Novel noria (water wheel-like cyclic oligomer) derivative as a chemically amplified extreme ultraviolet (EUV)-resist material

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 22, Issue 1, 2009, Pages 73-76

  Nishikubo, Tadatomi ^a   Kudo, Hiroto ^a   Suyama, Yuji ^a   Oizumi, Hiroaki ^b   Itani, Toshiro ^b  

^a KANAGAWA UNIVERSITY   (Japan)

^b SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES INC   (Japan)

Author keywords

Adamantane; Chemically amplification; Extreme ultraviolet; Noria; Resist

Indexed keywords

EID: 70249113739     PISSN: 09149244     EISSN: 13496336     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.22.73     Document Type: Article

References (23)

1. A. M. Goethals, G. Vandenberghe, I. Pollentier, M. Ercken, P. De. Bisschop, M. Maenhoudt, K. Ronse, J. Photopolym. Sci. Technol., 14, 333 (2001).
2. H. Ito, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 41, 3863 (2003).
3. S. A. MacDonald, C. G. Willson, J. M. J. Frechet, Acc. Chem. Res., 27, 151 (1994).
4. C. G. Willson, B. C. Trinque, B. P. Osborn, C. Chambers, R. Y. Hedieh, T. Chiba, P. Zimmerma, D. Miller, W. Conley, J. Photopolym. Sci. Tecnol., 15, 583 (2002).
5. C. K. Ober, K. Douki, V. R. Vohra, Y. Kwark, X. Liu, W. Conley, D. Miller, P. Zimmerman, J. Photopolym. Sci., Technol., 15, 603 (2002).
6. H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, D. Miller, M. Sherwood, R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol., 15, 693 (2002).
7. Z. M. Fresco, N. Bensel, I. Suez, S. A. Backer, J. M. J. Frechet, J. Photopolym. Sci. Technol., 16, 27 (2003).
8. C. G. Willson, H. Ito, J. M. J. Frechet, T. G. Tessier, F. M. Houlihan, J. Electrochem. Soc, 133,181 (1986).
9. Development and Application of Extreme Ultraviolet Light Source, K. Toyota, S. Okazaki. Eds.; CMC: Tokyo, (2007).
10. J. Dai, S. W. Chang, A. Hamad, D. Yang, N. Felix, C. K. Ober, Chem. Mater., 18, 3404 (2006).
11. T. Hirayama, D. Shiono, S. Matsumaru, T. Ogata, H. Hada, J. Onodera, T. Arai, T. Sakamizu, A. Yamaguchi, H. Shiraishi, H. Fukuda, M. Ueda, J. J. Appl. Phys., 44, 5484 (2005).
12. T. Kadota, H. Kageyama, F. Wakaya, K. Gamo, Y. Shirota, Chem. Lett. 33, 706 (2004).
13. T. Nakayama, K. Haga, O. Haba, M. Ueda, Chem. Lett., 265 (1997).
14. M. Ueda, D. Takahashi, T. Nakamura, O. Haba, Chem. Mater., 10, 2230 (1998).
15. J. Fujita, Y. Onishi, Y. Ochiai, S. Matsui, Appl. Phys. Lett., 68, 1297 (1996).
16. Y. Ochiai, S. Manako, H. Yamamoto, T. Teshima, J. Fujita, E. J. Nomura, J. Photopolym. Sci. Technol., 13, 413 (2000).
17. M. Iyo, K. Tsutsui, A. Kameyama, T. Nishikubo, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem. 37, 3071 (1999).
18. T. Nishikubo, A. Kameyama, K. Tsutsui, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 39, 1169 (2001).
19. th Annual meeting of Chem Soc. Jpn., 1C2-20.
20. H. Kudo, R. Hayashi, K. Mitani, T. Yokozawa, N. C. Kasuga, T. Nishikubo. Angew. Chem. Int. Ed. 45, 7948 (2006).
21. X. André, J. K. Lee, A. DeSilva, C. K. Ober, H. B. Cao, H. Deng, H. Kudo, D. Watanabe, T. Nishikubo, SPIE Vol.6519, 65194B (2007).
22. H. Kudo, D, Waqtanabe, T. Nishikubo, K. Maruyama, D. Shimizu, T. Kai, T. Shimokawa, C. K. Ober, J. Mater. Chem., 18, 3588 (2008).
23. K. Tawarayama, S. Magoshi, Y Tanaka, S. Shirai, and H. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 47, 4866 (2008).