.H.1
Kim, B.S.2
Lee, B.T.3
-
19
-
-
20844444441
-
-
F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim, and B. C. Shin, Appl. Phys. Lett., 86, 221910 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 221910
-
-
Shan, F.K.1
Liu, G.X.2
Lee, W.J.3
Lee, G.H.4
Kim, I.S.5
Shin, B.C.6
-
21
-
-
37349074737
-
-
P. Klason, T. M. Børseth, Q. X. Zhao, B. G. Svensson, A. Y. Kuznetsov, P. J. Bergman and M. Willander, Solid State Communications, 145, 321 (2008).
-
(2008)
Solid State Communications
, vol.145
, pp. 321
-
-
Klason, P.1
Børseth, T.M.2
Zhao, Q.X.3
Svensson, B.G.4
Kuznetsov, A.Y.5
Bergman, P.J.6
Willander, M.7
-
22
-
-
0001649616
-
-
A. F. Kohan, G. Ceder, D. Morgan, and C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B, 161, 15019 (2000).
-
(2000)
Phys. Rev. B
, vol.161
, pp. 15019
-
-
Kohan, A.F.1
Ceder, G.2
Morgan, D.3
Van De Walle, C.G.4
-
24
-
-
79958190246
-
-
N. Y. Garces, L. Wang, L. Bai, N. C. Giles, L. E. Halliburton, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett., 81, 622 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 622
-
-
Garces, N.Y.1
Wang, L.2
Bai, L.3
Giles, N.C.4
Halliburton, L.E.5
Cantwell, G.6
-
25
-
-
33846084735
-
-
T. M. Børseth, P. Klason, Q. X. Zhao, M. Willander, B. G. Svensson and A. Y. Kuznetsov, Appl. Phys. Lett. 89, 262112 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 262112
-
-
Børseth, T.M.1
Klason, P.2
Zhao, Q.X.3
Willander, M.4
Svensson, B.G.5
Kuznetsov, A.Y.6
-
26
-
-
0037240399
-
-
P. S. Xu, Y. M. Sun, C. S. Shi, F. Q. Xu, H. B. Pan, Nucl. Instrum. Methods B, 199, 286 (2003).
-
(2003)
Nucl. Instrum. Methods B
, vol.199
, pp. 286
-
-
Xu, P.S.1
Sun, Y.M.2
Shi, C.S.3
Xu, F.Q.4
Pan, H.B.5
-
27
-
-
33751296959
-
-
K. H. Tam, C. K. Cheung, Y. H. Leung, A. B. Djurisic, C. C. Ling, C. D. Beling, S. Fung, W. M. Kwok, W. K. Chan, D. L. Phillips, L. Ding and W. K. Ge J. Phys. Chem. B 110, 20865 (2006).
-
(2006)
J. Phys. Chem. B
, vol.110
, pp. 20865
-
-
Tam, K.H.1
Cheung, C.K.2
Leung, Y.H.3
Djurisic, A.B.4
Ling, C.C.5
Beling, C.D.6
Fung, S.7
Kwok, W.M.8
Chan, W.K.9
Phillips, D.L.10
Ding, L.11
Ge, W.K.12
-
31
-
-
77949486238
-
-
X. Zhiyan, O. Morihro, I. Masayoshi, I. Tadashi, H. Gui, N. Yoichiro, A. Toru and M. Hidenori, J. Surf. Sci. Nanotech., 7, 358 (2009).
-
(2009)
J. Surf. Sci. Nanotech.
, vol.7
, pp. 358
-
-
Zhiyan, X.1
Morihro, O.2
Masayoshi, I.3
Tadashi, I.4
Gui, H.5
Yoichiro, N.6
Toru, A.7
Hidenori, M.8
-
32
-
-
77949491723
-
-
M. O. Young, M. L. Kyung, P. H. Kyung, K. Yongsun, Y. H. Ahn, P. Ji-Yong and L. Soonil Nano Lett., 7 (12), 3681 (2007).
-
(2007)
Nano Lett.
, vol.7
, Issue.12
, pp. 3681
-
-
Young, M.O.1
Kyung, M.L.2
Kyung, P.H.3
Yongsun, K.4
Ahn, Y.H.5
Ji-Yong, P.6
Soonil, L.7
-
33
-
-
77949485550
-
-
K. Chien-Lin, W. Ruey-Chi, H. Jow-Lay, L. Chuan-Pu, L. Yi-Feng, W. Cheng-Yu and C. Hung-Chin Nanotechnology, 19, 285703 (2008).
-
(2008)
Nanotechnology
, vol.19
, pp. 285703
-
-
Chien-Lin, K.1
Ruey-Chi, W.2
Jow-Lay, H.3
Chuan-Pu, L.4
Yi-Feng, L.5
Cheng-Yu, W.6
Hung-Chin, C.7
-
36
-
-
43049111782
-
-
X. Li, B. Zhang, H. Zhu, X. Dong, X. Xia, Y. Cui, Y. Ma, and G. Du, J. Phys. D: Appl. Phys., 41, 035101 (2008).
-
(2008)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.41
, pp. 035101
-
-
Li, X.1
Zhang, B.2
Zhu, H.3
Dong, X.4
Xia, X.5
Cui, Y.6
Ma, Y.7
Du, G.8
|