Spontaneous formation of vertical magnetic-metal-nanorod arrays during plasma-enhanced atomic layer deposition

Small

Volumn 4, Issue 12, 2008, Pages 2247-2254

  Lee, Han Bo Ram ^a   Gu, Gil Ho ^a   Son, Jong Yeog ^a   Park, Chan Gyung ^a   Kim, Hyungjun ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

Atomic layer deposition; Cobalt; Magnetic materials; Nanorods; Nickel

Indexed keywords

ANISOTROPY; ATOMIC LAYER DEPOSITION; ATOMIC PHYSICS; ATOMS; COBALT; MAGNETIC ANISOTROPY; MAGNETIC MATERIALS; MAGNETIC PROPERTIES; NANORODS; NICKEL; NICKEL ALLOYS; PLASMA DEPOSITION; PLASMAS; QUANTUM INTERFERENCE DEVICES; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; SILICON; SILICON COMPOUNDS; SUPERCONDUCTING MAGNETS; TRANSITION METALS;

ATOMIC LAYERS; FABRICATION METHODS; GROWTH CYCLES; NANOMETER SCALES; NANOROD ARRAYS; NI METALS; ORGANIC PRECURSORS; SHAPE ANISOTROPIES; SI SUBSTRATES; SPONTANEOUS FORMATIONS; SUPERCONDUCTING QUANTUM INTERFERENCE DEVICE MAGNETOMETERS;

PHYSICAL VAPOR DEPOSITION;

METAL NANOPARTICLE; NANOTUBE;

ARTICLE; CHEMISTRY; INSTRUMENTATION; MICROARRAY ANALYSIS; NANOTECHNOLOGY; SURFACE PROPERTY; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

METAL NANOPARTICLES; MICROARRAY ANALYSIS; MICROSCOPY, ELECTRON, TRANSMISSION; NANOTECHNOLOGY; NANOTUBES; SURFACE PROPERTIES;

EID: 57349146594     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.200801074     Document Type: Article

References (34)

1. C. Xu, H. Wang, P. K. Shen, S. P. Jiang, Adv. Mater. 2007, 19, 4256-4259.
2. F. Favier, E. C. Walter, M. P. Zach, T. Benter, R. M. Penner, Science 2001, 293, 2227-2231.
3. J. Wang, N. V. Myung, M. Yun, H. G. Monbouquette J. Electroanal. Chem. 2005, 575, 139-146.
4. A. V. Aklmov, A. Mukherjee, C. L. Yu, D. E. Chang, A. S. Zibrov, P. R. Hemmer, H. Park, M. D. Lukin, Nature 2007, 450, 402-406.
5. A. Dangwal, C. S. Pandey, G. Muller, S. Karim, T. W. Cornelius, C. Trautmann, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 063115.
6. M. Basu, S. Seggerson, J. Henshaw, J. Jiang, R. del A. Cordona, C. Lefave, P. J. Boyle, A. Miller, M. Pugla, S. Basu, Glycoconjugate J. 2004, 21, 487-496.
7. W.-H. Kim, S.-J. Park, J.-Y. Son, H. Kim, Nanotechnology 2008, 19, 045302.
8. S.-S. Yim, M.-S. Lee, K.-S. Kim, K.-B. Kim, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 093115.
9. E. C. Walter, R. M. Penner, H. Liu, K. H. Ng, M. P. Zach, F. Favier, Surf. Interface Anal. 2002, 34, 409-412.
10. N. Li, X. Li, X. Yin, W. Wang, S. Qiu, Solid State Commun. 2004, 132, 841-844.
11. S. Kim, K. L. Shuford, H.-M. Bok, S. K. Kim, S. Park, Nano Lett. 2008, 8, 800-804.
12. S. Yu, U. Welp, L. Z. Hua, A. Rydh, W. K. Kwok, H. H. Wang, Chem. Mater. 2005, 17, 3445-3450.
13. M. Yun, N. V. Myung, R. P. Vasquez, C. Lee, E. Menke, R. M. Penner, Nano Lett. 2004, 4, 419-422.
14. J. Dufourcq, S. Bodnar, G. Gay, D. Lafond, P. Mur, G. Molas, J. P. Nieto, L. Vandroux, L. Jodin, F. Gustavo, T. Baron, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 073102.
15. Y. Hu, J. Xiang, G. Liang, H. Yan, C. M. Lieber, Nano Lett. 2008, 8, 925-930.
16. J. I. Mart, J. Nogu, K. Liu, J. L. Vicent, I. K. Schuller, J. Magn. Magn. Mater. 2003, 256, 449-501.
17. A. Fert, L. Piraux, J. Magn. Magn. Mater. 1999, 200, 338-358.
18. L. Vila, P. Vincent, L. Dauginet-DePra, G. Pirlo, E. Minoux, L. Gangloff, S. Demoustier-Champagne, N. Sarazin, E. Ferain, R. Legras, L. Piraux, P. Legagneux, Nano Lett. 2004, 4, 521-524.
19. R. L. Marson, B. K. Kuanr, S. R. Mishra, R. E. Camley, Z. Celinski, J. Vac. Sci. Technol. B 2007, 25, 2619-2623.
20. M. Daub, M. Knez, U. Goesele, K. Nielsch, J. Appl. Phys. 2007, 101, 091111.
21. F. M. Yang, T. C. Chang, P. T. Liu, P. H. Yeh, Y. C. Yu, J. Y. Lin, S. M. Sze, J. C. Lou, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 132102.
22. F. M. Yang, T. C. Chang, P. T. Liu, U. S. Chen, P. H. Yeh, Y. C. Yu, J. Y. Lin, S. M. Sze, J. C. Lou, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 222104.
23. J. J. Lee, Y. Harada, J. W. Pyun, D.-L Kwong, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 103505.
24. B. Voigtlander, G. Meyer, N. M. Amer, Phys. Rev. B: Condens. Matter 1991, 44, 10354-10357.
25. T. Fujita, Y. Okawa, K.-I. Tanaka, Appl. Surf. Sci. 1998, 130-132, 491-496.
26. J. de la Figuera, M. A. Huerta-Garnica, J. E. Prieto, C. Ocal, R. Miranda, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1006-1008.
27. B. Dick, M. J. Brett, T. J. Smy, M. R. Freeman, M. Malac, R. F. Egerton, J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18, 1838-1844.
28. Y. He, J. Fu, Y. Zhang, Y. Zhao, L. Zhang, A. Xia, J. Cai, Small 2007, 3, 153-160.
29. C. Kim, W. Gu, M. Briceno, I. M. Robertson, H. Choi, K. K. Kim, Adv. Mater. 2008, 20, 1859-1863.
30. H.-B.-R. Lee, H. Kim, Electrochem. Solid-State Lett. 2006, 9, G323-G325.
31. I. K. Han, Y. J. Lee, J. W. Jo, J. I. Lee, K. N. Kang, Appl. Surf. Sci. 1991, 48-49, 104-110.
32. F. Weltzer, J. C. Schuster, J. Solid State Chem. 1987, 70, 178-184.
33. T. M. Whitney, P. C. Searson, J. S. Jiang, C. L. Chien, Science 1993, 261, 1316-1319.
34. J. Zhang, G. A. Jones, T. H. Shen, S. E. Donnelly, G. Li, J. Appl. Phys. 2007, 101, 054310.