Influences of evaporation temperature on electronic structures and electrical properties of molybdenum oxide in organic light emitting devices

Journal of Applied Physics

Volumn 107, Issue 5, 2010, Pages

  Lin, Chang Ting ^a   Yeh, Cheng Hung ^a   Chen, Mei Hsin ^a   Hsu, Shu Han ^a   Wu, Chih I ^a   Pi, Tun Wen ^b  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRICAL PROPERTY; EVAPORATION TEMPERATURE; FORBIDDEN GAPS; HIGH DEPOSITION RATES; HIGH TEMPERATURE; HIGH WORK FUNCTION; HOLE INJECTION LAYERS; ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICES;

ELECTRON INJECTION; ELECTRONIC PROPERTIES; ELECTRONIC STRUCTURE; EVAPORATION; HOLE TRAPS; LIGHT EMISSION; LIGHT EMITTING DIODES; MOLYBDENUM; MOLYBDENUM OXIDE; ORGANIC LIGHT EMITTING DIODES (OLED); REFRIGERATING MACHINERY; VAPORS;

ELECTRIC PROPERTIES;

EID: 77949725888     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.3309783     Document Type: Article

References (26)

1. C. W. Tang and S. A. Van Slyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
2. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997).
3. G. E. Jabbour, Y. Kawabe, S. E. Shaheen, J. F. Wang, M. M. Morrell, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett. 71, 1762 (1997).
4. M. G. Mason, C. W. Tang, L. S. Hung, P. Raychaudhuri, J. Madathil, L. Yan, Q. T. Le, Y. Gao, S.-T. Lee, L. S. Liao, L. F. Cheng, W. R. Salaneck, D. A. dos Santos, and J. L. Bŕdas, J. Appl. Phys. 89, 2756 (2001).
5. Q. T. Le, L. Yan, Y. Gao, M. G. Mason, D. J. Giesen, and C. W. Tang, J. Appl. Phys. 87, 375 (2000).
6. C. I. Wu, G. R. Lee, and T. W. Pi, Appl. Phys. Lett. 87, 212108 (2005).
7. C. I. Wu, C. T. Lin, Y. H. Chen, and M. H. Chen, Appl. Phys. Lett. 88, 152104 (2006).
8. C. W. Chen, Y. J. Lu, C. C. Wu, E. H. E. Wu, C. W. Chu, and Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 87, 241121 (2005).
9. H. Kanno, R. J. Holmes, Y. Sun, S. K. Cohen, and S. R. Forrest, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 18, 339 (2006).
10. J. Cao, X. Y. Jiang, and Z. L. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 252108 (2006).
11. H. You, Y. Dai, Z. Zhang, and D. Ma, J. Appl. Phys. 101, 026105 (2007).
12. K. Morii, M. Ishida, T. Takashima, T. Shimoda, Q. Wang, M. K. Nazeeruddin, and M. Grätzel, Appl. Phys. Lett. 89, 183510 (2006).
13. J. H. Li, J. Huang, and Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 90, 173505 (2007).
14. C. I. Wu, C. T. Lin, G. R. Lee, T. Y., Cho, C. C. Wu, and T. W. Pi, J. Appl. Phys. 105, 033717 (2009).
15. W. J. Shin, J. Y. Lee, J. C. Kim, T. H. Yoon, T. S. Kim, and O. K. Song, Org. Electron. 9, 333 (2008).
16. H. Lee, S. W. Cho, K. Han, P. E. Jeon, C. N. Whang, K. Jeong, K. Cho, and Y. Yi, Appl. Phys. Lett. 93, 043308 (2008).
17. F. Wang, X. Qiao, T. Xiong, and D. Ma, Org. Electron. 9, 985 (2008).
18. J. H. Lee, D. S. Leem, H. J. Kim, and J. J. Kim, Appl. Phys. Lett. 94, 123306 (2009).
19. T. Schroeder, J. Zegenhagen, N. Magg, B. Immaraporn, and H.-J. Freund, Surf. Sci. 552, 85 (2004).
20. L. Kihlborg, Acta Chem. Scand. 13, 954 (1959).
21. M. Di Giulio, D. Manno, G. Micocci, A. Serra, and A. Tepore, Phys. Status Solidi A, 168, 249 (1998).
22. M. Ferroni, V. Guidi, G. Martinelli, P. Nelli, M. Sacerdoti, and G. Sberveglieri, Thin Solid Films 307, 148 (1997).
23. G. S. Nadkarni and J. G. Simmons, J. Appl. Phys. 41, 545 (1970).
24. C. A. Rozzi, F. Manghi, and F. Parmigiani, Phys. Rev. B 68, 075106 (2003).
25. M. Sing, R. Neudert, H. V. Lips, M. S. Golden, M. Knupfer, J. Fink, R. Claessen, J. Mucke, H. Schmitt, S. Hufner, B. Lommel, W. Abmus, Ch. Jung, and C. Hellwig, Phys. Rev. B 60, 8559 (1999).
26. R. Tokarz-Sobieraj, K. Hermann, M. Witko, A. Blume, G. Mestl, and R. Schlogl, Surf. Sci. 489, 107 (2001).