Mechanisms leading to alkali oxidation on metal surfaces

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 112, Issue 46, 2008, Pages 17772-17774

  Politano, A ^a   Formoso, V ^a,b   Chiarello, G ^a,c  

^a UNIVERSITY OF CALABRIA   (Italy)

^b Laboratorio Regionale LICRYL (Liquid Crystal Laboratory) INFM CNR

^c Consorzio Nazionale Interuniversitário per le Scienze Fisiche della Materia ^*

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COPPER; OXIDATION;

CO DISSOCIATIONS; COADSORPTION; CU(111); METAL SURFACES; OXIDATION RATES;

CHEMICAL OXYGEN DEMAND;

EID: 57249087405     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp8078277     Document Type: Article

References (27)

1. Kennedy-Smith, J. J.; Nolin, K. A.; Gunterman, H. P.; Toste, F. D. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 4056.
2. Carrella, L. M.; Clegg, W.; Graham, D. V.; Hogg, L. M.; Kennedy, A. R.; Klett, J.; Mulvey, R. E.; Rentschler, E.; Russo, L. Angew. Chem., Int. Ed. 2007, 46, 4662.
3. Garcia-Álvarez, J.; Kennedy, A. R.; Klett, J.; Mulvey, R. E. Angew. Chem., Int. Ed. 2007, 46, 1105.
4. Clegg, W.; Dale, S. H.; Hevia, E.; Hogg, L. M.; Honeyman, G. W.; Mulvey, R. E.; O'Hara, C. T. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 6548.
5. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 2370.
6. Armstrong, D. R.; Clegg, W.; Dale, S. H.; Hevia, E.; Hogg, L. M.; Honeyman, G. W.; Mulvey, R. E. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 3775.
7. Clegg, W.; Dale, S. H.; Harrington, R. W.; Hevia, E.; Honeyman, G. W.; Mulvey, R. E. Angew. Chem., Int. Ed. 2006, 45, 2374.
8. Barley, H. R. L.; Clegg, W.; Dale, S. H.; Hevia, E.; Honeyman, G. W.; Kennedy, A. R.; Mulvey, R. E. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 6018.
9. Physics and Chemistry of Alkali Metal Adsorption; Bonzel, H. P., Bradshaw, A. G., Ertl, G., Eds; Elsevier: Amsterdam, 1989.
10. Kokalj, A.; Gava, P.; De Gironcoli, S.; Baroni, S. J. Catal. 2008, 254, 304.
11. Linic, S.; Barteau, M. A. J. Am. Chem. Soc. 2004, 726, 8086.
12. Wang, Y.; Chu, H.; Zhu, W.; Zhang, Q. Catal. Today 2008, 131, 496.
13. Politano, A.; Agostino, R. G.; Colavita, E.; Formoso, V.; Chiarello, G. Phys. Rev. B 2007, 76, 233403.
14. Politano, A.; Formoso, V.; Chiarello, G. App. Surf. Sci. 2008, 254, 6854.
15. Politano, A.; Agostino, R. G.; Formoso, V.; Chiarello, G. ChemPhysChem 2008, 9, 1189.
16. Liu, Z.-P.; Hu, P. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 12596.
17. Diehl, R. D.; McGrath, R. Surf. Sci. Rep. 1996, 23, 43.
18. Zhang, R.; Makarenko, B.; Barnim, B.; Rabalais, J. W. Phys. Rev. B 2007, 76, 113407.
19. Politano, A.; Agostino, R. G.; Colavita, E.; Formoso, V.; Tenuta, L.; Chiarello, G. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 6977.
20. Politano, A.; Formoso, V.; Chiarello, G. Surf. Sci. 2008, 602, 2096.
21. Savio, L.; Gerbi, A.; Vattuone, L.; Pushpa, R.; Bonini, N.; De Gironcoli, S.; Rocca, M. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 10923.
22. Savio, L.; Vattuone, L.; Rocca, M. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2007, 87, 399.
23. Sueyoshi, T.; Sasaki, T.; Iwasawa, Y. Surf. Sci. 1996, 365, 310.
24. Toomes, R. L.; King, D. A. Surf. Sci. 1996, 349, 19.
25. Zhang, A. H.; Zhu, J.; Duan, W. H. Phys. Rev. B 2006, 74, 045425.
26. Kunat, M.; Boas, Ch.; Becker, Th.; Burghaus, U.; Wöll, Ch. Surf. Sci. 2000, 474, 114.
27. Elliott, J. A. W.; Ward, C A. J. Chem. Phys. 1997, 106, 5667.