Nanostructured metal oxide gas sensors prepared by electrospinning

Polymers for Advanced Technologies

Volumn 22, Issue 3, 2011, Pages 318-325

  Kim, Il Doo ^a   Rothschild, Avner ^b  

^a Korea Institute of Science and Technology   (South Korea)

^b TECHNION ISRAEL INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Israel)

Author keywords

Electrospinning; Gas sensors; Metal oxide; Nanofibers

Indexed keywords

FIBROUS MORPHOLOGY; GAS SENSING; GAS SENSING PROPERTIES; GAS SENSORS; HIGH POROSITY; HIGH SURFACE AREA; INORGANIC PRECURSOR; KEY PROCESS; LARGE PORES; METAL OXIDE; METAL OXIDE GAS SENSORS; METAL OXIDE NANOPARTICLES; MICROSTRUCTURE EVOLUTIONS; NANOCRYSTALLINE METAL; NANOSTRUCTURED METALS; SMALL GRAIN SIZE; TIO;

CHEMICAL DETECTION; ELECTROSPINNING; GAS DETECTORS; GASES; METALLIC COMPOUNDS; METALS; NANOFIBERS; SENSORS;

GAS SENSING ELECTRODES;

EID: 79951735905     PISSN: 10427147     EISSN: 10991581     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pat.1797     Document Type: Review

References (78)

1. M. C. Mcalpine, H. Ahmad, D. Wang, J. R. Heath, Nat. Mater. 2007, 6, 379.
2. V. V. Sysoev, J. Goschnick, T. Schneider, E. Strelcov, A. Kolmakov, Nano Lett. 2007, 7, 3182.
3. A. Ponzoni, E. Comini, G. Sberveglieri, J. Zhou, S. Z. Deng, N. S. Xu, Y. Ding, Z. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 203101.
4. J. H. Lee, Sens. Actuators B 2009, 140, 319.
5. A. Rothschild, H. L. Tuller, J. Electroceram. 2006, 17, 1005.
6. I. D. Kim, A. Rothschild, T. Hyodo, H. L. Tuller, Nano Lett. 2006, 6, 193.
7. I. D. Kim, A. Rothschild, D. J. Yang, H. L. Tuller, Sens. Actuators B 2008, 130, 9.
8. Y. E. Chang, D. Y. Youn, G. Ankonina, D. J. Yang, H. G. Kim, A. Rothschild, I. D. Kim, Chem. Commun. 2009, 27, 4019.
9. I. D. Kim, A. Rothschild, B. H. Lee, D. Y. Kim, S. M. Jo, H. L. Tuller, Nano Lett. 2006, 6, 2009.
10. O. Landau, A. Rothschild, E. Zussman, Chem. Mater. 2009, 21, 9.
11. E. Strelcov, Y. Lilach, A. Kolmakov, Nano Lett. 2009, 9, 2322.
12. K. Skucha, Z. Fan, K. Jeon, A. Javey, B. Boser, Sens. Actuators B 2010, 145, 232.
13. A. Vomiero, A. Ponzoni, E. Comini, M. Ferroni, G. Faglia, G. Sberveglieri, Nanotechnology 2010, 21, 145502.
14. T. C. Karni, Q. Qing, Q. Li, Y. Fang, C. M. Lieber, Nano Lett. 2010, 10, 1098.
15. M. Li, R. B. Bhiladvala, T. J. Morrow, J. A. Sioss, K. K. Lew, J. M. Redwing, C. D. Keating, T. S. Mayer, Nat. Nanotech. 2008, 3, 88.
16. Z. Fan, J. C. Ho, T. Takahashi, R. Yerushalmi, K. Takei, A. C. Ford, Y. L. Chueh, A. Javey, Adv. Mater. 2009, 21, 2730.
17. P. H. Yeh, Z. Li, Z. L. Wang, Adv. Mater. 2009, 21, 4975.
18. H. Liu, J. Kameoka, D. A. Czaplewski, H. G. Craighead, Nano Lett. 2004, 4, 671.
19. S. Mubeen, T. Zhang, B. Yoo, M. A. Deshusses, N. V. Myung, J. Phys. Chem. 2007, 111, 6321.
20. L. Wang, W. Chen, D. Xu, B. S. Shim, Y. Zhu, F. Sun, L. Liu, C. Peng, Z. Jin, C. Xu, et al. Nano Lett. 2009, 9, 4147.
21. X. J. Wu, F. Zhu, C. Mu, Y. Liang, L. Xu, Q. Chen, R. Chen, D. Xu, Coord. Chem. Rev. 2010, 254, 1135.
22. M. H. Seo, M. Yuasa, T. Kida, J. S. Huh, K. Shimanoe, N. Yamazoe, Sens. Actuator B 2009, 137, 513.
23. D. Li, Y. Xia, Adv. Mater. 2004, 16, 1151.
24. W. Sigmund, J. Yuh, H. Park, V. Maneeratana, G. Pyrgiotakis, A. Daga, J. Taylor, J. C. Nino, J. Am. Ceram. Soc. 2006, 89, 395.
25. D. Li, J. T. McCann, Y. Xia, M. Marquez, J. Am. Ceram. Soc. 2006, 89, 1861.
26. R. Ramaseshan, S. Sundarrajan, R. Jose, S. Ramakrishna, J. Appl. Phys. 2007, 102, 111101.
27. I. D. Kim, E. K. Jeon, S. H. Choi, D. K. Choi, H. L. Tuller, J. Electroceram. 2010. DOI: 10.1007/s10832-010-9607-6
28. J. Wang, B. Zou, S. Ruan, J. Zhao, Q. Chen, F. Wu, Mater. Lett. 2009, 63, 1750.
29. D. H. Reneker, A. L. Yarin, E. Zussman, Adv. Appl. Mech. 2007, 41, 43.
30. A. Greiner, J. H. Wendorff, Angew. Chem. Int. Ed. 2007, 46, 5670.
31. D. Li, Y. Xia, Nano Lett. 2003, 3, 555.
32. Q. Qi, T. Zhang, L. Liu, X. Zheng, G. Lu, Sens. Actuators B 2009, 141, 174.
33. Y. Zhang, X. He, J. Li, Z. Miao, F. Huang, Sens. Actuators B 2008, 132, 67.
34. G. Wang, Y. Ji, X. Huang, X. Yang, P. I. Gouma, M. Dudley, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 23777.
35. W. Zheng, Z. Li, H. Zhang, W. Wang, Y. Wang, C. Wang, Mater. Res. Bull. 2009, 44, 1432.
36. I. D. Kim, J. M. Hong, B. H. Lee, D. Y. Kim, E. K. Jeon, D. K. Choi, D. J. Yang, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 163109.
37. S. H. Choi, G. Ankonina, D. Y. Youn, S. G. Oh, J. M. Hong, A. Rothschild, I. D. Kim, ACS Nano 2009, 3, 2623.
38. W. Zheng, X. Lu, W. Wang, Z. Li, H. Zhang, Y. Wang, Z. Wang, C. Wang, Sens. Actuators B 2009, 142, 61.
39. S. Li, C. Shao, Y. Liu, S. Tang, R. Mu, J. Phys. Chem. Solids 2006, 67, 1869.
40. P. Viswanathamurthi, N. Bhattarai, H. Y. Kim, D. R. Lee, Scripta Mater. 2003, 49, 577.
41. Z. Liu, D. D. Sun, P. Guo, J. O. Leckie, Nano Lett. 2007, 7, 1081.
42. W. Zheng, X. Lu, W. Wang, B. Dong, H. Zhang, Z. Wang, X. Xu, C. Wang, J. Am. Ceram. Soc. 2010, 93, 15.
43. M. Hossain, A. Kim, Mater. Lett. 2009, 63, 789.
44. Y. Greenberg, Y. Lumelsky, M. S. Silverstein, E. Zussman, J. Mater. Sci. 2008, 43, 1664.
45. J. A. Park, J. Moon, S. J. Lee, S. H. Kim, H. Y. Chu, T. Zyung, Sens. Actuators B 2010, 145, 592.
46. R. Ostermann, D. Li, Y. Yin, J. T. McCann, Y. Xia, Nano Lett. 2006, 6, 1297.
47. E. Formo, E. Lee, D. Campbell, Y. Xia, Nano Lett. 2008, 8, 668.
48. W. Zheng, X. Lu, W. Wang, Z. Li, H. Zhang, Z. Wang, X. Xu, S. Li, C. Wang, J. Colloid Interface Sci. 2009, 338, 366.
49. M. Yang, T. Xie, L. Peng, Y. Zhao, D. Wang, Appl. Phys. A 2007, 89, 427.
50. Z. Wang, Z. Li, L. Liu, X. Xu, H. Zhang, W. Wang, W. Zheng, C. Wang, J. Am. Ceram. Soc. 2010, 93, 634.
51. X. Song, Q. Qi, T. Zhang, C. Wang, Sens. Actuators B 2009, 138, 368.
52. Z. Li, H. Zhang, W. Zheng, W. Wang, H. Huang, C. Wang, A. G. MacDiarmid, Y. Wei, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 5036.
53. T. S. Hyun, H. G. Kim, I. D. Kim, J. Power Sources 2010, 195, 1522.
54. T. S. Hyun, J. E. Kang, H. G. Kim, J. M. Hong, I. D. Kim, Electrochem. Solid-State Lett. 2009, 12, A225.
55. M. Y. Song, D. K. Kim, K. J. Ihn, S. M. Jo, D. Y. Kim, Nanotechnology 2004, 15, 1861.
56. S. Wu, Q. Tai, F. Yan, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 6197.
57. N. Yu, C. Shao, Y. Liu, H. Guan, X. Yang, J. Colloidal Interface Sci. 2005, 285, 163.
58. C. Ban, N. A. Chernova, M. S. Whittingham, Electrochem. Commun. 2009, 11, 522.
59. H. Wu, D. Lin, R. Zhang, W. Pan, J. Am. Ceram. Soc. 2007, 91, 656.
60. P. T. Moseley, B. C. Tofield, Solid State Gas Sensors (Adam Hilger, Bristol, 1987).
61. S. R. Morrison, Chemical Sensing with Solid State Devices, Academic Press, San Diego, 1989.
62. W. Gopel, K. D. Schierbaum, Sens. Actuators B 1995, 26-27, 1.
63. D. Kohl, J. Phys. D Appl. Phys. 2001, 34, R125.
64. H. Windischmann, P. Mark, J. Electrochem. Soc. 1979, 126, 672.
65. R. S. Morrison, Sens. Actuators 1982, 2, 329.
66. J. W. Gardner, Semicond. Sci. Technol. 1989, 4, 345.
67. D. E. Williams, Sens. Actuators B 1999, 57, 1.
68. M. E. Franke, T. J. Koplin, U. Simon, Small 2006, 2, 36.
69. A. Rothschild, Y. Komem, N. Ashkenasy, J. Appl. Phys. 2002, 92, 7090.
70. A. Rothschild, Y. Komem, Sens. Actuators B 2003, 93, 362.
71. A. Rothschild, Y. Komem, J. Electroceram. 2004, 13, 697.
72. A. Rothschild, Y. Komem, J. Appl. Phys. 2004, 95, 6374.
73. N. S. Baik, G. Sakai, N. Miura, N. Yamazoe, Sens. Actuators B 2000, 63, 74.
74. K. Darcovich, F. F. Garcia, C. A. Jeffrey, J. J. Tunney, M. L. Post, Sens. Actuators A 2008, 147, 378.
75. J. A. Park, J. H. Moon, S. J. Lee, S. C. Lim, T. H. Zyung, Curr. Appl. Phys. 2009, 9, S210.
76. P. I. Gouma, Rev. Adv. Mater. Sci. 2003, 5, 147.
77. K. M. Sawicka, A. K. Prasad, P. I. Gouma, Sens. Lett. 2005, 3, 31.
78. I. D. Kim, J. M. Hong, D. Y. Kim, S. M. Jo, A. Rothschild, H. L. Tuller, US patent 7640789, 2010.