Electroluminescence of hole block material caused by electron accumulation and hole penetration

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 112, Issue 38, 2008, Pages 15065-15070

  Zhou, Liang ^b   Zhang, Hongjie ^a   Deng, Ruiping ^b   Guo, Zhiyong ^b   Feng, Jing ^b   Li, Zhefeng ^b  

^a CHANGCHUN INSTITUTE OF APPLIED CHEMISTRY   (China)

^b UNIVERSITY OF CHINESE ACADEMY OF SCIENCES   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON ACCUMULATION; MULTI-LAYER DEVICES;

ELECTROMAGNETIC WAVES; EUROPIUM; LIGHT EMISSION; LUMINESCENCE;

ELECTROLUMINESCENCE;

EID: 53849127171     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp805088v     Document Type: Article

References (35)

1. Tang, C. W.; VanSlyke, S. A. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913.
2. Shen, Z.; Burrows, P. E.; Bulovič, V.; Forrest, S. R.; Thompson, M. E. Science 1997, 276, 2009.
3. Schaer, M.; Nüesch, F.; Berner, D.; Leo, W.; Zuppiroli, L. Adv. Funct. Mater. 2001, 11, 116.
4. Guo, F.; Ma, D. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 173510.
5. Feng, J.; Okamoto, T.; Kawata, S. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 241109.
6. Manna, U.; Kim, H. M.; Gowtham, M.; Yi, J.; Sohn, S.; Jung, D. Thin Solid Films 2006, 495, 380.
7. Nüesch, F.; Berner, D.; Tutiš, E.; Schaer, M.; Ma, C.; Wang, X.; Zhang, B.; Zuppiroli, L. Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 323.
8. Xie, H. Z.; Liu, M. W.; Wang, O. Y.; Zhang, X. H.; Lee, C. S.; Hung, L. S.; Lee, S. T.; Teng, P. F.; Kwong, H. L.; Zheng, H.; Che, C. M. Adv. Mater. 2001, 13, 1245.
9. Heithecker, D.; Kammoun, A.; Dobbertin, T.; Riedl, T.; Becker, E.; Metzdorf, D.; Schneider, D.; Johannes, H.-H.; Kowalsky, W. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 4178.
10. Qiu, Y.; Gao, Y.; Wang, L.; Wei, P.; Duan, L.; Zhang, D.; Dong, G. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3540.
11. Wang, S. D.; Fung, M. K.; Lai, S. L.; Tong, S. W.; Lee, C. S.; Lee, S. T.; Zhang, H. J.; Bao, S. N. J. Appl. Phys. 2003, 94, 169.
12. Lee, M.T.; Liao, C.-H.; Tsai, C.-H.; Chen, C.H. Adv. Mater. 2005, 17, 2493.
13. Baldo, M. A.; Forrest, S. R. Phys. Rev. B 2000, 62, 10958.
14. Baldo, M. A.; Adachi, C.; Forrest, S. R. Phys. Rev. B 2000, 62, 10967.
15. Adachi, C.; Baldo, M. A.; Forrest, S. R.; Lamansky, S.; Thompson, M. E.; Kwong, R. C. Appl Phys. Lett. 2001, 78, 1622.
16. Baldo, M. A.; Lamansky, S.; Burrows, P. E.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 4.
17. Kido, J.; Hayase, H.; Hongawa, K.; Nagai, K.; Okuyama, K. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2124.
18. Kido, J.; Okamot, Y. Chem Rev. 2002, 102, 2357.
19. Sun, P. P.; Duan, J. P.; Lih, J. J.; Cheng, C. H. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 683.
20. McGehee, M. D.; Bergstedt, T.; Zhang, C.; Saab, A. P.; O'Regan, M. B.; Bazan, G. C.; Srdanov, V. I.; Heeger, A. J. Adv. Mater. 1999, 11, 1349.
21. Robinson, M. R.; Ostrowski, J. C.; Bazan, G. C.; McGehee, M. D. Adv. Mater. 2003, 15, 1547.
22. Yu, J.; Zhou, L.; Zhang, H.; Zheng, Y.; Li, H.; Deng, R.; Peng, Z.; Li, Z. Inorg. Chem 2005, 44, 1611.
23. Fang, J.; You, H.; Gao, J.; Ma, D. Chem. Phys. Lett. 2004, 392, 11.
24. Adachi, C.; Baldo, M. A.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2000, 87, 8049.
25. Hu, W.; Matsumura, M.; Wang, M.; Jin, L. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 4271.
26. Tsutsui, T.; Takada, N.; Ogino, S.; Saito, E. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 1868.
27. Zhou, L.; Zhang, H. J.; Deng, R. P.; Li, Z. F.; Yu, J. B.; Guo, Z. Y. J. Appl. Phys. 2007, 102, 064504.
28. Zhou, L.; Zhang, H. J.; Shi, W. D.; Deng, R. P.; Li, Z. F.; Yu, J. B.; Guo, Z. Y. J. Appl. Phys. Submitted for publication.
29. Zhou, L.; Zhang, H. J.; Meng, Q. G; Liu, F. Y.; Yu, J. B.; Deng, R. P.; Peng, Z. P.; Li, Z. F.; Guo, Z. Y. J. Lumin. 2007, 126, 644.
30. Tang, H.; Liao, H.; Zhu, L. Chem. Phys. Lett. 2003, 381, 605.
31. Uchida, M.; Adachi, C.; Koyama, T.; Taniguchi, Y. J. Appl. Phys. 1999, 86, 1680.
32. Parker, I. D. J. Appl. Phys. 1993, 75, 1656.
33. Chen, B.; Liu, S. Synth. Met. 1997, 91, 169.
34. Hao, J.; Deng, Z.; Yang, S. Displays 2006, 27, 108.
35. Kalinowski, J.; Paulis, L. C.; Kim, W. H.; Kafafi, Z. H. J. Appl. Phys. 2003, 94, 7764.