Porous hierarchical In2O3 micro-/nanostructures: Preparation, formation mechanism, and their application in gas sensors for noxious volatile organic compound detection

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 114, Issue 11, 2010, Pages 4887-4894

  Liu, Jinhuai ^a   Liu, Jinyun ^a   Luo, Tao ^a   Meng, Fanli ^a   Qian, Kai ^b   Wan, Yuteng ^b  

^a INSTITUTE OF INTELLIGENT MACHINES   (China)

^b UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY OF CHINA   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONCENTRATION RANGES; ENVIRONMENTAL MONITORING; FORMATION MECHANISM; GAS SENSING; GAS SENSORS; KINETIC PROCESS; POROUS STRUCTURES; SCANNING ELECTRONIC MICROSCOPY; TARGET GAS; THERMOGRAVIMETRY; XRD;

CHEMICAL SENSORS; DESORPTION; GAS ADSORPTION; GAS CHROMATOGRAPHY; GAS DETECTORS; NANOSTRUCTURES; THERMOGRAVIMETRIC ANALYSIS; VOLATILE ORGANIC COMPOUNDS; X RAY DIFFRACTION; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

GASES;

EID: 77949819504     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp911768m     Document Type: Article

References (42)

1. Ni, J.; Yan, H.; Wang, A. C.; Yang, Y.; Stern, C. L.; Metz, A. W.; Jin, S.; Wang, L.; Marks, T. J.; Ireland, J. R.; Kannewurf, C. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 5613-5624.
2. Wang, Z. L. Annu. ReV. Phys. Chem. 2004, 55, 159-196.
3. Wan, N.; Lin, T.; Xu, J.; Xu, L.; Chen, K. J. Nanotechnology 2008, 19, 095709.
4. Wang, C. Y.; Ali, M.; Kups, T.; Rohlig, C. C.; Cimalla, V.; Stauden, T.; Ambacher, O. Sens. Actuators, B 2008, 130, 589-593.
5. Li, Y.; Li, C. C.; Cho, S. O.; Duan, G. T.; Cai, W. P. Langmuir 2007, 23, 9802-9807.
6. Ren, H. X.; Huang, X. J.; Kim, J. H.; Choi, Y. K.; Gu, N. Talanta 2009, 78, 1371-1377.
7. Fu, X. B.; Feng, J. Y.; Wang, H.; Ng, K. M. Nanotechnology 2009, 20, 375601.
8. Jiang, H.; Hu, J. Q.; Gu, F.; Shao, W.; Li, C. Z. Chem. Commun. 2009, 3618-3620.
9. Dong, H. X.; Chen, Z. H.; Sun, L. X.; Zhou, L.; Ling, Y. J.; Yu, C. Z.; Tan, H. H.; Jagadish, C.; Shen, X. C. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 10511-10516.
10. Wang, C. Q.; Chen, D. R.; Jiao, X. L.; Chen, C. L. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 13398-13403.
11. Wang, C. Q.; Chen, D. R.; Jiao, X. L. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 7714-7718.
12. Waitz, T.; Wagner, T.; Sauerwald, T.; Kohl, C. D.; Tiemann, M. AdV. Funct. Mater. 2009, 19, 653-661.
13. Chen, X. Y.; Zhang, Z. J.; Zhang, X. F.; Liu, J. W.; Qian, Y. T. Chem. Phys. Lett. 2005, 407, 482-486.
14. Zhao, P. T.; Huang, T.; Huang, K. X. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 12890-12897.
15. Datta, A.; Panda, S. K.; Ganguli, D.; Mishra, P.; Chaudhuri, S. Cryst. Growth Des. 2007, 7, 163-169.
16. Liu, J. Y.; Guo, Z.; Meng, F. L.; Jia, Y.; Luo, T.; Li, M. Q.; Liu, J. H. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 1716-1722.
17. Liu, J. Y.; Guo, Z.; Meng, F. L.; Luo, T.; Li, M. Q.; Liu, J. H. Nanotechnology 2009, 20, 125501.
18. Liu, L.; Liu, H. J.; Kou, H. Z.; Wang, Y. Q.; Zhou, Z.; Ren, M. M.; Ge, M.; He, X. W. Cryst. Growth Des. 2009, 9, 113-117.
19. Bai, H. X.; Zhang, L. X.; Zhang, Y. C. Mater. Lett. 2009, 63, 823-825.
20. Liu, Y.; Zhang, M.; Gao, Y. Q.; Zhang, R.; Qian, Y. T. Mater. Chem. Phys. 2007, 101, 362-366.
21. Xu, Y. F.; Ma, D. K.; Chen, X. A.; Yang, D. P.; Huang, S. M. Langmuir 2009, 25, 7103-7108.
22. Yang, J.; Li, C. X.; Zhang, X. M.; Quan, Z. W.; Zhang, C. M.; Li, H. Y.; Lin, J. Chem.sEur. J. 2008, 14, 4336-4345.
23. Li, H. B.; Chai, L. L.; Wang, X. Q.; Wu, X. Y.; Xi, G. C.; Liu, Y. K.; Qian, Y. T. Cryst. Growth Des. 2007, 7, 1918-1922.
24. Kundu, S.; Panigrahi, S.; Praharaj, S.; Basu, S.; Ghosh, S. K.; Pal, A.; Pal, T. Nanotechnology 2007, 18, 075712.
25. Liu, Z. P.; Li, S.; Yang, Y.; Peng, S.; Hu, Z. K.; Qian, Y. T. AdV. Mater. 2003, 22, 1946-1948.
26. He, X. B.; Gao, L. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 10981-10989.
27. Shi, W. D.; Huo, L. H.; Wang, H. S.; Zhang, H. J.; Yang, J. H.; Wei, P. H. Nanotechnology 2006, 17, 2918-2924.
28. Li, C. X.; Hou, Z. Y.; Zhang, C. M.; Yang, P. P.; Li, G. G.; Xu, Z. H.; Fan, Y.; Lin, J. Chem. Mater. 2009, 21, 4598-4607.
29. Liu, X. M.; He, J. H. Langmuir 2009, 25, 11822-11826.
30. Mohanan, J. L.; Arachchige, I. U.; Brock, S. L. Science 2005, 307, 397-400.
31. Grosshans-Vieles, S.; Tihay-Schweyer, F.; Rabu, P.; Paillaud, J. L.; Braunstein, P.; Lebeau, B.; Estournes, C.; Guille, J. L.; Rueff, J. M. Microporous Mesoporous Mater. 2007, 106, 17-27.
32. Ellmer, K.; Mientus, R.; Wei, V.; Rossner, H. Meas. Sci. Technol. 2003, 14, 336-345.
33. Cook, E.; Fong, R.; Horrocks, J.; Wilkinson, D.; Speller, R. Appl. Radiat. Isot. 2007, 65, 959-967.
34. Brunken, S.; Mientus, R.; Ellmer, K. Thin Solid Films 2009, 517, 3148-3151.
35. Weiss, V.; Seeger, S.; Ellmer, K.; Mientus, R. J. Appl. Phys. 2007, 101, 103502.
36. Harrison, P. G.; Willett, M. J. Nature 1988, 332, 337-339.
37. Gou, X. L.; Wang, G. X.; Park, J. S.; Liu, H.; Yang, J. Nanotechnology 2008, 19, 125606.
38. Wang, J.; Liu, L.; Cong, S. Y.; Qi, J. Q.; Xu, B. K. Sens. Actuators, B 2008, 134, 1010-1015.
39. Zhang, F. H.; Yang, H. Q.; Xie, X. L.; Li, L.; Zhang, L. H.; Yu, J.; Zhao, H.; Liu, B. Sens. Actuators, B 2009, 141, 381-389.
40. Chen, D. L.; Hou, X. X.; Wen, H. J.; Wang, Y.; Wang, H. H.; Li, X. J.; Zhang, R.; Lu, H. X.; Xu, H. L.; Guan, S. K.; Sun, J.; Gao, L. Nanotechnology 2010, 21, 035501.
41. Sakai, G.; Matsunaga, N.; Shimanoe, K.; Yamazoe, N. Sens. Actuators, B 2001, 80, 125-131.
42. Wang, J. X.; Zou, B.; Ruan, S. P.; Zhao, J.; Wu, F. Q. Mater. Chem. Phys. 2009, 117, 489-493.