Electrodeposition of CuInSe2 and In2Se3 on flat and nanoporous TiO2 substrates

Electrochimica Acta

Volumn 54, Issue 2, 2008, Pages 524-529

  Valdes M ^a,b   Vazquez M ^a   Goossens, A ^b  

^a Instituto de Investigaciones en Ciencia y Tecnologia de Materiales   (Argentina)

^b DELFT UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

Buffer layer; CuInSe2; Electrodeposition; Heterojunction; TiO2

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BUFFER LAYER; CUINSE2; ELECTRODEPOSITION; HETEROJUNCTION; TIO2;

COPPER COMPOUNDS;

EID: 53649098890     PISSN: 00134686     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.electacta.2008.07.036     Document Type: Article

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