Patterning of solution-processed semiconducting polymers in high-mobility thin-film transistors by physical delamination

Advanced Materials

Volumn 21, Issue 24, 2009, Pages 2530-2535

  Chang, Jui Fen ^a   Sirringhaus, Henning ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

3-MERCAPTOPROPYLTRIMETHOXYSILANE; ADHESION LAYER; AU ELECTRODES; BOTTOM CONTACTS; CHEMICAL PATTERNING; DEVICE PERFORMANCE; ETCHING PROCESS; GLASS SUBSTRATES; HEXAMETHYLDISILAZANE; HIGH MOBILITY; HIGH PERFORMANCE POLYMER; HIGH RESOLUTION; LOW-COST PATTERNING; NUMBER AVERAGE; PATTERNING METHODS; SIMPLE METHOD; SOLUTION-PROCESSED; TOP GATE;

ELECTRODES; GOLD; MONOLAYERS; MOSFET DEVICES; PLASTIC COATINGS; POLYDISPERSITY; POLYMER FILMS; POLYMERS; SEMICONDUCTING FILMS; SILANES; SPIN DYNAMICS; STEEL SHEET; THIN FILM TRANSISTORS; THIOPHENE;

SEMICONDUCTING POLYMERS;

EID: 67649255621     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200803794     Document Type: Article

References (27)

1. H. Sirringhaus, P. J. Brown, R. H. Friend, M. M. Nielsen, K. Bechgaard, B. M. W. Langeveld-Voss, A. J. H. Spiering, R. A. J. Janssen, E. W. Meijer, P. Herwig, D. M. de Leeuw, Nature 1999, 401, 685.
2. B. S. Ong, Y. Wu, P. Liu, S. Gardner, J. Am. Chem. Soc. 2004, 726, 3378.
3. I. McCulloch, M. Heeney, C. Bailey, K. Genevicius, I. MacDonald, M. Shkunov, D. Sparrowe, S. Tierney, R. Wagner, W. Zhang, M. L. Chabinyc, R. J. Kline, M. D. McGehee, M. F. Toney, Nat. Mater. 2006, 5, 328.
4. R. D. Piner, J. Zhu, F. Xu, S. H. Hong, C. A. Mirkin, Science 1999, 283, 661.
5. M. Yang, P. E. Sheehan, W. P. King, L. J. Whitman, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 6774.
6. E. Bonaccurso, H.-J. Butt, B. Hankeln, B. Niesenhaus, K. Graf, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 124101.
7. G. M. Gratson, M. J. Xu, J. A. Lewis, Nature 2004, 428, 386.
8. J.-U. Park, M. Hardy, S. J. Kang, K. Barton, K. Adair, D. k, Mukhopadhyay, C. Y. Lee, M. S. Strano, A. G. Alleyne, J. G. Georgiadis, P. M. Ferreira, J. A. Rogers, Nat. Mater. 2007, 6, 782.
9. K. E. Paul, W. S. Wong, S. E. Ready, R. A. Street, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2070.
10. L. J. Guo, Adv. Mater. 2007, 19, 495.
11. E. Menard, M. A. Meitl, Y. Sun, J.-U. Park, D. J.-L. Shir, Y.-S. Nam, S. Jeon, J. A. Rogers, Chem. Rev. 2007, 107, 1117.
12. I. Yagi, K. Tsukagoshi, Y. Aoyagi, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 813.
13. C. J. Drury, C. M. J. Mutsaers, C. M. Hart, M. Matters, D. M. de Leeuw, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 108.
14. F. M. Li, Y. Vygranenko, S. Koul, A. Nathan J. Vac. Sci. Technol, A 2006, 24, 657.
15. H. Jia, E. K. Gross, R. M. Wallace, B. E. Gnade, Org. Electr. 2007, 8, 44.
16. M. L. Chabinyc, W. S. Wong, A. Salleo, K. E. Paul, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4260.
17. A. Salleo, A. C. Arias, Adv. Mater. 2007, 19, 3540.
18. L. Chen, P. Degenaar, D. D. C. Bradley, Adv. Mater. 2008, 20, 1679.
19. S. Y. Park, T. Kwon, H. H. Lee, Adv. Mater. 2006, 18, 1861.
20. A. Zakhidov, J.-K. Lee, J. DeFranco, H. H. Fong, M. Chatzichristidi, P. Taylor, C. Ober, G. Malliaras, MRS Spring Meeting 2008, AA1.3.
21. M. L. Chabinyc, A. Salleo, Y. Wu, P. Liu, B. S. Ong, M. Heeney, I. McCulloch, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 13928.
22. B. H. Hamadani, D. J. Gundlach, I. McCulloch, M. Heeney, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 243512.
23. N. Zhao, Y.-Y. Noh, J.-F. Chang, H. Sirringhaus, M. Heeney, I. McCulloch, Adv. Mater., in press.
24. Y.-Y. Noh, X. Cheng, M. Tello, M.-J. Lee, M. Heeney, I. McCulloch, H. Sirringhaus, unpublished.
25. M. L. Chabinyc, R. Lujan, F. Endicott, M. F. Toney, I. McCulloch, M. Heeney, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 233508.
26. R. J. Kline, D. M. DeLongchamp, D. A. Fischer, E. K. Lin, M. Heeney, I. McCulloch, M. F. Toney, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 062117.
27. B. H. Hamadani, C. A. Richter, D. J. Gundlach, R. J. Kline, I. McCulloch, M. Heeney, J. Appl. Phys. 2007, 102, 044503.