-
1
-
-
0034264803
-
-
10.1143/JJAP.39.L933
-
M. Tsuji, A. Tanaka, T. Hamagami, K. Nakano, and Y. Nishimura, Jpn. J. Appl. Phys. 39, L933 (2000). 10.1143/JJAP.39.L933
-
(2000)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.39
, pp. 933
-
-
Tsuji, M.1
Tanaka, A.2
Hamagami, T.3
Nakano, K.4
Nishimura, Y.5
-
2
-
-
0036575711
-
-
0963-0252,. 10.1088/0963-0252/11/2/302
-
M. Baeva, A. Pott, and J. Uhlenbusch, Plasma Sources Sci. Technol. 0963-0252 11, 135 (2002). 10.1088/0963-0252/11/2/302
-
(2002)
Plasma Sources Sci. Technol.
, vol.11
, pp. 135
-
-
Baeva, M.1
Pott, A.2
Uhlenbusch, J.3
-
3
-
-
41849106172
-
-
10.1007/s10563-007-9038-9 1571-1013
-
H. He, X. L. Zhang, Q. Wu, C. B. Zhang, and Y. B. Yu, Catal. Surv. Asia 12, 38 (2008). 10.1007/s10563-007-9038-9 1571-1013
-
(2008)
Catal. Surv. Asia
, vol.12
, pp. 38
-
-
He, H.1
Zhang, X.L.2
Wu, Q.3
Zhang, C.B.4
Yu, Y.B.5
-
4
-
-
33645708047
-
-
1566-7367,. 10.1016/j.catcom.2005.10.016
-
J. H. Niu, X. F. Yang, A. M. Zhu, L. L. Shi, Q. Sun, Y. Xu, and C. Shi, Catal. Commun. 1566-7367 7, 297 (2006). 10.1016/j.catcom.2005.10.016
-
(2006)
Catal. Commun.
, vol.7
, pp. 297
-
-
Niu, J.H.1
Yang, X.F.2
Zhu, A.M.3
Shi, L.L.4
Sun, Q.5
Xu, Y.6
Shi, C.7
-
5
-
-
0037039643
-
-
0926-3373,. 10.1016/S0926-3373(01)00280-6
-
H. Miessner, K. P. Francke, and R. Rudolph, Appl. Catal., B 0926-3373 36, 53 (2002). 10.1016/S0926-3373(01)00280-6
-
(2002)
Appl. Catal., B
, vol.36
, pp. 53
-
-
Miessner, H.1
Francke, K.P.2
Rudolph, R.3
-
6
-
-
0034283112
-
-
0304-3886,. 10.1016/S0304-3886(00)00011-5
-
J. D. Moon, G. T. Lee, and S. T. Geum, J. Electrost. 0304-3886 50, 1 (2000). 10.1016/S0304-3886(00)00011-5
-
(2000)
J. Electrost.
, vol.50
, pp. 1
-
-
Moon, J.D.1
Lee, G.T.2
Geum, S.T.3
-
7
-
-
21244506486
-
-
0300-9467,. 10.1016/j.cej.2005.02.032
-
Y. S. Mok, H. J. Lee, M. Dors, and J. Mizeraczyk, Chem. Eng. J. 0300-9467 110, 79 (2005). 10.1016/j.cej.2005.02.032
-
(2005)
Chem. Eng. J.
, vol.110
, pp. 79
-
-
Mok, Y.S.1
Lee, H.J.2
Dors, M.3
Mizeraczyk, J.4
-
8
-
-
0037367234
-
-
0304-3886,. 10.1016/S0304-3886(02)00165-1
-
J. O. Chae, J. Electrost. 0304-3886 57, 251 (2003). 10.1016/S0304- 3886(02)00165-1
-
(2003)
J. Electrost.
, vol.57
, pp. 251
-
-
Chae, J.O.1
-
9
-
-
33646204420
-
-
0268-2575,. 10.1002/jctb.1416
-
Y. Itoh, M. Ueda, H. Shinjoh, M. Sugiura, and M. Arakawa, J. Chem. Technol. Biotechnol. 0268-2575 81, 544 (2006). 10.1002/jctb.1416
-
(2006)
J. Chem. Technol. Biotechnol.
, vol.81
, pp. 544
-
-
Itoh, Y.1
Ueda, M.2
Shinjoh, H.3
Sugiura, M.4
Arakawa, M.5
-
10
-
-
18844435173
-
-
0093-3813,. 10.1109/TPS.2005.844610
-
K. Yukimura, K. Kawamura, S. Kambara, H. Moritomi, and T. Yamashita, IEEE Trans. Plasma Sci. 0093-3813 33, 763 (2005). 10.1109/TPS.2005.844610
-
(2005)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.33
, pp. 763
-
-
Yukimura, K.1
Kawamura, K.2
Kambara, S.3
Moritomi, H.4
Yamashita, T.5
-
11
-
-
0842326641
-
-
0920-5861,. 10.1016/j.cattod.2003.11.001
-
Th. Hammer, Th. Kappes, and M. Baldauf, Catal. Today 0920-5861 89, 5 (2004). 10.1016/j.cattod.2003.11.001
-
(2004)
Catal. Today
, vol.89
, pp. 5
-
-
Hammer, Th.1
Kappes, Th.2
Baldauf, M.3
-
12
-
-
33744923668
-
-
0378-3820,. 10.1016/j.fuproc.2005.10.007
-
Y. S. Mok and H. J. Lee, Fuel Process. Technol. 0378-3820 87, 591 (2006). 10.1016/j.fuproc.2005.10.007
-
(2006)
Fuel Process. Technol.
, vol.87
, pp. 591
-
-
Mok, Y.S.1
Lee, H.J.2
-
13
-
-
0343006678
-
-
0926-3373,. 10.1016/S0926-3373(00)00166-1
-
S. Bröer and Th. Hammer, Appl. Catal., B 0926-3373 28, 101 (2000). 10.1016/S0926-3373(00)00166-1
-
(2000)
Appl. Catal., B
, vol.28
, pp. 101
-
-
Bröer, S.1
Hammer, Th.2
-
14
-
-
17444395981
-
-
0920-5861,. 10.1016/j.cattod.2004.11.006
-
H. He and Y. B. Yu, Catal. Today 0920-5861 100, 37 (2005). 10.1016/j.cattod.2004.11.006
-
(2005)
Catal. Today
, vol.100
, pp. 37
-
-
He, H.1
Yu, Y.B.2
-
15
-
-
0037014349
-
-
0920-5861,. 10.1016/S0920-5861(02)00085-8
-
H. Miessner, K. -P. Francke, R. Rudolph, and Th. Hammer, Catal. Today 0920-5861 75, 325 (2002). 10.1016/S0920-5861(02)00085-8
-
(2002)
Catal. Today
, vol.75
, pp. 325
-
-
Miessner, H.1
Francke, K.-P.2
Rudolph, R.3
Hammer, Th.4
-
16
-
-
3242777835
-
-
0920-5861,. 10.1016/j.cattod.2004.04.026
-
H. He, C. B. Zhang, and Y. B. Yu, Catal. Today 0920-5861 90, 191 (2004). 10.1016/j.cattod.2004.04.026
-
(2004)
Catal. Today
, vol.90
, pp. 191
-
-
He, H.1
Zhang, C.B.2
Yu, Y.B.3
-
17
-
-
0034342676
-
-
0272-4324,. 10.1023/A:1007069123634
-
J. F. Xia, X. X. Gao, J. Y. Kong, H. X. Hui, M. Cui, and K. P. Yan, Plasma Chem. Plasma Process. 0272-4324 20, 225 (2000). 10.1023/A:1007069123634
-
(2000)
Plasma Chem. Plasma Process.
, vol.20
, pp. 225
-
-
Xia, J.F.1
Gao, X.X.2
Kong, J.Y.3
Hui, H.X.4
Cui, M.5
Yan, K.P.6
-
18
-
-
0031208191
-
-
0022-3727,. 10.1088/0022-3727/30/16/002
-
A. Ricard, J. Phys. D: Appl. Phys. 0022-3727 30, 2261 (1997). 10.1088/0022-3727/30/16/002
-
(1997)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.30
, pp. 2261
-
-
Ricard, A.1
-
19
-
-
67650742873
-
-
L. Jing, J. H. Niu, A. M. Zhu, Q. Sun, and L. H. Nie, Acta Chim. Sin. 21, 1352 (2005).
-
(2005)
Acta Chim. Sin.
, vol.21
, pp. 1352
-
-
Jing, L.1
Niu, J.H.2
Zhu, A.M.3
Sun, Q.4
Nie, L.H.5
|