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Volumn 81, Issue 12, 2010, Pages

Erratum: Ab initio study of subsurface diffusion of Cu on the H-passivated Si(001) surface (Physical Review B (2009) 80 (155426)

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EID: 77955201239     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.81.129902     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.