-
1
-
-
50649121239
-
-
E. Stoffels, Y. Sakiyama, D. B. Graves, IEEE Trans. Plasma Sci. 2008, 36, 1441.
-
(2008)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.36
, pp. 1441
-
-
Stoffels, E.1
Sakiyama, Y.2
Graves, D.B.3
-
2
-
-
33947696131
-
-
G. Fridman, A. Shereshevsky, M. M. Jost, A. D. Brooks, A. Fridman, A. Gutsol, V. Vasilets, G. Friedman, Plasma Chem. Plasma Process. 2007, 27, 163.
-
(2007)
Plasma Chem. Plasma Process
, vol.27
, pp. 163
-
-
Fridman, G.1
Shereshevsky, A.2
Jost, M.M.3
Brooks, A.D.4
Fridman, A.5
Gutsol, A.6
Vasilets, V.7
Friedman, G.8
-
3
-
-
63649144064
-
-
G. C. Kim, G. J. Kim, S. R. Park, S. M. Jeon, H. J. Seo, F. Iza, J. K. Lee, J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 032005.
-
(2009)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.42
, pp. 032005
-
-
Kim, G.C.1
Kim, G.J.2
Park, S.R.3
Jeon, S.M.4
Seo, H.J.5
Iza, F.6
Lee, J.K.7
-
4
-
-
72049086201
-
-
H. J. Lee, C. H. Shon, Y. S. Kim, S. Kim, G. C. Kim, M. G. Kong, New J. Phys. 2009, 11, 115026.
-
(2009)
New J. Phys.
, vol.11
, pp. 115026
-
-
Lee, H.J.1
Shon, C.H.2
Kim, Y.S.3
Kim, S.4
Kim, G.C.5
Kong, M.G.6
-
5
-
-
47549097725
-
-
X. Zhang, M. Li, R. Zhou, K. Feng, S. Yang, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 021502.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 021502
-
-
Zhang, X.1
Li, M.2
Zhou, R.3
Feng, K.4
Yang, S.5
-
7
-
-
21144432955
-
-
T. Somekawa, T. Shirafuji, O. Sakai, K. Tachibana, K. Matsunaga, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 1910.
-
(2005)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.38
, pp. 1910
-
-
Somekawa, T.1
Shirafuji, T.2
Sakai, O.3
Tachibana, K.4
Matsunaga, K.5
-
9
-
-
67650320824
-
-
M. Cooper, G. Fridman, D. Staack, A. F. Gutsol, V. N. Vasilets, S. Anandan, Y. I. Cho, A. Fridman, A. Tsapin, IEEE Trans. Plasma Sci. 2009, 37, 866.
-
(2009)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.37
, pp. 866
-
-
Cooper, M.1
Fridman, G.2
Staack, D.3
Gutsol, A.F.4
Vasilets, V.N.5
Anandan, S.6
Cho, Y.I.7
Fridman, A.8
Tsapin, A.9
-
11
-
-
35248891455
-
-
D. B. Kim, J. K. Rhee, B. Gweon, S. Y. Moon, W. Choe, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 151502.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 151502
-
-
Kim, D.B.1
Rhee, J.K.2
Gweon, B.3
Moon, S.Y.4
Choe, W.5
-
12
-
-
47249154736
-
-
Q.-Y. Nie, C.-S. Ren, D.-Z. Wang, J.-L. Zhang, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 011503.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 011503
-
-
Nie, Q.-Y.1
Ren, C.-S.2
Wang, D.-Z.3
Zhang, J.-L.4
-
14
-
-
18844424704
-
-
M. Teschke, J. Kedzierski, E. G. Finantu-Dinu, D. Korzec, J. Engemann, IEEE Trans. Plasma Sci. 2005, 33, 310.
-
(2005)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.33
, pp. 310
-
-
Teschke, M.1
Kedzierski, J.2
Finantu-Dinu, E.G.3
Korzec, D.4
Engemann, J.5
-
15
-
-
45749102465
-
-
J. F. Kolb, A.-A. H. Mohamed, R. O. Price, R. J. Swanson, A. Bowman, R. L. Chiavarini, M. Stacey, K. H. Schoenbach, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 241501.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 241501
-
-
Kolb, J.F.1
Mohamed, H.A.-A.2
Price, R.O.3
Swanson, R.J.4
Bowman, A.5
Chiavarini, R.L.6
Stacey, M.7
Schoenbach, K.H.8
-
17
-
-
42349101488
-
-
B. L. Sands, B. N. Ganguly, K. Tachibana, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 151503.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 151503
-
-
Sands, B.L.1
Ganguly, B.N.2
Tachibana, K.3
-
18
-
-
55849133398
-
-
A. Shashurin, M. Keidar, S. Bronnikov, R. A. Jurjus, M. A. Stepp, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 181501.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 181501
-
-
Shashurin, A.1
Keidar, M.2
Bronnikov, S.3
Jurjus, R.A.4
Stepp, M.A.5
-
19
-
-
56249088255
-
-
J. H. Kim, M. Katsurai, D. M. Kim, H. Ohsaki, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 191505.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 191505
-
-
Kim, J.H.1
Katsurai, M.2
Kim, D.M.3
Ohsaki, H.4
-
20
-
-
50249179026
-
-
X. Lu, Q. Xiong, Z. Tang, Z. Jiang, Y. Pan, IEEE Trans. Plasma Sci. 2008, 36, 990.
-
(2008)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.36
, pp. 990
-
-
Lu, X.1
Xiong, Q.2
Tang, Z.3
Jiang, Z.4
Pan, Y.5
-
21
-
-
67650745391
-
-
N. Jiang, A. Ji, Z. Cao, J. Appl. Phys. 2009, 106, 013308.
-
(2009)
J. Appl. Phys.
, vol.106
, pp. 013308
-
-
Jiang, N.1
Ji, A.2
Cao, Z.3
-
22
-
-
71549133999
-
-
H. Kim, A. Brockhaus, J. Engemann, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 211501.
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 211501
-
-
Kim, H.1
Brockhaus, A.2
Engemann, J.3
-
23
-
-
0346991669
-
-
E. Stoffels, I. E. Kieft, R. E. J. Sladek, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 2908.
-
(2003)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.36
, pp. 2908
-
-
Stoffels, E.1
Kieft, I.E.2
Sladek, R.E.J.3
-
24
-
-
33746867975
-
-
S. Yonson, S. Coulombe, V. Léveillé, R. L. Leask, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 3508.
-
(2006)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.39
, pp. 3508
-
-
Yonson, S.1
Coulombe, S.2
Léveillé, V.3
Leask, R.L.4
-
25
-
-
65449173197
-
-
Y. Sakiyama, T. Tomai, M. Miyano, D. B. Graves, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 161501.
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
, pp. 161501
-
-
Sakiyama, Y.1
Tomai, T.2
Miyano, M.3
Graves, D.B.4
-
26
-
-
75649105577
-
-
July 15-20, Prague
-
K. Kitano, H. Furusho, Y. Nagasaki, S. Ikawa, S. Hamaguchi, Proceedings of the 28th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, July 15-20, Prague, 2007, p. 1131.
-
(2007)
Proceedings of the 28th International Conference on Phenomena in Ionized Gases
, pp. 1131
-
-
Kitano, K.1
Furusho, H.2
Nagasaki, Y.3
Ikawa, S.4
Hamaguchi, S.5
-
28
-
-
34547597404
-
-
Y. C. Hong, S. C. Cho, J. H. Kim, H. S. Uhm, Phys. Plasmas 2007, 14, 074502.
-
(2007)
Phys. Plasmas
, vol.14
, pp. 074502
-
-
Hong, Y.C.1
Cho, S.C.2
Kim, J.H.3
Uhm, H.S.4
-
29
-
-
33646431187
-
-
J. L. Walsh, J. J. Shi, M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 171501.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 171501
-
-
Walsh, J.L.1
Shi, J.J.2
Kong, M.G.3
-
30
-
-
58349088805
-
-
Z. Cao, J. L. Walsh, M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 021501.
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
, pp. 021501
-
-
Cao, Z.1
Walsh, J.L.2
Kong, M.G.3
-
31
-
-
38849143111
-
-
J. J. Shi, F. Zhong, J. Zhang, D. W. Liu, M. G. Kong, Phys. Plasmas 2008, 15, 013504.
-
(2008)
Phys. Plasmas
, vol.15
, pp. 013504
-
-
Shi, J.J.1
Zhong, F.2
Zhang, J.3
Liu, D.W.4
Kong, M.G.5
|