Influence of the matrix properties on the performances of Er-doped Si nanoclusters light emitting devices

Journal of Applied Physics

Volumn 107, Issue 5, 2010, Pages

  Irrera, Alessia ^a   Iacona, Fabio ^a   Franzò, Giorgia ^a   Miritello, Maria ^a,b   Lo Savio, Roberto ^a,b   Castagna, Maria Eloisa ^c   Coffa, Salvatore ^c   Priolo, Francesco ^a,b  

^a CNR IMM   (Italy)

^b UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^c STMICROELECTRONICS   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ACTIVE LAYER; AUGER DE-EXCITATION; DEVICE EFFICIENCY; ELECTROLUMINESCENCE PROPERTIES; ER-DOPED; LIGHT EMITTING DEVICES; MAGNETRON CO-SPUTTERING; MATRIX; NON-RADIATIVE; OXIDE MATRIX; SI NANOCLUSTER; THERMAL-ANNEALING;

ERBIUM; LIGHT; LIGHT EMISSION; NANOCLUSTERS; NANOPHOTONICS; PLASMA DEPOSITION; SILICON COMPOUNDS; SILICON OXIDES;

SILICON;

EID: 77949715514     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.3319581     Document Type: Article

References (32)

1. K. S. Min, K. V. Shcheglov, C. M. Yang, H. A. Atwater, M. L. Brongersma, and A. Polman, Appl. Phys. Lett. 69, 2033 (1996).
2. J. Linnros, N. Lalic, A. Galeckas, and V. Grivickas, J. Appl. Phys. 86, 6128 (1999).
3. F. Iacona, G. Franz, and C. Spinella, J. Appl. Phys. 87, 1295 (2000).
4. L. Pavesi, L. Dal Negro, C. Mazzoleni, G. Franz, and F. Priolo, Nature (London) 408, 440 (2000).
5. L. Khriachtchev, M. Rasanen, S. Novikov, and J. Sinkkonen, Appl. Phys. Lett. 79, 1249 (2001).
6. J. Valenta, I. Pelant, K. Luterova, R. Tomasiunas, S. Cheylan, R. G. Elliman, J. Linnros, and B. Hönerlage, Appl. Phys. Lett. 82, 955 (2003).
7. L. Rebohle, J. von Borany, R. A. Yankov, W. Skorupa, I. E. Tyschenko, H. Frob, and K. Leo, Appl. Phys. Lett. 71, 2809 (1997).
8. G. Franz, A. Irrera, E. C. Moreira, M. Miritello, F. Iacona, D. Sanfilippo, G. Di Stefano, P. G. Fallica, and F. Priolo, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 74, 1 (2002).
9. A. Irrera, F. Iacona, I. Crupi, C. D. Presti, G. Franz, C. Bongiorno, D. Sanfilippo, G. Di Stefano, A. Piana, P. G. Fallica, A. Canino, and F. Priolo, Nanotechnology 17, 1428 (2006).
10. R. J. Walters, G. I. Bourianoff, and H. A. Atwater, Nature Mater. 4, 143 (2005).
11. M. Perálvarez, C. García, M. López, B. Garrido, J. Barreto, C. Domínguez, and J. A. Rodríguez, Appl. Phys. Lett. 89, 051112 (2006).
12. S. Prezioso, A. Anopchenko, Z. Gaburro, L. Pavesi, G. Pucker, L. Vanzetti, and P. Bellutti, J. Appl. Phys. 104, 063103 (2008).
13. G.-R. Lin, C.-J. Lin, and C.-T. Lin, Nanotechnology 18, 395202 (2007).
14. A. J. Kenyon, P. F. Trwoga, M. Federighi, and C. W. Pitt, J. Phys.: Condens. Matter 6, L319 (1994).
15. M. Fujii, M. Yoshida, Y. Kanzawa, S. Hayashi, and K. Yamamoto, Appl. Phys. Lett. 71, 1198 (1997).
16. G. Franz, V. Vinciguerra, and F. Priolo, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 3 (1999).
17. P. G. Kik, M. L. Brongersma, and A. Polman, Appl. Phys. Lett. 76, 2325 (2000).
18. H.-S. Han, S.-Y. Seo, and J. H. Shin, Appl. Phys. Lett. 79, 4568 (2001).
19. F. Iacona, D. Pacifici, A. Irrera, M. Miritello, G. Franz, F. Priolo, D. Sanfilippo, G. Di Stefano, and P. G. Fallica, Appl. Phys. Lett. 81, 3242 (2002).
20. A. Nazarov, J. M. Sun, W. Skorupa, R. A. Yankov, I. N. Osiyuk, I. P. Tjagulskii, V. S. Lysenko, and T. Gebel, Appl. Phys. Lett. 86, 151914 (2005).
21. F. Priolo, C. D. Presti, G. Franz, A. Irrera, I. Crupi, F. Iacona, G. Di Stefano, A. Piana, D. Sanfilippo, and P. G. Fallica, Phys. Rev. B 73, 113302 (2006).
22. M. V. Wolkin, J. Jorne, P. M. Fauchet, G. Allan, and C. Delerue, Phys. Rev. Lett. 82, 197 (1999).
23. F. Iacona, C. Bongiorno, C. Spinella, S. Boninelli, and F. Priolo, J. Appl. Phys. 95, 3723 (2004).
24. C. Spinella, C. Bongiorno, G. Nicotra, E. Rimini, A. Muscar̀, and S. Coffa, Appl. Phys. Lett. 87, 044102 (2005).
25. A. La Magna, G. Nicotra, C. Bongiorno, C. Spinella, M. G. Grimaldi, E. Rimini, L. Caristia, and S. Coffa, Appl. Phys. Lett. 90, 183101 (2007).
26. G. Franz, M. Miritello, S. Boninelli, R. Lo Savio, M. G. Grimaldi, F. Priolo, F. Iacona, G. Nicotra, C. Spinella, and S. Coffa, J. Appl. Phys. 104, 094306 (2008).
27. Y. He, L. Bi, J. Y. Feng, and Q. L. Wu, J. Cryst. Growth 280, 352 (2005).
28. L. Bi, Y. He, and J. Y. Feng, J. Cryst. Growth 289, 564 (2006).
29. G. Franz, S. Boninelli, D. Pacifici, F. Priolo, F. Iacona, and C. Bongiorno, Appl. Phys. Lett. 82, 3871 (2003).
30. F. C. Yuan, G. Z. Ran, Y. Chen, L. Dai, Y. P. Qiao, Z. C. Ma, W. H. Zong, and G. G. Qin, Thin Solid Films 409, 194 (2002).
31. K. Sun, W. J. Xu, B. Zhang, L. P. You, G. Z. Ran, and G. G. Qin, Nanotechnology 19, 105708 (2008).
32. S. Miura, T. Nakamura, M. Fujii, M. Inui, and S. Hayashi, Phys. Rev. B 73, 245333 (2006).