Photoresponsive polymer brushes for hydrophilic patterning

Langmuir

Volumn 25, Issue 3, 2009, Pages 1744-1749

  Brown, Andrew A ^a,c   Azzaroni, Omar ^a,b,c   Huck, Wilhelm T S ^a,c  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

^b UNIVERSIDAD NACIONAL DE LA PLATA   (Argentina)

^c INSTITUTO DE INVESTIGACIONES FISICOQUÍMICAS TEÓRICAS Y APLICADAS INIFTA   (Argentina)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HYDROPHILIC POLYMERS; HYDROPHILIC SURFACES; PHOTO-RESPONSIVE POLYMERS; PHOTOLABILE PROTECTING GROUPS; POLYMER SIDE-CHAINS; SURFACE WETTABILITIES; UV LIGHTS;

BRUSHES; HYDROPHOBICITY; PHOTORESISTS; POLYMERS; SURFACE ROUGHNESS;

HYDROPHILICITY;

EID: 61849137186     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la8032308     Document Type: Article

References (44)

1. Lee, C. W.; Yuan, Z. Z.; Ahn, K. D.; Lee, S. H. Chem. Mater. 2002, 14, 4572-4575.
2. Kocher, C; Weder, C; Smith, P. J. Mater. Chem. 2003, 13, 9-15.
3. Husemann, M.; Morrison, M.; Benoit, D.; Frommer, J. K.; Mate, C. M.; Hinsberg, W. D.; Hedrick, J. L.; Hawker, C. J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 1844-1845.
4. Stewart, M. D.; Tran, H. V.; Schmid, G. M.; Stachowiak, T. B.; Becker, D. J.; Willson, C. G. J. Vac. Sci. Technol., B 2002, 20, 2946-2952.
5. Houlihan, F. M.; Shugard, A.; Gooden, R.; Reichmanis, E. Macromolecules 1988, 21, 2001-2006.
6. Protecting groups; Kocieński, P. J., Ed.; Georg Thieme Verlag: Stuttgart, 2004.
7. Spivey, A.C; Andrews,B. I. Annu. Rep. Prog. Chem., Sect. B: Org. Chem. 2000, 96, 65-83.
8. Spivey, A. C; Leese, D. Annu. Rep. Prog. Chem., Sect. B: Org. Chem. 2002, 98, 41-60.
9. Lloyd-Williams, P.; Albericio, F.; Giralt, E. Tetrahedron 1993, 49, 11065-11133.
10. Orain, D.; Ellard, J.; Bradley, M. J. Comb. Chem. 2002, 4, 1-16.
11. Frutos, A. G.; Brockman, J. M.; Corn, R. M. Langmuir 2000, 16, 2192-2197.
12. Kessler, M.; Glatthar, R.; Giese, B.; Bochet, C. G. Org. Lett. 2003, 5, 1179-1181.
13. Alvarez, K.; Vasseur, J. J.; Beltran, T.; Imbach, J. L. J. Org. Chem. 1999, 64, 6319-6328.
14. Patchornick, A.; Amit, B.; Woodward, R. B. J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 6333-6335.
15. Rich, D. H.; Gurwara, S. K. J. Am. Chem. Soc. 1975, 97, 1575-1579.
16. McGall, G. H.; Barone, A. D.; Diggelmann. M.; Fodor, S. P. A.; Gentalen, E.; Ngo, N. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 5081-5090.
17. Fodor, S. P. A.; Read, J. L.; Pirrung, M. C; Stryer, L.; Lu, A. T.; Solas, D. Science 1991, 251, 767-773.
18. Braun, F.; Eng, L.; Trogisch, S.; Voit, B. Macromol. Chem. Phys. 2003, 204, 1486-1496.
19. Critchley, K.; Jeyadevan, J. P.; Fukushima, H.; Ishida, M.; Shimoda, T.; Bushby, R. J.; Evans, S. D. Langmuir 2005, 21, 4554-4561.
20. Zhao, B.; Moore, J. S.; Beebe, D. J. Anal. Chem. 2002, 74, 4259-4268.
21. Zhao, B.; Moore, J. S.; Beebe, D. J. Langmuir 2003, 19, 1873-1879.
22. Zhao, B.; Moore, J. S.; Beebe, D. J. Science 2001, 291, 1023-1026.
23. Zhao, B.; Viernes, N. O. L.; Moore, J. S.; Beebe, D. J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 5284-5285.
24. Brown, A. A.; Khan, N. S.; Steinbock, L.; Huck, W. T. S. Eur. Polym. J. 2005, 41, 1757-1765.
25. Neenan, T. X.; Houlihan, F. M.; Reichmanis, E.; Kometani, J. M.; Bachman, B. J.; Thompson, L. F. Macromolecules 1990, 23, 145-150.
26. Lee, S. K.; Jung, B. J.; Ahn, T.; Song, I. S.; Shim, H. K. Macromolecules 2003, 36, 9252-9256.
27. The chemistry of the nitro and nitroso groups; Feuer, H., Ed.; Wiley Interscience Publishers: New York, 1969.
28. Gaplovsky, M.; II'ichev, Y. V.; Kamdzhilov, Y.; Kombarova, S. V.; Mac, M.; Schworer, M. A.; Wirz, J. Photochem. Photobiol. Sci. 2005, 4, 33-12.
29. Hasan, A.; Stengele, K. P.; Giegrich, H.; Cornwell, P.; Isham, K. R.; Sachleben, R. A.; Pfleiderer, W.; Foote, R. S. Tetrahedron 1997, 53, 4247-4264.
30. Holmes, C. P. J. Org. Chem. 1997, 62, 2370-2380.
31. Görner, H. Photochem. Photobiol. Sci. 2005, 4, 822-828.
32. Edmondson, S.; Osborne, V. L.; Huck, W. T. S. Chem. Soc. Rev. 2004, 33, 14-22.
33. Monge, S.; Haddleton, D. M. Eur. Polym. J. 2004, 40, 37-15.
34. Monge, S.; Darcos, V.; Haddleton, D. M. J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2004, 42, 6299-6308.
35. Contact angle, wettability and adhesion; Mittal, K. L., Ed.; VSP BV: Utrecht, 1993.
36. Kobayashi, M.; Takahara, A. Chem. Lett. 2005, 34, 1582-1583.
37. Extrand, C. W. Langmuir 2003, 19, 3793-3796.
38. Lopez, G. P.; Biebuyck, H. A.; Frisbie, C. D.; Whitesides, G. M. Science 1993, 260, 647-649.
39. Rosario, R.; Gust, D.; Garcia, A. A.; Hayes, M.; Taraci, J. L.; Clement, T.; Dailey, J. W.; Picraux, S. T. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 12640-12642.
40. Sun, T. L.; Wang, G. J.; Feng, L.; Liu, B. Q.; Ma, Y. M.; Jiang, L.; Zhu, D. B. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 357-360.
41. Badre, C; Mayaffre, A.; Letellier, P.; Turmine, M. Langmuir 2006, 22, 8424-8430.
42. Chen, X. Y.; Randall, D. P.; Perruchot, C; Watts, J. F.; Patten, T. E.; Von Werne, T.; Armes, S. P. J. Colloid Interface Sci. 2003, 257, 56-64.
43. Von Werne, T.; Patten, T. E. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 7409-7410.
44. Peterson, D. S. Lab Chip 2005, 5, 132-139.