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Volumn 66, Issue 6, 1994, Pages 1223-1230

The future of thermal plasma processing for coating

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EID: 56949103642     PISSN: 00334545     EISSN: 13653075     Source Type: Journal    
DOI: 10.1351/pac199466061223     Document Type: Article
Times cited : (41)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.