Atomic defects and diffusion in intermetallic compounds with DO 3 structure: An ab-initio study

Zeitschrift fuer Metallkunde/Materials Research and Advanced Techniques

Volumn 95, Issue 10, 2004, Pages 864-869

  Fähnle, Manfred ^a   Schimmele, L ^a  

^a MAX PLANCK INSTITUTE FOR INTELLIGENT SYSTEMS   (Germany)

Author keywords

Ab initio electron theory; Diffusion in intermetallics; DO3 phases; Statistical mechanics

Indexed keywords

CRYSTAL DEFECTS; CRYSTALLOGRAPHY; DIFFUSION; POSITRON ANNIHILATION SPECTROSCOPY; SEMICONDUCTOR MATERIALS; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; STATISTICAL MECHANICS; STOICHIOMETRY;

AB-INITIO ELECTRON THEORY; ATOMIC DEFECTS; DO3 PHASES; GENERALIZED GRADIENT APPROXIMATION (GGA);

INTERMETALLICS;

EID: 7244236279     PISSN: 00443093     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3139/146.018047     Document Type: Article

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